ماشین پوشش آلاینده ای با نوع E

تفنگ الکترونيکي نوع E:منبع تبخیر هسته ای از کاتود، الکترود متمرکز و آنود شتاب دهنده تشکیل شده است. پرتو الکترون یک نقطه تقریباً دایره ای را ارائه می دهد و دارای یک عملکرد اسکن سریع است.می تواند به دقت مواد پوشش دهنده را بمباران کند و برای تبخیر مواد مختلف با نقطه ذوب بالا مناسب است.همچنین یک جزء کلیدی است که آن را از انواع دیگر ماشین های پوشش پرتو الکترون متمایز می کند.

سیستم خلاء:این شامل یک اتاق خلاء، یک پمپ مولکولی کامپوزیت، یک پمپ مکانیکی، یک دریچه دریچه و غیره است. اتاق خلاء اغلب یک طراحی جعبه U را اتخاذ می کند که می تواند یک محیط پاک پوشش را تضمین کند.سیستم جاروبرقی می تواند درجه خلاء ≤6 را به دست آورد.67×10−5Pa (بعد از گاز زدایی پخت و پز) ، کاهش تداخل هوا بر روی خلوص فیلم

اجزای تبخیر و حمل:بیشتر خازن های چند سلولی که با آب خنک می شوند (معمولاً با چهار یا شش سلول طراحی شده اند) که مانع از ذوب شدن خازن و آلودگی مواد پوشش می شوند.و می تواند چندین ماده مختلف را همزمان نگه دارد.. هنگامی که با یک مرحله گرم کردن زیربنای چرخش جفت می شود، حداکثر دمای گرم کردن زیربنای می تواند به 800 °C ± 1 °C برسد.همچنین می تواند فاصله بین بستر و منبع تبخیر را تنظیم کند تا یکسانی لایه فیلم را تضمین کند.

سیستم اندازه گیری و کنترل و همچنین سیستم کنترل الکتریکی:مجهز به یک کنترلر ضخامت فیلم نوسان کننده کریستال کوارتز، محدوده نمایش ضخامت فیلم 0-99.9999 μm است،و برخی از آنها می توانند به صورت اختیاری مجهز به کنترل خودکار ضخامت فیلم نوری باشند.. کل فرآیند خلاء، پخت و پز، تبخیر و غیره به طور خودکار از طریق PLC و کامپیوتر کنترل صنعتی کنترل می شود،و همچنین شامل ماژول های کنترل کمکی مانند اندازه گیری خلاء و مسیر گاز کار می شود.

پس از روشن شدن تجهیزات، سیستم پمپاژ ابتدا اتاق خلاء را به حالت خلاء بالا تخلیه می کند تا پراکندگی و آلودگی ذرات تبخیر شده توسط مولکول های گاز را کاهش دهد.

1. کاتود تفنگ الکترونيک نوع E گرم مي شود و الکترون ها را منتشر مي کند. اين الکترون ها توسط الکترود متمرکز شده و در آنود شتاب گرفته شده تا پرتوي الکترونيک با انرژي بالا را شکل دهند.که به طور دقیق مواد پوشش را در داخل گلدان با کمک یک میدان مغناطیسی بمباران می کند.
2. پس از جذب انرژی بالای پرتو الکترون، ماده به سرعت به دمای تبخیر یا ذوب شدن گرم می شود و ذرات گازی را تشکیل می دهد.
3. ذرات گازی در محیط خلاء به سمت زیربنای حرکت می کنند. به دلیل مقاومت کوچک در برابر حرکت ذرات در خلاء، می توانند به طور یکنواخت در سطح زیربنای فشرده شوند.
4. در طول فرآیند پوشش، کنترل کننده ضخامت فیلم ضخامت لایه فیلم را در زمان واقعی کنترل می کند.و سیستم کنترل الکتریکی پارامترهای مانند قدرت پرتو الکترون را تنظیم می کند تا اطمینان حاصل شود که ضخامت لایه فیلم با الزامات پیش تعیین شده مطابقت داردپس از تکمیل پوشش، می توان سنگ شکن را تغییر داد تا بدون از بین بردن محیط خلاء، رسوب فیلم چند لایه ای حاصل شود.

در طول فرآیند پوشش، کنترل کننده ضخامت فیلم ضخامت لایه فیلم را در زمان واقعی کنترل می کند.و سیستم کنترل الکتریکی پارامترهای مانند قدرت پرتو الکترون را تنظیم می کند تا اطمینان حاصل شود که ضخامت لایه فیلم با الزامات پیش تعیین شده مطابقت داردپس از تکمیل پوشش، می توان سنگ شکن را تغییر داد تا بدون از بین بردن محیط خلاء، رسوب فیلم چند لایه ای حاصل شود.

• انرژی متمرکز و قابل کنترل:پرتو الکترون دارای چگالي انرژي بالايي است و مي تواند به طور مستقيم بر روي مواد عمل کندنه تنها می تواند مواد با نقطه ذوب بیش از 3000 درجه سانتیگراد مانند وولفستم و مولیبدن را تبخیر کند.علاوه بر این، سرعت تبخیر را می توان با تنظیم جریان پرتو الکترون کنترل کرد.
• سازگاری قوی لایه فیلم:از تبخير يک منبع، دو منبع يا سه منبع استفاده ميکنهانواع مختلفی از فیلم ها مانند فیلم های آلیاژ و فیلم های کامپوزیت می توانند آماده شوند.، و ثبات شاخص شکنندگی لایه فیلم بالا است (δn≤0.005).
• این ترکیب حرفه ای و انعطاف پذیری است:این برای آزمایشات دسته کوچک در تحقیقات دانشگاهی مناسب است و همچنین می تواند نیازهای تولید دسته کوچک صنعتی مانند وافرهای 6 اینچی را برآورده کند.می تواند به صورت دستی یا نیمه اتوماتیک کار کندبرخی از مدل ها از کنترل برنامه برای پاسخگویی به نیازهای سناریوهای مختلف پشتیبانی می کنند.

خلوص و کیفیت لایه فیلم بالاست:محیط خلاء در ترکیب با مهره های خنک شده با آب آلودگی را کاهش می دهد و خلوص لایه فیلم می تواند به 99.99٪ (4N درجه) برسد.تراکم لایه فیلم 30 درصد بیشتر از روش تبخیر معمولی است.، با چسبندگی قوی و عملکرد عالی ضد ظریف شدن.

بهره وری و تکرار خوبی از تبخیر:محدوده سرعت رسوب گسترده است (0.1μm/min - 100μm/min) ، قادر به آماده سازی لایه نازک و رسوب فیلم ضخیم است. تکرار فرآیند فرآیند پوشش بالا است (CPK≥1.67).و یک لایه فیلم سازگار می تواند با ثبات تحت پارامترهای مشابه تولید شود.

میزان استفاده از مواد بالا:در مقایسه با فناوری هایی مانند اسپتر کردن ماگنترون، تبخیر پرتو الکترون دارای نرخ استفاده از مواد بالاتر است و از دست دادن مواد را کاهش می دهد.سنگ شکن های چند سلولی می توانند از تعویض مکرر مواد جلوگیری کنند، در نتیجه افزایش کارایی پوشش.

در زمینه اپتیک،این تجهیزات اصلی برای پوشش اجزای نوری مانند لنزهای لیزر، لنزهای عینک و شیشه های معماری است. می تواند فیلم های نوری مانند SiO2 و TiO2 را آماده کند،افزایش انتقال نورعملکرد بازتاب یا فیلتر کردن اجزای

در زمینه نیمه هادی ها و الکترونیک:برای آماده سازی فیلم های نازک برای اجزای نوری نیمه هادی، دستگاه های MEMS، فوتودیودها و غیره، و همچنین تولید شیشه هادی و فیلم های نازک نیمه هادی استفاده می شود.و با فرایندهای درجه صنعتی مانند وافه های 6 اینچی سازگار است.

در زمینه انرژی جدید و سنجش:فیلم های ضد انعکاس برای دستگاه های فتوولتائیک و فیلم های کاربردی برای سنسورهای دقیق (مانند سنسورهای اکسید فلز،سنسورهای ماوراء بنفش/ مادون قرمز) برای اطمینان از کارایی تبدیل فوتو الکتریکی و حساسیت تشخیص دستگاه آماده شده اند..

در زمینه های تحقیقات علمی و آموزش:این یک دستگاه مهم برای کالج ها و دانشگاه ها و همچنین موسسات تحقیقاتی برای مطالعه فیلم های نازک فرو الکتریکی، مواد پیزو الکتریکی و غیره شده است.می تواند آزمایشات آماده سازی فیلم های تک لایه را انجام دهد، فیلم های چند لایه ای و فیلم های دوپد شده و در تحقیق و توسعه مواد جدید کمک می کنند.