Anpassbare hochpräzise Antireflexionsfolien- (AR-Folie) dedizierte Elektronenstrahl-Beschichtungsmaschine

• Vakuumsystem: Molekulare Pumpe + Wurzelpumpe + mechanische Pumpenkombination, Vakuummessgerät, Vakuumkammer.
• Elektronenpistolsystem:Katode (Tantaldraht/Wolframdraht), Anode, Fokussierungsspule, Ablenkungsspule, Elektronenstrahlscanner.
• Abgusssystem für Membranmaterialien:Schmelztiegel, Membran-Material-Zuführungsmechanismus, Schutzschutz gegen Spritzen.
• Werkstückträger und Getriebesystem:Planetenarbeitsstückträger (Selbstdrehung + Umdrehung), Heizvorrichtung (Infrarot-/Widerstandsheizung).
• Überwachungssystem für die Filmdicke:Quarzkristall-Oszillationsmonitor (QCM), optischer Interferenzmonitor.
• CKontrollsystem:PLC-Touchscreen, oberste Computersoftware, Sicherheitsschließvorrichtung.

Stufe der Vakuumvorbereitung:Schließen Sie die Vakuumkammertür, starten Sie das Vakuumsystem, um bis zum höchsten Vakuum (≤ 5×10−5 Pa) zu evakuieren, und gleichzeitig heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

Evaporationsstadium des Membranmaterials:Die Elektronenpistole wird durch PLC aktiviert, die Kathode wird erhitzt, um thermische Elektronen zu erzeugen. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleDie kinetische Energie des Elektronenstrahls wird in thermische Energie umgewandelt, wodurch das Membranmaterial die Verdunstungstemperatur erreicht (ca. 1700°C für SiO2 und ca. 2200°C für TiO2),und dann in gasförmige Partikel verdunsten.

Stufe der Filmdeposition:Die Partikel des gasförmigen Filmmaterials diffundieren im Vakuum auf das Substrat zu, adsorbieren, wandern und kondensieren auf der Substratoberfläche und bilden so einen durchgehenden Film.Das Werkstück-Rack sorgt dafür, dass gasförmige Partikel durch Selbstrotation und Umdrehung die Basisoberfläche gleichmäßig bedecken, wobei lokale Dickeabweichungen vermieden werden.

Endstadium der Beschichtung:Nachdem alle Filmschichten abgelegt wurden, wird eine Vakuumumumgebung für 30 bis 60 Minuten zum Abkühlen gehalten (um interne Belastungen in den Filmschichten aufgrund übermäßiger Temperaturunterschiede zu vermeiden).dann das Gas langsam auf den Normaldruck freisetzen und das Werkstück entfernenWährend des gesamten Prozesses, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% im sichtbaren Lichtband von 400-700 nm).

• Die Filmschicht ist hochpräzise und erfüllt die Kernanforderungen an AR-Filme:Einheitlichkeit der Filmdicke ≤±2% und Genauigkeit der Brechungsindexkontrolle ±0.005. Unterstützt die Regulierung der Filmdicke im Nanobereich (Mindestdepositionstärke 0,1 nm).
• Das Membranmaterial hat eine starke Kompatibilität und deckt die üblichen Materialien von AR-Filmen ab:Es kann die häufig verwendeten Membranmaterialien von AR-Filmen stabil verdampfen und die abwechselnde Ablagerung verschiedener Membranmaterialien unterstützen,die die Konstruktionsanforderungen an mehrschichtige AR-Verbundfolien erfüllen.
• hoher Automatisierungsgrad, geeignet für Massenproduktionsszenarien:Vollprozess-PLC-Steuerung, Unterstützung der Formel-Speicherung und schnelle Umschaltung, Produktionseffizienz um mehr als 30% im Vergleich zu allgemeinen Beschichtungsmaschinen erhöht.
• Die Vakuumumumgebung ist sauber und die Filmschichtqualität stabil:Der ultimative Vakuumgrad ist hoch (≤5×10−5 Pa) und der Restgasgehalt gering, wodurch die Blasen und Verunreinigungen in der Filmschicht reduziert werden können.Die Lichtdurchlässigkeitsstabilität des AR-Films (im Umfeld von -40°C bis 85°C) wird um 20% erhöht, und der Nebel beträgt ≤ 0,1%.
• Es bietet eine große Anpassungsfähigkeit an das Substrat und erfüllt die Anforderungen mehrerer Szenarien:Es unterstützt die Vorbereitung von AR-Filmen auf verschiedenen Substraten wie Glas, Harz, Saphir und Metall.eine starke Haftung zwischen der Filmschicht und dem Substrat erreicht werden kann.

• Es hat das Problem der stabilen Verdunstung von AR-Membranmaterialien mit hohem Schmelzpunkt (wie TiO2 und ZrO2) gelöst und ist die bevorzugte Vorbereitungsausrüstung für mehrschichtige Breitband-AR-Membranen.
• Die Präzision und Stabilität der Filmschicht übersteigen bei weitem die der Widerstandsbelagungsmaschinen.die Anforderungen an AR-Filme von High-End-optischen Produkten wie Kameraobjektiven und Laserobjektiven erfüllen.
• Die Effizienz der Massenproduktion und die Kostenkontrolle übertreffen die der Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschinen, so dass sie für groß angelegte Anwendungsfälle wie Verbraucherelektronik,Photovoltaik, und Autos.

1. Verbraucherelektronik (größter Anwendungsmarkt)
   Bildschirm eines Mobiltelefons/Tablets/Computers; Kameraobjektiv/Handyobjektiv; Smartwatch/VR-Geräteobjektive.
2. Bereich der optischen Instrumente
   Mikroskop-/Teleskoplinsen; Linsen für Lasergeräte (z. B. CO2-Laserlinsen, Faserlaserlinsen).
3. Photovoltaikfeld
   Photovoltaikglas; konzentriertes Sonnensystem (CSP)
4. Automobil- und Luftfahrtindustrie
   Fahrzeugwindschutzscheiben/Fenster; Flugzeugfenster/Luftfahrtspiegel.
5. Sonstige Sonderfelder
   Medizinische optische Ausrüstung (wie endoskopische Linsen, chirurgische Mikroskope); Anzeigeteile (wie OLED, Mini-LED).