Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

ماشین پوشش تبخیر پرتو الکترون با دقت بالا برای کاربردهای پوشش نوری متنوع

ماشین پوشش تبخیر پرتو الکترون با دقت بالا برای کاربردهای پوشش نوری متنوع
محل مبدا:ژائوکینگ، گوانگدونگ
نام تجاری:Zhongda
گواهینامه:CE
حداقل مقدار سفارش:1
زمان تحویل:45-60 روز کاری
جزئیات محصول
برجسته کردن:

دستگاه تبخیر پرتو الکترونی کوچک

,

تجهیزات PVD پوشش اپتیکی

,

ماشین پوشش پرتو الکترون

Control System: تمام خودکار، نیمه خودکار، دستی
Coating Process: تبخیر خلاء
Rotation Stand: 2 مجموعه
Server: openresty
Dimensions: تقریبا 2000mm x 1500mm x 1800mm
Cooling Method: آب خنک کننده
Coating Transparency: بالا
Coating Thickness: قابل تنظیم
Chamber Material: فولاد ضد زنگ یا فولاد کربن
Pumptype: پمپ پره ای دوار + پمپ انتشار
Voltage: 380 ولت، 50 هرتز یا سفارشی ساخته شده است
Coating Technology: تبخیر
Coating Temperature: قابل تنظیم
Evaporation Power Supply: 1 مجموعه
Rotation System: 2 مجموعه
توضیح محصول
مشخصات و ویژگی‌های دقیق
دستگاه های پوشش دهنده بخار ریز الکترونی کوچک
مشخصات فنی اصلی
دسته بندی پارامتر جزئیات
ظرفیت سوبسترات حداکثر اندازه: تا 6 اینچ (150 میلی متر) ؛ سازگار با 2 "/4"/6" وافرهای / اجزای نوری؛ حداقل اندازه: 10 × 10mm
عملکرد خلاء خلاء نهایی: ≤ 1×10−6 Torr (1.3×10−4 Pa) ؛ زمان پمپاژ: دقیقه تا 5×10−6 Torr؛ نرخ نشت: 10−3 Pa*L/s (آزمایش نشت)
سیستم تبخیر قدرت پرتو الکترون: 250W-10kW؛ تعداد مهره ها/کیسه ها: 4-8; میله پشتیبانی (حداکثر φ4mm) و مواد اولیه مهره (1-15cc)
کنترل فرآیند دمای بستر: RT-500°C (دقت ±1°C) سرعت چرخش: 2-20 rpm مانیتور ضخامت فیلم: QCM (0.01 nm/s)
کیفیت فیلم یکسانی: ±1%-±3%؛ چسبندگی: مطابق با استاندارد ASTM D3359 4B؛ سرعت رسوب: 0.1-10 nm/s
سازگاری مواد: Au، Ag، Pt، W، SiO2، TiO2، MgF2، YF3، ZrO2
ابعاد فیزیکی اثر پا: 1-3-3 × 3.0m؛ ارتفاع: 2.5 - 3.5m؛ وزن: <800kg (مدل های دسکتاپ / میز)
منبع برق واحد/سه فاز: 220V/380V، 50/60Hz؛ مصرف برق: 1.2kW-10kW
مزیت های اصلی
طراحی کامپکت و صرفه جویی در فضا
  • ساختار میز کار / ماژولار با استاندارد Korvus HEX-800 ، ایده آل برای محیط آزمایشگاه / تحقیق
  • ادغام آسان با جعبه دستکش برای فرآیندهای اتمسفر بی اثر
  • ساخت سبک و جایگزینی ماژول بدون ابزار هزینه های نصب و نگهداری را کاهش می دهد
پوشش با دقت بالا و قابل اطمینان
  • تکنولوژی تمرکز پرتو الکترون امکان رسوب فلزات آتش شکن (Pt، W) و مواد دی الکتریک را فراهم می کند
  • 0.01nm/s کنترل ضخامت با یکنواخت فیلم ± 1٪ (پیشگام صنعت برای تجهیزات کوچک)
  • منبع یون هال + پیش تمیز کردن پلاسما Ar چسبندگی فیلم (درجه 4B) و تراکم را افزایش می دهد
  • اجزای نوری را که نیاز به عملکرد دارند (به عنوان مثال، فیلم های AR با انتقال بیش از 95٪)
سازگاری فرسوده و انعطاف پذیر فرآیند
  • پشتیبانی از 4-8 مهتاب/کیف برای چند ماده ای هم تبخیر
  • تغییر سریع بین فلز، اکسید و فیلم های آلی (AF / AR / پوشش های بازتاب دهنده / محافظ)
  • سازگار با زیربناهای 2 تا 6 اینچ (وفر، لنز، فیبر نوری)
  • لوازم تخصیصی (گنبدی/knudzin/plate) برای قطعات 2D/3D
عملکرد هوشمندانه و کاربر پسند
  • سیستم کنترل PLC + صفحه لمسی با نظارت بر فرآیند در زمان واقعی
  • کتابخانه های فرآیند پیش برنامه ریزی شده برای تنظیم سریع
  • طراحی پمپ مولکولی کریوپمپ / تعلیق مغناطیسی با بهره وری انرژی مصرف برق را در مقایسه با سیستم های سنتی 30٪ کاهش می دهد
مقرون به صرفه برای تحقیق و توسعه و تولید دسته کوچک
  • سرمایه گذاری اولیه کم با نرخ استفاده هدف بالا (>70٪) و حداقل اتلاف مواد
  • مناسب برای ساخت نمونه های اولیه برای تولید دسته های کوچک (تا 10،000 قطعه در سال)
  • یکپارچه سازی چند عملکردی (تبخیر شعاع الکتریکی + اسپتر کردن اختیاری) نیاز به دستگاه های متعدد را از بین می برد
توابع اصلی
گرمایش و تبخیر دقیق
  • پرتوهای الکترونی با انرژی بالا، سطوح مواد هدف را بمباران می کنند، به حالت ذوب یا تبخیر گرم می کنند
  • انرژی متمرکز و بهره وری حرارتی بالا باعث تبخیر مواد آتش گیر (تولفستم، مولیبدنوم، تیتانیوم، SiO2، TiO2) می شود
  • جلوگیری از آلودگی مواد مورد نظر توسط منبع گرمایش
  • پشتیبانی از تغییر مواد چند هدف (2-6 موقعیت خروجی) برای سپرده گذاری مداوم فیلم های تک لایه و چند لایه
کنترل دقیق ضخامت فیلم
  • مانیتور ضخامت فیلم کریستال کوارتز برای نظارت بر سرعت رسوب و ضخامت در زمان واقعی
  • دقت کنترل به سطح نانومتر (± 0.1nm) برای فیلم های کاربردی فوق نازک
  • سیستم کنترل قابل برنامه ریزی با پارامترهای پیش تعیین شده رسوب (قدرت پرتو الکترون، درجه خلاء، سرعت رسوب)
  • پوشش خودکار ثبات لایه فیلم دسته را تضمین می کند
تضمین محیط با خلاء بالا
  • پمپ مکانیکی + واحد خلاء پمپ مولکولی حفره را به محیط خلاء بالا 10-4 ~ 10-6 Pa کاهش می دهد
  • پراکندگی مولکول گاز و آلودگی ذرات تبخیر را کاهش می دهد
  • تضمین می کند که لایه های فیلم دارای خلوص بالا، تراکم خوب و چسبندگی قوی باشند
سازگاری قطعات کوچک
  • برای قطعات کوچک با میز چرخنده قطعات
  • بهبود یکسانی لایه پوشش در سراسر زیربناها
  • مناسب برای سبسترها از میلی متر تا ده ها میلی متر (ویرها، لنزهای نوری، تراشه ها، اجزای سنسور)
  • پشتیبانی از پوشش سطح، ورق و قطعات کوچک
پیام برای پاسخ سریع
محصولات مرتبط