Aanpasbare high-precision anti-reflectie film (AR-film) dedicated electronenbundel coatingmachine

• Vacuümsysteem: Combinatie van moleculaire pomp + Roots-pomp + mechanische pomp, vacuümmeetinstrument, vacuümkamer.
• Elektronengunsysteem: kathode (tantaliumdraad/wolfraamdraad), anode, focusserende spoel, afbuigspoel, elektronenbundelscanner.
• Verdampingssysteem voor membraanmateriaal: kroes, toevoermechanisme voor membraanmateriaal, anti-sputter afschermkap.
• Werkstukrek en transmissiesysteem: Planetaire werkstukrek (zelfrotatie + revolutie), verwarmingstoestel (infrarood/weerstandsverwarming).
• Filmdiktebewakingssysteem: kwartskristaloscillatiemonitor (QCM), optische interferentiemonitor.
• Controlesysteem: PLC-aanraakscherm, bovenliggende computersoftware, veiligheidsvergrendelingsapparaat.

Vacuümvoorbereidingsfase: Sluit de vacuümkamerdeur, start het vacuümsysteem om te evacueren tot het ultieme vacuüm (≤5×10⁻⁵ Pa), en verwarm tegelijkertijd het substraat tot de vooraf ingestelde temperatuur (zoals 150℃ voor glazen substraat en 80℃ voor harsubstraat) via het werkstukrekverwarmingstoestel om de waterdamp en onzuiverheden die op het substraatoppervlak zijn geadsorbeerd te verwijderen en de hechting van de filmlaag te verbeteren.

Verdampingsfase van membraanmateriaal: De elektronenkanon wordt geactiveerd door PLC. De kathode wordt verwarmd om thermische elektronen te genereren, die vervolgens worden versneld bij de anode (versnellingsspanning 10-30kV) en gefocust door de focusserende spoel om een hoogenergetische elektronenbundel te vormen die het AR-membraanmateriaal (zoals de eerste laag SiO₂) in de kroes bombardeert. De kinetische energie van de elektronenbundel wordt omgezet in thermische energie, waardoor het membraanmateriaal de verdampingstemperatuur bereikt (ongeveer 1700℃ voor SiO₂ en ongeveer 2200℃ voor TiO₂), en vervolgens verdampt in gasvormige deeltjes.

Filmafzetfase: Gasvormige filmmateriaaldeeltjes diffunderen naar het substraat in een vacuümomgeving, adsorberen, migreren en condenseren op het substraatoppervlak, waardoor een continue film ontstaat. Het werkstukrek zorgt ervoor dat gasvormige deeltjes het basisoppervlak gelijkmatig bedekken door zelfrotatie en revolutie, waardoor lokale dikteafwijkingen worden vermeden.

Laatste fase van coating: Nadat alle filmlagen zijn afgezet, handhaaf dan een vacuümomgeving om 30 tot 60 minuten af te koelen (om interne spanning in de filmlagen als gevolg van overmatige temperatuurverschillen te voorkomen), laat dan langzaam het gas vrij tot normale druk en verwijder het werkstuk. Gedurende het hele proces geeft het filmdiktebewakingssysteem real-time feedback over gegevens en past dynamisch het elektronenbundelvermogen en de verdampingssnelheid aan om ervoor te zorgen dat de brekingsindex en dikte van elke filmlaag voldoen aan de AR-filmontwerpeisen (zoals het bereiken van een reflectie van ≤0,5% in de 400-700nm zichtbare lichtband).

• De filmlaag heeft een hoge precisie en voldoet aan de kernvereisten van AR-films: filmdikte-uniformiteit ≤±2%, en brekingsindexregelingsnauwkeurigheid ±0,005. Ondersteunt filmschalenregeling op nanoschaal (minimale afzettingsdikte 0,1 nm).
• Het membraanmateriaal heeft een sterke compatibiliteit en omvat de gangbare materialen van AR-films: Het kan de veelgebruikte membraanmaterialen van AR-films stabiel verdampen en de afwisselende afzetting van verschillende membraanmaterialen ondersteunen, wat voldoet aan de ontwerpeisen van meerlaagse composiet AR-films.
• Hoge mate van automatisering, geschikt voor massaproductiescenario's: Volledig proces PLC-besturing, ondersteuning van formuleopslag en snelle omschakeling, de productie-efficiëntie wordt met meer dan 30% verhoogd in vergelijking met algemene coatingmachines.
• De vacuümomgeving is schoon en de filmlaagkwaliteit is stabiel: de ultieme vacuümgraad is hoog (≤5×10⁻⁵ Pa), en het restgasgehalte is laag, wat de bellen en onzuiverheden in de filmlaag kan verminderen. De lichtdoorlatendheidsstabiliteit van de AR-film (in de omgeving van -40℃ tot 85℃) wordt met 20% verhoogd en de waas is ≤0,1%.
• Het heeft een brede substraatadaptatie en voldoet aan de behoeften van meerdere scenario's: Het ondersteunt de bereiding van AR-films op verschillende substraten zoals glas, hars, saffier en metaal. Door de verwarmingstemperatuur en verdampingssnelheid aan te passen, kan een sterke hechting tussen de filmlaag en het substraat worden bereikt.

• Het heeft het probleem van stabiele verdamping van AR-membraanmaterialen met een hoog smeltpunt (zoals TiO₂ en ZrO₂) opgelost en is de voorkeursvoorbereidingsapparatuur voor meerlaagse breedband AR-membranen.
• De precisie en stabiliteit van de filmlaag overtreffen die van weerstandsverwarmingscoatingmachines, en voldoen aan de AR-filmvereisten van hoogwaardige optische producten zoals cameralenzen en laserlenzen.
• De massaproductie-efficiëntie en kostenbeheersing zijn superieur aan die van magnetronsputtercoatingmachines, waardoor het geschikt is voor grootschalige toepassingsscenario's zoals consumentenelektronica, fotovoltaïek en auto's.

1. Consumentenelektronica (de grootste toepassingsmarkt)
   Mobiele telefoon/tablet/computerscherm; Cameralens/mobiele telefoonlens; Smartwatch/VR-apparaatlenzen.
2. Veld van optische instrumenten
   Microscoop/telescooplenzen; Laserapparatuur lenzen (zoals CO₂ laserlenzen, fiber laserlenzen).
3. Fotovoltaïsch energieveld
   Fotovoltaïsch glas; Geconcentreerd Zonnestelsel (CSP)
4. Automotive en ruimtevaart
   Autoruiten/ramen; Vliegtuigraam/luchtvaartspiegel.
5. Andere speciale velden
   Medische optische apparatuur (zoals endoscopische lenzen, chirurgische microscopen); Schermen (zoals OLED, Mini LED).