Fase di preparazione del vuoto:Chiudere la porta della camera di vuoto, avviare il sistema di vuoto per evacuare fino al vuoto massimo (≤ 5×10−5 Pa) e, allo stesso tempo, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.
Fase di evaporazione del materiale della membrana:La pistola elettronica e' attivata da un PLC, il catodo e' riscaldato per generare elettroni termici. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleL'energia cinetica del fascio di elettroni viene convertita in energia termica, facendo sì che il materiale della membrana raggiunga la temperatura di evaporazione (circa 1700°C per il SiO2 e circa 2200°C per il TiO2),e poi evaporano in particelle gassose.
Fase di deposizione del film:Le particelle di materiale a film gassoso si diffondono verso il substrato in un ambiente vuoto, si adsorbono, migrano e si condensano sulla superficie del substrato, formando un film continuo.Il rack del pezzo di lavoro assicura che le particelle gassose coprano uniformemente la superficie di base attraverso auto-rotazione e rivoluzione, evitando deviazioni locali di spessore.
Fase finale del rivestimento:Dopo che tutti gli strati di pellicola sono stati depositati, mantenere un ambiente vuoto per raffreddare per 30 a 60 minuti (per evitare lo stress interno negli strati di pellicola a causa di eccessive differenze di temperatura),poi rilasciare lentamente il gas alla pressione normale e rimuovere il pezzo di lavoroDurante l'intero processo, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% nella banda di luce visibile da 400 a 700 nm).
Contattaci in qualsiasi momento