Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Máquina de recubrimiento de haz de electrones con película antirreflejo de alta precisión personalizable (filme AR)
  • Máquina de recubrimiento de haz de electrones con película antirreflejo de alta precisión personalizable (filme AR)

Máquina de recubrimiento de haz de electrones con película antirreflejo de alta precisión personalizable (filme AR)

Lugar de origen Guangdong
Nombre de la marca Lion King
Certificación CE
Detalles del producto
Uniformidad de recubrimiento:
≤ ± 5%
Velocidad de recubrimiento:
Alto
Tamaño de recubrimiento:
Personalizable
Fuente de alimentación:
AC 220V/380V, 50/60Hz
Nivel de vacío:
Altos vacío
Transparencia de recubrimiento:
Alto
Fuente de alimentación de recubrimiento:
DC/RF/AC
Sistema de evaporación:
2 conjuntos
Sistema de monitoreo de recubrimiento:
En tiempo real
Fuente de energía:
AC 220V/380V, 50/60Hz
Fuente de alimentación de evaporación:
1 juego
Material de cámara:
Acero inoxidable o acero al carbono
Adhesión de recubrimiento:
Alto
Operation Way:
pantalla táctil
Sistema de capa:
Monocámara o multicámara
Tamaño de la cámara de recubrimiento:
Personalizado
Modo de operación de pantalla táctil:
Manual/automático
Tasa de deposición de recubrimiento:
Ajustable
Período de garantía:
1 año
Resaltar: 

película AR de alta precisión personalizable

,

máquina de recubrimiento de haz de electrones

,

máquina de revestimiento por película antirreflejo

Términos de pago y envío
Cantidad de orden mínima
1
Tiempo de entrega
45-60 días de trabajo
Descripción del Producto
I. Estructura del núcleo
  • Sistema de vacío: bomba molecular + bomba de raíces + combinación de bomba mecánica, instrumento de medición del vacío, cámara de vacío.
  • Sistema de armas electrónicas:Cátodo (hielo de tántalo/hielo de tungsteno), ánodo, bobina de enfoque, bobina de desviación, escáner de haz de electrones.
  • Sistema de evaporación del material por membrana:Mecanismo de alimentación de material de crisol, membrana, cubierta de blindaje anti-espuma.
  • Sistema de transmisión y bastidor de piezas de trabajo:Estacionamiento planetario de piezas de trabajo (auto-rotación + revolución), dispositivo de calefacción (calentamiento infrarrojo/resistencia).
  • Sistema de control del grosor de la película:Monitoreo de oscilación de cristal de cuarzo (QCM), monitor de interferencia óptica.
  • C. Lasel sistema de control:PLC con pantalla táctil, software superior de la computadora, dispositivo de bloqueo de seguridad.
II. Principio de trabajo

Etapa de preparación del vacío:Cierre la puerta de la cámara de vacío, inicie el sistema de vacío para evacuar hasta el vacío máximo (≤ 5 × 10−5 Pa) y, al mismo tiempo, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

Estadio de evaporación del material de la membrana:La pistola de electrones es activada por un PLC, el cátodo se calienta para generar electrones térmicos. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleLa energía cinética del haz de electrones se convierte en energía térmica, haciendo que el material de la membrana alcance la temperatura de evaporación (aproximadamente 1700 °C para SiO2 y aproximadamente 2200 °C para TiO2),y luego se evaporan en partículas gaseosas.

Etapa de deposición de la película:Las partículas de material de película gaseosa se difunden hacia el sustrato en un ambiente de vacío, se adsorben, migran y condensan en la superficie del sustrato, formando una película continua.El bastidor de la pieza de trabajo asegura que las partículas gaseosas cubren uniformemente la superficie de la base a través de la auto-rotación y la revolución, evitando las desviaciones de espesor locales.

Etapa final del recubrimiento:Después de que se hayan depositado todas las capas de película, mantener un ambiente de vacío para enfriar durante 30 a 60 minutos (para evitar la tensión interna en las capas de película debido a las diferencias de temperatura excesivas),Luego suelte lentamente el gas a la presión normal y retire la pieza de trabajoDurante todo el proceso, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% en la banda de luz visible de 400-700 nm).

III. Características básicas (Ventajas especializadas para la preparación de películas AR)
  • La capa de película tiene una alta precisión y cumple con los requisitos básicos de las películas AR:uniformidad del grosor de la película ≤ ± 2% y precisión de control del índice de refracción ± 0.005Apoya la regulación del grosor de la película a nanoescala (groso mínimo de deposición 0,1 nm).
  • El material de membrana tiene una fuerte compatibilidad y cubre los materiales principales de las películas AR:Puede evaporar de manera estable los materiales de membrana comúnmente utilizados de las películas AR y apoyar la deposición alternada de diferentes materiales de membrana,que cumplen los requisitos de diseño de películas AR compuestas de múltiples capas.
  • Alto grado de automatización, adecuado para escenarios de producción en masa:Control PLC de proceso completo, soporte de almacenamiento de fórmula y conmutación rápida, la eficiencia de producción se incrementa en más del 30% en comparación con las máquinas de recubrimiento general.
  • El ambiente al vacío está limpio y la calidad de la capa de película es estable:el grado de vacío final es alto (≤5 × 10−5 Pa) y el contenido de gas residual es bajo, lo que puede reducir las burbujas e impurezas en la capa de película.La estabilidad de la transmisión de luz de la película AR (en el ambiente de -40°C a 85°C) aumenta en un 20%, y la neblina es ≤ 0,1%.
  • Tiene una amplia adaptabilidad al sustrato y satisface las necesidades de múltiples escenarios:Apoya la preparación de películas AR en diferentes sustratos como vidrio, resina, zafiro y metal.se puede lograr una fuerte adhesión entre la capa de película y el sustrato.
IV. Resumen de las principales ventajas
  • Ha resuelto el problema de la evaporación estable de materiales de membrana AR de alto punto de fusión (como TiO2 y ZrO2), y es el equipo de preparación preferido para membranas AR de banda ancha multicapa.
  • La precisión y la estabilidad de la capa de película superan con creces las de las máquinas de recubrimiento por calentamiento por resistencia.satisfacer los requisitos de película AR de productos ópticos de gama alta, como las lentes de cámara y las lentes láser.
  • La eficiencia de producción en masa y el control de costos son superiores a los de las máquinas de recubrimiento por pulverización de magnetrones, por lo que son adecuadas para escenarios de aplicación a gran escala como la electrónica de consumo,energía fotovoltaica, y automóviles.
V. Escenarios típicos de aplicación
  1. El sector de la electrónica de consumo (el mayor mercado de aplicaciones)
    Pantalla de pantalla de teléfono móvil/tablet/ordenador; lente de cámara/lente de teléfono móvil; lentes de dispositivo Smartwatch/VR.
  2. El campo de los instrumentos ópticos
    Lentes de microscopio/telescopio; lentes de equipo láser (como lentes láser de CO2, lentes láser de fibra).
  3. Campo de energía fotovoltaica
    Vidrio fotovoltaico; Sistema Solar Concentrado (CSP)
  4. Áreas de la automoción y la aviación
    Ventanas de los automóviles/ventanas; ventanas de los aviones/espejos de la aviación.
  5. Otros campos especiales
    Equipo óptico médico (como lentes endoscópicas, microscopios quirúrgicos); paneles de visualización (como OLED, Mini LED).

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