パーソナライズ可能な高精度反射フィルム (ARフィルム) 専用電子ビームコーティングマシン

• バキュームシステム: 分子ポンプ + ルーツポンプ + メカニカルポンプ組み合わせ,真空測定器,真空室.
• 電子銃システムカソード (タンタル線/トンフラム線),アノード,焦点コイル,偏向コイル,電子ビームスキャナー
• 膜材料の蒸発システム:油槽,膜材料の供給メカニズム,防水シールドカバー
• 作業部品のラックとトランスミッションシステム:惑星式作業部品ラック (自転+回転),加熱装置 (赤外線/抵抗加熱)
• フィルム厚さの監視システム:クォーツ結晶振動モニター (QCM),光学干渉モニター.
• C について制御システム:PLCタッチスクリーン 上部コンピュータソフトウェア 安全鍵装置

バキューム準備段階:真空室のドアを閉じて,真空システムを起動し,究極の真空 (≤5×10−5 Pa) に避難し,同時に, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

膜材料の蒸発段階:電子銃はPLCで起動します カソドは熱電子を生成するために加熱されます which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucible電子ビームの運動エネルギーは熱エネルギーに変換され,膜材料が蒸発温度 (SiO2は約1700°C,TiO2は約2200°C) に達します.そして蒸発して ガス粒子になります.

フィルムの堆積段階:ガス状のフィルム材料の粒子は真空環境で基板に向かって拡散し,基板表面に吸収し,移動し,凝縮し,連続フィルムを形成する.作業部品ラックは,自転と革命を通じて,ガス粒子均等にベース表面をカバーすることを保証地元の厚さ偏差を避ける.

塗装の最終段階:すべてのフィルム層が埋もれた後,真空環境で30〜60分間冷却 (過度の温度差によるフィルム層の内部ストレスを避けるため)その後,ゆっくりと通常の圧力にガスを解放し,作業部件を取り除くプロセス全体を通して the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤0400~700nmの可視光帯域では0.5%).

• フィルム層は高精度で,ARフィルムの基本的な要件を満たしています.フィルム厚さの均一性 ≤±2% 屈折率制御精度 ±0005ナノスケールフィルム厚さ調節 (最小沉積厚さ0.1nm) をサポートする.
• 膜材料は,強い互換性があり,ARフィルムの主要な材料をカバーします.ARフィルムのよく使われる膜材料を安定して蒸発させ,異なる膜材料の交替堆積をサポートできます多層複合ARフィルムの設計要件を満たす.
• 高度な自動化があり,大量生産のシナリオに適しています.全プロセスのPLC制御,配方保存と迅速な切り替えをサポートし,一般的なコーティングマシンと比較して生産効率が30%以上向上します.
• 真空環境は清潔でフィルム層の質は安定しています.究極の真空度が高い (≤5×10−5 Pa),残留ガス含有量は低いため,フィルム層の泡や不浄性が減少する.ARフィルム (-40°Cから85°Cの環境では) の光伝達性安定性は20%増加します霧は0.1%以下です
• 基板に適応性が高く,複数のシナリオのニーズを満たします.ガラス,樹脂,サファイア,金属などの異なる基板にARフィルムの準備をサポートします. 加熱温度と蒸発速度を調整することによって,フィルム層と基板の間に強い粘着が達成できる.

• 溶融点が高いAR膜材料 (TiO2やZrO2など) の安定な蒸発の問題を解決し,多層ブロードバンドAR膜の好みの準備機器となっています.
• フィルム層の精度と安定性は抵抗加熱コーティングマシンのものよりはるかに高いカメラレンズやレーザーレンズなどの高級光学製品のARフィルム要件を満たす.
• 量産効率とコスト制御は,磁気スプッターコーティングマシンよりも優れているため,消費電子などの大規模アプリケーションシナリオに適しています.光電池自動車も

1. 消費者電子機器分野 (最大のアプリケーション市場)
   携帯電話/タブレット/コンピュータのディスプレイ; カメラレンズ/携帯電話レンズ; スマートウォッチ/VRデバイスのレンズ.
2. 光学機器の分野
   顕微鏡/望遠鏡のレンズ;レーザー機器のレンズ (CO2レーザーレンズ,ファイバーレーザーレンズなど)
3. 光伏エネルギー場
   光伏ガラス;集中太陽系 (CSP)
4. 自動車・航空宇宙分野
   車のフロントガラス/窓;航空機の窓/航空鏡.
5. その他の特殊分野
   医療用光学機器 (内視鏡,外科顕微鏡など);ディスプレイパネル (OLED,ミニLEDなど).