Máy phủ bay hơi chùm tia điện tử loại E cho các thành phần quang học, các thành phần quang học bán dẫn

Súng điện tử loại E:Nguồn bốc hơi lõi bao gồm một cathode, một điện cực lấy nét và một anode tăng tốc. chùm electron có một điểm gần như tròn và được trang bị chức năng quét nhanh.Nó có thể ném bom chính xác các vật liệu phủ và phù hợp với sự bốc hơi của các vật liệu nóng chảy cao.Nó cũng là một thành phần chính phân biệt nó với các loại máy sơn chùm electron khác.

Hệ thống chân không:Nó bao gồm một buồng chân không, một máy bơm phân tử tổng hợp, một máy bơm cơ học, van cổng, vv. Buồng chân không thường áp dụng thiết kế hộp hình chữ U, có thể đảm bảo môi trường lớp phủ sạch.Hệ thống hút bụi có thể đạt được độ chân không ≤ 6.67×10−5Pa (sau khi nướng khử khí), giảm can thiệp của không khí vào độ tinh khiết của bộ phim.

Các thành phần bốc hơi và vận chuyển:chủ yếu là các thùng đông tế bào được làm mát bằng nước (thường được thiết kế với bốn hoặc sáu tế bào), ngăn chặn thùng chảy và gây ô nhiễm vật liệu lớp phủ,và có thể chứa nhiều vật liệu khác nhau cùng một lúcKhi kết hợp với một giai đoạn sưởi ấm nền quay, nhiệt độ sưởi ấm nền tối đa có thể đạt 800 °C ± 1 °C.Nó cũng có thể điều chỉnh khoảng cách giữa chất nền và nguồn bay hơi để đảm bảo sự đồng nhất của lớp phim.

Hệ thống đo lường và điều khiển cũng như hệ thống điều khiển điện:Được trang bị bộ điều khiển độ dày phim dao động tinh thể thạch anh, phạm vi hiển thị độ dày phim là 0-99,9999 μm,và một số có thể tùy chọn được trang bị điều khiển độ dày phim quang học tự độngToàn bộ quá trình chân không, nướng, bốc hơi, vv được tự động kiểm soát thông qua PLC và máy tính kiểm soát công nghiệp,và nó cũng bao gồm các mô-đun điều khiển phụ trợ như đo chân không và đường dẫn khí làm việc.

Sau khi thiết bị được khởi động, hệ thống bơm đầu tiên giải phóng buồng chân không đến trạng thái chân không cao để giảm sự phân tán và ô nhiễm của các hạt bay hơi bởi các phân tử khí.

1. Các electron này được tập trung bởi điện cực tập trung và tăng tốc ở cực cực để tạo thành một chùm điện tử năng lượng cao,mà chính xác ném bom vật liệu lớp phủ bên trong thùng với sự trợ giúp của một từ trường.
2. Sau khi hấp thụ năng lượng cao của chùm electron, vật liệu nhanh chóng nóng lên đến nhiệt độ bay hơi hoặc ngưng tụ, tạo thành các hạt khí.
3. Các hạt khí di chuyển lên đến chất nền trong môi trường chân không. Do sức đề kháng nhỏ đối với chuyển động hạt dưới chân không, chúng có thể ngưng tụ đồng đều trên bề mặt chất nền.
4. Trong quá trình sơn, bộ điều khiển độ dày phim theo dõi độ dày lớp phim trong thời gian thực,và hệ thống điều khiển điện điều chỉnh các thông số như sức mạnh chùm electron để đảm bảo rằng độ dày lớp phim đáp ứng các yêu cầu đặt trướcSau khi lớp phủ hoàn thành, thùng nghiền có thể được chuyển đổi để đạt được sự lắng đọng phim đa lớp mà không phá hủy môi trường chân không.

Trong quá trình sơn, bộ điều khiển độ dày phim theo dõi độ dày lớp phim trong thời gian thực,và hệ thống điều khiển điện điều chỉnh các thông số như sức mạnh chùm electron để đảm bảo rằng độ dày lớp phim đáp ứng các yêu cầu đặt trướcSau khi lớp phủ hoàn thành, thùng nghiền có thể được chuyển đổi để đạt được sự lắng đọng phim đa lớp mà không phá hủy môi trường chân không.

• Năng lượng tập trung và có thể điều khiển:chùm electron có mật độ năng lượng cao và có thể tác động trực tiếp đến vật liệu.nó không chỉ có thể bay hơi vật liệu với điểm nóng chảy trên 3000 °C như tungsten và molybdenNgoài ra, tốc độ bay hơi có thể được kiểm soát bằng cách điều chỉnh dòng điện tử.
• Khả năng thích nghi lớp phim mạnh:Nó hỗ trợ một nguồn, hai nguồn hoặc ba nguồn bay hơi.có thể chuẩn bị nhiều loại phim như phim hợp kim và phim tổng hợp, và độ ổn định chỉ số khúc xạ của lớp phim cao (δn≤0,005).
• Nó kết hợp sự chuyên nghiệp và linh hoạt:Nó phù hợp với các thí nghiệm lô nhỏ trong nghiên cứu đại học và cũng có thể đáp ứng các yêu cầu của sản xuất lô nhỏ cấp công nghiệp như wafer 6 inch.Nó có thể được vận hành bằng tay hoặc bán tự độngMột số mô hình hỗ trợ điều khiển chương trình để đáp ứng nhu cầu của các kịch bản khác nhau.

Độ tinh khiết và chất lượng của lớp phim là cao:Môi trường chân không kết hợp với các thùng làm mát bằng nước làm giảm ô nhiễm, và độ tinh khiết của lớp phim có thể đạt 99,99% (4N).mật độ của lớp phim cao hơn 30% so với phương pháp bay hơi thông thường, với độ bám chặt mạnh và hiệu suất chống ngọt tuyệt vời.

Hiệu quả bay hơi tốt và khả năng lặp lại:Phạm vi tốc độ lắng đọng rộng (0,1μm/phút - 100μm/phút), có khả năng chuẩn bị lớp mỏng và lắng đọng màng dày.và một lớp phim nhất quán có thể được sản xuất ổn định dưới cùng một thông số.

Tỷ lệ sử dụng vật liệu cao:So với các công nghệ như phun magnetron, bốc hơi chùm electron có tỷ lệ sử dụng vật liệu cao hơn, giảm mất vật liệu.Các thùng nấu nhiều tế bào có thể tránh thay thế vật liệu thường xuyên, do đó tăng hiệu quả lớp phủ.

Trong lĩnh vực quang học,nó là thiết bị cốt lõi cho lớp phủ các thành phần quang học như ống kính laser, ống kính kính và kính kiến trúc. Nó có thể chuẩn bị các tấm quang học như SiO2 và TiO2,tăng cường truyền ánh sáng, hiệu suất phản xạ hoặc lọc của các thành phần.

Trong lĩnh vực bán dẫn và điện tử:Nó được sử dụng để chuẩn bị các tấm mỏng cho các thành phần quang học bán dẫn, thiết bị MEMS, photodiode, vv, cũng như sản xuất kính dẫn điện và phim mỏng bán dẫn,và tương thích với các quy trình công nghiệp như wafer 6 inch.

Trong lĩnh vực năng lượng mới và cảm biến:Phim chống phản xạ cho các thiết bị quang điện và phim chức năng cho các cảm biến chính xác (như cảm biến oxit kim loại,cảm biến tia cực tím / hồng ngoại) được chuẩn bị để đảm bảo hiệu quả chuyển đổi quang điện và độ nhạy phát hiện của các thiết bị.

Trong lĩnh vực nghiên cứu khoa học và giảng dạy:Nó đã trở thành một thiết bị quan trọng cho các trường cao đẳng và đại học cũng như các tổ chức nghiên cứu để nghiên cứu phim mỏng sắt điện, vật liệu piezoelectric, v.v.Nó có thể thực hiện các thí nghiệm chuẩn bị của phim một lớp, phim đa lớp và phim doped, và hỗ trợ trong nghiên cứu và phát triển các vật liệu mới.