<
>
Compacte hoogprecise elektronenstraal verdamping coating machine voor veelzijdige optische coating toepassingen
Compacte hoogprecise elektronenstraal verdamping coating machine voor veelzijdige optische coating toepassingen
Plaats van herkomst:Zhaoqing, Guangdong
Merknaam:Zhongda
Certificering:CE
Minimale bestelhoeveelheid:1
Levertijd:45-60 Werkdagen
Productdetails
Markeren:
kleine elektronenbundelverdampingsmachine
,optische coating PVD-apparatuur
,electronenbundel coatingmachine
Control System:
Full Auto, Semi Auto, Handmatig
Coating Process:
Vacuümverdamping
Rotation Stand:
2 sets
Server:
openheid
Dimensions:
Ongeveer. 2000 mm x 1500 mm x 1800 mm
Cooling Method:
Waterkoeling
Coating Transparency:
Hoog
Coating Thickness:
Verstelbaar
Chamber Material:
Roestvrij staal of koolstofstaal
Pumptype:
Draaischuifpomp + diffusiepomp
Voltage:
380V, 50Hz of op maat gemaakt
Coating Technology:
Verdamping
Coating Temperature:
Verstelbaar
Evaporation Power Supply:
1 set
Rotation System:
2 sets
Productbeschrijving
Gedetailleerde specificaties en kenmerken
Kleine elektronenstraal verdamping coating machines
Kerntechnische specificaties
| Parametercategorie | Detail |
|---|---|
| Substraatcapaciteit | Maximale grootte: maximaal 6 inch (150 mm); compatibel met 2"/4"/6" wafers/optische componenten; minimale grootte: 10×10 mm |
| Vacuümprestaties | Ultieme vacuüm: ≤ 1×10−6 Torr (1,3×10−4 Pa); pomptijd: minuten tot 5×10−6 Torr; lekkagesnelheid: 10−3 Pa*L/s (lekketest) |
| Verdampingssysteem | Elektronenstraalvermogen: 250W-10kW; Aantal smeltkroesjes/zakken: 4-8; Steunstaaf (max φ4mm) & smeltkroes (1-15cc) grondstof |
| Procescontrole | Temperatuur van het substraat: RT-500°C (nauwkeurigheid ±1°C); rotatiesnelheid: 2-20 t/min; filmdikte monitor: QCM (0,01 nm/s resolutie) |
| Filmkwaliteit | Uniformiteit: ±1%-±3%; hechting: voldoet aan ASTM D3359 4B-norm; afzetsnelheid: 0,1-10 nm/s |
| Verenigbaarheid | Materialen: Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2 (ondersteunt AR/AF/reflecterende films) |
| Fysieke afmetingen | Voetafdruk: 1-3 × 3,0 m; Hoogte: 2,5 - 3,5 m; Gewicht: < 800 kg (desktop-/tafeltopmodellen) |
| Stroomvoorziening | Een-/driefasig: 220V/380V, 50/60Hz; stroomverbruik: 1,2 kW-10 kW |
Belangrijkste voordelen
Compact en ruimtebesparend ontwerp
- Desktop/module structuur met Korvus HEX-800-standaard, ideaal voor laboratorium/onderzoeksomgevingen
- Eenvoudige integratie met handschoenen voor processen in een inerte atmosfeer
- Lichte constructie en vervanging van gereedschapsvrije modules verminderen installatie- en onderhoudskosten
Hoge precisie en betrouwbare coating
- Elektronenstraalfocustechnologie maakt afzetting van vuurvaste metalen (Pt, W) en dielectrische materialen mogelijk
- 0.01nm/s diktecontrole met filmuniformiteit ±1% (industrieleidend voor kleinschalige apparatuur)
- Hall-ionbron + Ar-plasma-pre-reiniging verbetert de filmslijm (4B-klasse) en dichtheid
- Voldoet aan de prestatie-eisen van optische componenten (bijv. AR-films met een doorlaatbaarheid van > 95%)
Veelzijdige en flexibele aanpassing van het proces
- Ondersteunt 4-8 kogels/zakken voor co-verdamping met meerdere materialen
- Snel wisselen tussen metaal-, oxide- en organische folies (AF/AR/reflecterende/beschermende coatings)
- met een breedte van niet meer dan 50 mm
- Aanpasbare armaturen (koepel/knudzin/plaat) voor 2D/3D-componenten
Intelligente en gebruiksvriendelijke werking
- PLC + touchscreen besturingssysteem met realtime procesbewaking
- Vooraf geprogrammeerde procesbibliotheken voor snelle installatie
- Energiezuinige cryopomp/magnetische moleculaire suspensiepomp ontwerpen vermindert het stroomverbruik met 30% ten opzichte van traditionele systemen
Kosteneffectief voor O&O en kleine productie
- Lage initiële investering met een hoog doelgebruik (>70%) en minimaal materiaalverspilling
- Geschikt voor het maken van prototypes en voor de productie van kleine partijen (tot 10.000 stuks per jaar)
- Multifunctionele integratie (e-beam verdamping + sputtering optie) maakt het niet nodig om meerdere apparaten te gebruiken
Kernfuncties
Precieze verwarming en verdamping
- Hoogenergetische elektronenstralen bombarderen het oppervlak van het doelmateriaal en verwarmen het tot gesmolten of verdampte toestand
- Geconcentreerde energie en een hoog thermisch rendement maken het mogelijk vuurvaste materialen (wolfram, molybdeen, titanium, SiO2, TiO2) te verdampen
- Vermijdt verontreiniging van het doelmateriaal door verwarmingsbron
- Ondersteunt het schakelen van meerdere doelmaterialen (2-6 smeltplaatsen) voor continue afzetting van eenlaagse en meerlaagse films
Precieze controle van de filmdikte
- Ingebouwde kwartskristalfolie-dikte-monitor voor real-time opslag- en diktebewaking
- Beheersnauwkeurigheid tot het nanometerniveau (± 0,1 nm) voor ultradunne functionele folies
- Programmeerbaar besturingssysteem met vooraf ingestelde afzetsparameters (elektronenstraalvermogen, vacuümgraad, afzetsnelheid)
- Automatische coating zorgt voor de consistentie van de filmlaag van de partij
Garantie voor een hoge vacuümomgeving
- Mechanische pomp + moleculaire pomp vacuüm eenheid vermindert de holte tot 10−4~10−6 Pa hoge vacuüm omgeving
- Vermindert het verspreiden van gasmoleculen en de besmetting van verdampte deeltjes
- Zorgt ervoor dat filmlagen een hoge zuiverheid, een goede dichtheid en een sterke hechting hebben
Aanpassing van kleine werkstukken
- speciaal ontworpen voor kleine werkstukken met draaiende werkstuktafel
- Verbetert de uniformiteit van de coatingschaal over de substraten heen
- Geschikt voor substraten van millimeter tot tientallen millimeter (wafers, optische lenzen, chips, sensorcomponenten)
- Ondersteunt coating van oppervlaktebevestiging, plaat en kleine onderdelen
Bericht voor snelle reactie
Gerelateerde producten