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बहुमुखी ऑप्टिकल कोटिंग अनुप्रयोगों के लिए कॉम्पैक्ट उच्च परिशुद्धता इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण कोटिंग मशीन
बहुमुखी ऑप्टिकल कोटिंग अनुप्रयोगों के लिए कॉम्पैक्ट उच्च परिशुद्धता इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण कोटिंग मशीन
उत्पत्ति का स्थान:झाओकिंग, गुआंग्डोंग
ब्रांड का नाम:Zhongda
प्रमाणन:CE
न्यूनतम आदेश मात्रा:1
डिलीवरी का समय:45-60 कार्य दिवस
उत्पाद विवरण
प्रमुखता देना:
छोटी इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण मशीन
,ऑप्टिकल कोटिंग पीवीडी उपकरण
,इलेक्ट्रॉन बीम कोटिंग मशीन
Control System:
पूर्ण ऑटो, सेमी ऑटो, मैनुअल
Coating Process:
वैक्यूम वाष्पीकरण
Rotation Stand:
2 सेट
Server:
खुलापन
Dimensions:
लगभग। 2000 मिमी x 1500 मिमी x 1800 मिमी
Cooling Method:
पानी की मदद से ठंडा करने वाले उपकरण
Coating Transparency:
उच्च
Coating Thickness:
एडजस्टेबल
Chamber Material:
स्टेनलेस स्टील या कार्बन स्टील
Pumptype:
रोटरी वेन पंप + प्रसार पंप
Voltage:
380V, 50Hz या कस्टम मेड
Coating Technology:
वाष्पीकरण
Coating Temperature:
एडजस्टेबल
Evaporation Power Supply:
1 सेट
Rotation System:
2 सेट
उत्पाद वर्णन
विस्तृत विनिर्देश और विशेषताएं
छोटे इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण कोटिंग मशीनें
मुख्य तकनीकी विनिर्देश
| पैरामीटर श्रेणी | विवरण |
|---|---|
| सब्सट्रेट क्षमता | अधिकतम आकारः 6 इंच (150 मिमी) तक; 2"/4"/6" वेफर्स/ऑप्टिकल घटकों के साथ संगत; न्यूनतम आकारः 10×10 मिमी |
| वैक्यूम प्रदर्शन | अंतिम वैक्यूमः ≤ 1×10−6 टोर (1.3×10−4 Pa); पंपिंग समयः मिनट 5×10−6 टोर तक; रिसाव दरः 10−3 Pa*L/s (वह रिसाव परीक्षण) |
| वाष्पीकरण प्रणाली | इलेक्ट्रॉन बीम की शक्तिः 250W-10kW; पिगबल्स/जेबों की संख्याः 4-8; समर्थन रॉड (अधिकतम φ4mm) और पिगबल्स (1-15cc) के लिए कच्चे माल |
| प्रक्रिया नियंत्रण | सब्सट्रेट तापमानः RT-500°C (±1°C सटीकता); घूर्णन गतिः 2-20 आरपीएम; फिल्म मोटाई मॉनिटरः QCM (0.01 एनएम/एस रिज़ॉल्यूशन) |
| फिल्म की गुणवत्ता | एकरूपता: ±1%-±3%; आसंजनः एएसटीएम डी3359 4बी मानक को पूरा करता है; जमाव दरः 0.1-10 एनएम/सेकंड |
| संगतता | सामग्रीः Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2 (AR/AF/रिफ्लेक्टिव फिल्मों का समर्थन करता है) |
| भौतिक आयाम | पदचिह्नः 1-3.3×3.0m; ऊंचाईः 2.5-3.5m; वजनः <800kg (डेस्कटॉप/टेबलटॉप मॉडल) |
| विद्युत आपूर्ति | एकल/तीन चरणः 220V/380V, 50/60Hz; बिजली की खपतः 1.2kW-10kW |
मुख्य लाभ
कॉम्पैक्ट और स्पेस-सेविंग डिज़ाइन
- डेस्कटॉप/मॉड्यूलर संरचना Korvus HEX-800 मानक के साथ, प्रयोगशाला / अनुसंधान सेटिंग्स के लिए आदर्श
- निष्क्रिय वायुमंडल प्रक्रियाओं के लिए दस्ताने के बक्से के साथ आसान एकीकरण
- हल्के निर्माण और उपकरण मुक्त मॉड्यूल की प्रतिस्थापन स्थापना और रखरखाव की लागत को कम करता है
उच्च परिशुद्धता और विश्वसनीय कोटिंग
- इलेक्ट्रॉन बीम फोकसिंग तकनीक अग्निरोधक धातुओं (पीटी, डब्ल्यू) और डाइलेक्ट्रिक सामग्रियों के जमाव को संभव बनाती है
- 0.01nm/s फिल्म एकरूपता ± 1% के साथ मोटाई नियंत्रण (छोटे पैमाने पर उपकरणों के लिए उद्योग के अग्रणी)
- हॉल आयन स्रोत + आर प्लाज्मा पूर्व सफाई फिल्म आसंजन (4B ग्रेड) और घनत्व को बढ़ाता है
- ऑप्टिकल घटक प्रदर्शन आवश्यकताओं को पूरा करता है (उदाहरण के लिए, 95% पारगम्यता के साथ AR फिल्म)
बहुमुखी और लचीली प्रक्रिया अनुकूलन
- बहु-सामग्री सह-वाष्पीकरण के लिए 4-8 पिगल्स/जेबों का समर्थन करता है
- धातु, ऑक्साइड और कार्बनिक फिल्मों के बीच त्वरित स्विच (एएफ/एआर/रिफ्लेक्टीव/सुरक्षात्मक कोटिंग्स)
- 2 से 6 इंच के सब्सट्रेट के साथ संगत (वेफर, लेंस, ऑप्टिकल फाइबर)
- 2D/3D घटकों के लिए अनुकूलन योग्य जुड़नार (गुंबद/कुंडल/प्लेट)
बुद्धिमान और उपयोगकर्ता के अनुकूल संचालन
- पीएलसी + टचस्क्रीन नियंत्रण प्रणाली वास्तविक समय प्रक्रिया निगरानी के साथ
- त्वरित सेटअप के लिए पूर्व-प्रोग्राम किए गए प्रक्रिया पुस्तकालय
- ऊर्जा कुशल क्रिओपंप/चुंबकीय निलंबन आणविक पंप डिजाइन पारंपरिक प्रणालियों की तुलना में 30% तक बिजली की खपत को कम करता है
अनुसंधान एवं विकास और छोटे बैच उत्पादन के लिए लागत प्रभावी
- उच्च लक्ष्य उपयोग दर (> 70%) और न्यूनतम सामग्री अपशिष्ट के साथ कम प्रारंभिक निवेश
- छोटे बैचों के निर्माण के लिए प्रोटोटाइप बनाने के लिए उपयुक्त (प्रति वर्ष 10,000 टुकड़े तक)
- बहुक्रियाशील एकीकरण (ई-बीम वाष्पीकरण + स्पटरिंग वैकल्पिक) कई उपकरणों की आवश्यकता को समाप्त करता है
मुख्य कार्य
सटीक ताप और वाष्पीकरण
- उच्च ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉन बीम लक्ष्य सामग्री की सतहों पर बमबारी करते हैं, पिघले हुए या वाष्पित अवस्था में ताप देते हैं
- केंद्रित ऊर्जा और उच्च थर्मल दक्षता अग्निरोधक सामग्री (टंगस्टन, मोलिब्डेनम, टाइटेनियम, SiO2, TiO2) के वाष्पीकरण को सक्षम करती है
- हीटिंग स्रोत द्वारा लक्ष्य सामग्री के संदूषण से बचा जाता है
- एकल-परत और बहुपरत फिल्मों के निरंतर जमाव के लिए बहु-लक्ष्य सामग्री स्विचिंग (2-6 क्रिगबल स्थिति) का समर्थन करता है
सटीक फिल्म मोटाई नियंत्रण
- वास्तविक समय में जमाव दर और मोटाई की निगरानी के लिए अंतर्निहित क्वार्ट्ज क्रिस्टल फिल्म मोटाई मॉनिटर
- अल्ट्रा पतली कार्यात्मक फिल्मों के लिए नैनोमीटर स्तर (±0.1nm) तक नियंत्रण सटीकता
- पूर्व निर्धारित जमाव मापदंडों के साथ प्रोग्राम करने योग्य नियंत्रण प्रणाली (इलेक्ट्रॉन बीम शक्ति, वैक्यूम डिग्री, जमाव दर)
- स्वचालित कोटिंग बैच फिल्म परत स्थिरता सुनिश्चित करता है
उच्च वैक्यूम वातावरण की गारंटी
- यांत्रिक पंप + आणविक पंप वैक्यूम इकाई 10−4 ~ 10−6 Pa उच्च वैक्यूम वातावरण के लिए गुहा को कम करती है
- गैस अणुओं के बिखराव और वाष्पित कणों के संदूषण को कम करता है
- सुनिश्चित करता है कि फिल्म परतों में उच्च शुद्धता, अच्छा घनत्व और मजबूत आसंजन हो
छोटे आकार के वर्कपीस को अनुकूलित करना
- विशेष रूप से छोटे वर्कपीस के लिए रोटरी वर्कपीस टेबल के साथ डिज़ाइन किया गया
- सब्सट्रेट में कोटिंग परत एकरूपता में सुधार करता है
- मिमी से लेकर दसियों मिमी तक के सब्सट्रेट के लिए उपयुक्त (वॉफर्स, ऑप्टिकल लेंस, चिप्स, सेंसर घटक)
- सतह माउंट, शीट और छोटे भागों के कोटिंग का समर्थन करता है
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