Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones de alta precisión

Máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones de alta precisión
Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo
Detalles del producto
Resaltar:

máquina de recubrimiento de haz de electrones de alta precisión

,

Equipo de revestimiento PVD para óptica

,

Sistema de recubrimiento por evaporación de haz de electrones

Evaporation System: Rayo de electrones
Coating Deposition Rate: Ajustable
Chamber Materia: acero inoxidable 304
Coating Efficiency: Alto
Coating Monitoring System: En tiempo real
Coating Hardness: ≥HV800
Coating Uniformity: ≤ ± 5%
Coating Adhesion: Alto
Power Supply: Fuente de alimentación de alta tensión DC
Type: Equipo de recubrimiento con pistola de electrones
Coating Environment: No hay polvo
Coating Temperature: Ajustable
Coating Control System: SOCIEDAD ANÓNIMA
Type: Equipo de recubrimiento por haz de electrones
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
I. Estructura básica
  1. Sistema de vacío (Garantía básica para el recubrimiento) Cámara de vacío Conjunto de bomba de vacío Medición y control de vacío.
  2. Sistema de cañón de electrones (Núcleo de suministro de energía) Fuente de emisión de electrones Dispositivo de enfoque y deflexión Módulo de control de potencia.
  3. Sistema de deposición por evaporación (Clave para la formación de la película) Conjunto de crisol; Dispositivo de fijación del material objetivo Sensor central de control y monitorización del espesor de la película.
  4. Sistema de control (Automatización y garantía de precisión) Unidad de control principal Módulo de control de bucle cerrado Sistema de protección de seguridad.
  5. Sistema de tratamiento de sustratos (Mejora de la adhesión de la película) Mecanismo de soporte y rotación del sustrato; Dispositivo de calentamiento del sustrato Módulo de pretratamiento por bombardeo iónico (opcional).
  6. Sistema auxiliar Sistema de refrigeración; Sistema de control de gases.
II. Principio de funcionamiento

El principio fundamental de la máquina de recubrimiento por evaporación por haz de electrones de alta precisión es el proceso físico de "convertir la energía del haz de electrones en la energía térmica del material objetivo para lograr la evaporación del material - transferencia en fase gaseosa - deposición del sustrato".

III. Ventajas principales
  1. La precisión del recubrimiento es extremadamente alta y la calidad de la capa de película es excelente
  2. Tiene una amplia gama de materiales aplicables

    Una variedad de materiales como metales evaporables (Au, Ag, Al, Ti), aleaciones (NiCr, TiW), óxidos (SiO₂, TiO₂, Al₂O₃), sulfuros (ZnS) y cerámicas.

  3. Alta eficiencia de evaporación y fuerte adhesión de la capa de película
  4. Baja contaminación y alta tasa de utilización de los materiales objetivo
  5. Alto grado de automatización y operación conveniente
IV. Escenarios de aplicación típicos
  1. Campo óptico (Escenarios de aplicación principales)
    • Lentes ópticas: Se recubren películas antirreflectantes (como películas multicapa SiO₂-TiO₂), películas de alta reflexión (como películas protectoras de Al+SiO₂) y películas de filtro (como películas de filtro infrarrojo, películas de corte ultravioleta) en lentes, prismas y espejos para mejorar la transmitancia de la luz, la reflectancia o la selectividad espectral de los dispositivos ópticos.
    • Dispositivos de visualización: Recubrimiento de películas conductoras transparentes (como ITO, AZO), películas antirreflectantes y películas de detección táctil en los sustratos de vidrio de las pantallas LCD, OLED y Micro LED.
    • Dispositivos láser: Se recubren películas de alta reflexión y antirreflectantes en la cavidad resonante del láser y la cara final de la fibra óptica para optimizar la eficiencia de transmisión del láser.
  2. Campo de la electrónica y los semiconductores
    • Dispositivos semiconductores: Se recubren electrodos metálicos (como Au, Al, Ti) y películas de pasivación (como SiO₂, Si₃N₄) en chips y obleas para garantizar la conductividad y la estabilidad de los dispositivos.
    • Componentes electrónicos: Recubrimiento de capas de película funcionales (como película de resistencia NiCr, película dieléctrica Ta₂O₅) en condensadores, resistencias y sensores para mejorar el rendimiento de los componentes;
    • Dispositivos de almacenamiento magnético: Recubrimiento de películas magnéticas (como películas de aleación CoCrPt) en cabezales de discos duros y cintas magnéticas para mejorar la capacidad de almacenamiento y la velocidad de lectura/escritura.
  3. Campos aeroespacial y de defensa nacional
    • Componentes aeroespaciales: Recubrimiento de capas de película resistentes al desgaste, a la corrosión y a los rayos UV para ventanas de aviones y lentes ópticas de satélites; Recubrimiento del buscador de misiles con película antirreflectante infrarroja y película sigilosa;
    • Equipos de defensa nacional: Recubrimiento de capas de película óptica de alto rendimiento para armas láser y detectores infrarrojos para mejorar la adaptabilidad ambiental y el rendimiento de combate del equipo.
  4. Otros campos de alta gama
    • Dispositivos médicos: Recubrimiento de capas de película óptica con buena biocompatibilidad y resistencia a la desinfección para lentes artificiales y lentes de endoscopio;
    • Recubrimiento decorativo y funcional: Recubrimiento de esferas de relojes y joyas de alta gama con películas decorativas resistentes al desgaste y a la oxidación (como película de oro TiN, película negra Cr); Se recubren películas protectoras duras (como TiN y TiAlN) en herramientas de corte y moldes para prolongar su vida útil.
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