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汎用的な光学コーティングアプリケーションのためのコンパクト高精度電子ビーム蒸発コーティングマシン
汎用的な光学コーティングアプリケーションのためのコンパクト高精度電子ビーム蒸発コーティングマシン
原産地:広東省肇慶市
ブランド名:Zhongda
認証:CE
最低注文数量:1
納期:45-60営業日
製品の詳細
ハイライト:
小型電子ビーム蒸発機
,光学コーティングのPVD機器
,電子ビームコーティングマシン
Control System:
フルオート,セミオート,マニュアル
Coating Process:
真空蒸着
Rotation Stand:
2セット
Server:
オープンレスティ
Dimensions:
約2000mm×1500mm×1800mm
Cooling Method:
水冷
Coating Transparency:
高い
Coating Thickness:
調整可能
Chamber Material:
ステンレス鋼または炭素鋼
Pumptype:
ロータリーベーンポンプ+拡散ポンプ
Voltage:
380V、50Hzまたはカスタムメイド
Coating Technology:
蒸発
Coating Temperature:
調整可能
Evaporation Power Supply:
1セット
Rotation System:
2セット
製品説明
詳細な仕様と特徴
小型の電子ビーム蒸発塗装機械
基本技術仕様
| パラメータカテゴリ | 詳細 |
|---|---|
| 基板容量 | 最大サイズ:最大6インチ (150mm); 2"/4"/6"のウエファー/光学部品と互換性;最小サイズ: 10×10mm |
| バキューム性能 | 究極真空: ≤ 1×10−6 Torr (1.3×10−4 Pa); ポンプ時間: 5×10−6 Torr まで数分; 漏れ率: 10−3 Pa*L/s (漏れテスト) |
| 蒸発システム | 電子ビーム電源: 250W〜10kW; ティグブル/ポケット数: 4-8; サポート棒 (最大 φ4mm) & ティグブル (1-15cc) の原料 |
| プロセス制御 | 基板温度:RT-500°C (±1°C精度);回転速度:2-20rpm;フィルム厚さモニター:QCM (0.01nm/s解像度) |
| フィルム品質 | 均一性: ±1%~±3% 粘着性:ASTM D3359 4B規格を満たす 沉着速度:0.1~10 nm/s |
| 互換性 | 材料: Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2 (AR/AF/反射フィルムに対応する) |
| 物理 的 な 尺度 | 足跡: 1-3.3×3.0m; 高さ: 2.5-3.5m; 体重: <800kg (デスクトップ/テーブルトップモデル) |
| 電源 | 単相/三相: 220V/380V,50/60Hz; 電力消費: 1.2kW-10kW |
主要 な 利点
コンパクト で 空間 を 節約 する デザイン
- Korvus HEX-800 標準のデスクトップ/モジュール構造,実験室/研究環境に最適
- 慣性大気処理のための手袋箱と簡単に統合
- 軽量構造と工具のないモジュール交換により,設置と保守コストが削減されます
高精度で信頼性の高いコーティング
- 電子ビームフォーカス技術により,耐火性金属 (Pt,W) と介電性材料の堆積が可能
- 0.01nm/s 厚さ制御 フィルム均一性 ±1% (小規模機器では業界トップ)
- ハールイオン源 + Ar プラズマ前浄化によりフィルム粘着性 (4B グレード) と密度が向上します
- オプティカルコンポーネントの性能要件を満たす (例えば,<95%の伝達率を持つARフィルム)
柔軟なプロセス適応
- 多材料共蒸発のための4-8つのチュービル/ポケットをサポートする
- メタル,オキシド,有機フィルム (AF/AR/反射性/保護性コーティング) の間の迅速な切り替え
- 2~6インチの基板と互換性がある (ウエファー,レンズ,光ファイバー)
- 2D/3Dコンポーネントのためのカスタマイズ可能な固定装置 (ドーム/knudzin/プレート)
インテリジェントでユーザーフレンドリーな操作
- PLC+タッチスクリーン制御システム リアルタイムプロセスモニタリング
- 早く設定するための事前プログラムされたプロセスライブラリ
- エネルギー効率の良い冷却ポンプ/磁気懸垂分子ポンプ設計は,従来のシステムと比較して 30% の電力消費を削減します
R&Dと小量生産のコスト効率性
- 初期投資が低く,目標利用率が高く (>70%) 材料廃棄量が最小
- 試作品作成や小量生産に適している (年間最大10,000枚)
- 多機能統合 (eビーム蒸発 + 噴射オプション) は複数の装置の必要性を排除します
基本機能
精密 な 熱 と 蒸発
- 高エネルギー電子束は標的材料の表面を爆撃し,溶けた状態または蒸発状態まで加熱する
- 集中したエネルギーと高熱効率により,耐火材料 (トルフスタン,モリブデン,チタン,SiO2,TiO2) の蒸発が可能になります.
- 目標材料の加熱源による汚染を回避する
- 単層フィルムと多層フィルムの連続沉積のために,複数のターゲット材料の切り替え (2-6のピグブル位置) をサポートする
精密なフィルム厚さ制御
- 積立率と厚さモニタリングのための内蔵クォーツ結晶フィルム厚さモニタ
- 超薄型機能フィルムのナノメートルレベル (±0.1nm) の制御精度
- 前もって設定された堆積パラメータ (電子束の電量,真空度,堆積速度) を備えたプログラム可能な制御システム
- 自動コーティングは,バッチフィルム層の一貫性を保証します.
高真空環境保証
- メカニカルポンプ + 分子ポンプ真空ユニット 10−4~10−6 Pa 高真空環境に空洞を減らす
- 蒸発した粒子のガス分子散乱と汚染を減らす
- フィルム層の高純度,高密度,強い粘着性を確保する
小型 工品 に 適応 する
- 特殊設計で,回転式作業台付き小作業部品用に設計されたもの
- 基板間のコーティング層の均一性を向上させる
- ミリメートルから数十ミリメートルまでの基板 (ウエファー,光学レンズ,チップ,センサー部品) に適しています
- 表面のマウント,シート,小部品のコーティングをサポート
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