Etapa de preparación del vacío:Cierre la puerta de la cámara de vacío, inicie el sistema de vacío para evacuar hasta el vacío máximo (≤ 5 × 10−5 Pa) y, al mismo tiempo, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.
Estadio de evaporación del material de la membrana:La pistola de electrones es activada por un PLC, el cátodo se calienta para generar electrones térmicos. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleLa energía cinética del haz de electrones se convierte en energía térmica, haciendo que el material de la membrana alcance la temperatura de evaporación (aproximadamente 1700 °C para SiO2 y aproximadamente 2200 °C para TiO2),y luego se evaporan en partículas gaseosas.
Etapa de deposición de la película:Las partículas de material de película gaseosa se difunden hacia el sustrato en un ambiente de vacío, se adsorben, migran y condensan en la superficie del sustrato, formando una película continua.El bastidor de la pieza de trabajo asegura que las partículas gaseosas cubren uniformemente la superficie de la base a través de la auto-rotación y la revolución, evitando las desviaciones de espesor locales.
Etapa final del recubrimiento:Después de que se hayan depositado todas las capas de película, mantener un ambiente de vacío para enfriar durante 30 a 60 minutos (para evitar la tensión interna en las capas de película debido a las diferencias de temperatura excesivas),Luego suelte lentamente el gas a la presión normal y retire la pieza de trabajoDurante todo el proceso, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% en la banda de luz visible de 400-700 nm).
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