<
>
Σύνθετη μηχανή επικαλύψεως με εξατμίωση δέσμης ηλεκτρονίων υψηλής ακρίβειας για ευέλικτες εφαρμογές οπτικής επικαλύψεως
Σύνθετη μηχανή επικαλύψεως με εξατμίωση δέσμης ηλεκτρονίων υψηλής ακρίβειας για ευέλικτες εφαρμογές οπτικής επικαλύψεως
Τόπος καταγωγής:Zhaoqing, Γκουανγκντόνγκ
Επωνυμία:Zhongda
Πιστοποίηση:CE
Ελάχιστη ποσότητα παραγγελίας:1
Χρόνος Παράδοσης:45-60 εργάσιμες ημέρες
Λεπτομέρειες προϊόντος
Επισημαίνω:
Μηχανή εξάτμισης μικρών δέσμων ηλεκτρονίων
,εξοπλισμός οπτικής επικάλυψης PVD
,Μηχανή επικαλύψεως με δέσμη ηλεκτρονίων
Control System:
Πλήρη αυτόματη, ημι αυτόματη, χειροκίνητη
Coating Process:
Εξάτμιση υπό κενό
Rotation Stand:
2 σετ
Server:
ανοιχτόφρονα
Dimensions:
Περίπου 2000mm x 1500mm x 1800mm
Cooling Method:
Υδροψύξη
Coating Transparency:
Ψηλά
Coating Thickness:
Ευκανόνιστος
Chamber Material:
Ανοξείδωτο ή Ανθρακούχο Χάλυβα
Pumptype:
Περιστροφική αντλία πτερυγίων + αντλία διάχυσης
Voltage:
380V, 50Hz ή Custom Made
Coating Technology:
Εξάτμιση
Coating Temperature:
Ευκανόνιστος
Evaporation Power Supply:
1 σετ
Rotation System:
2 σετ
Περιγραφή προϊόντος
Λεπτομερείς προδιαγραφές και χαρακτηριστικά
Μηχανές επικάλυψης μικρών ηλεκτρονικών ακτίνων με εξάτμιση
Βασικές τεχνικές προδιαγραφές
| Κατηγορία παραμέτρου | Λεπτομέρειες |
|---|---|
| Δυνατότητα υποστρώματος | Μέγιστο μέγεθος: Μέχρι 6 ίντσες (150 mm) · Συμβατό με πλακέτες 2 "/4"/6" / οπτικά εξαρτήματα· Ελάχιστο μέγεθος: 10 × 10 mm |
| Δυνατότητα κενού | Τελικό κενό: ≤ 1×10−6 Torr (1,3×10−4 Pa); Χρόνος άντλησης: λεπτά έως 5×10−6 Torr; Ταχύτητα διαρροής: 10−3 Pa*L/s (Δοκιμή διαρροής) |
| Σύστημα εξάτμισης | Δύναμη δέσμης ηλεκτρονίων: 250W-10kW; Αριθμός χωνευτήρων/τσέπες: 4-8; Στήριξη ράβδου (μέγιστο φ4mm) και πρώτης ύλης χωνευτήρα (1-15cc) |
| Έλεγχος διαδικασιών | Θερμοκρασία υποστρώματος: RT-500°C (ακριβότητα ±1°C), ταχύτητα περιστροφής: 2-20 σ/min, ανιχνευτής πάχους φιλμ: QCM (0,01 nm/s ανάλυση) |
| Ποιότητα ταινίας | Ομοιομορφία: ±1%-±3%· Συσχέτιση: Ακολουθεί το πρότυπο ASTM D3359 4B· Ταχύτητα αποθέσεως: 0,1-10 nm/s |
| Συμφωνία | Υλικά: Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2 (υποστηρίζει AR/AF/αντανάκλαση) |
| Φυσικές Διαστάσεις | Αποτύπωση: 1-3 × 3,0 m· ύψος: 2,5 - 3,5 m· βάρος: < 800 kg (μοντέλα επιφάνειας εργασίας/πετραπέζιου) |
| Ηλεκτρική τροφοδοσία | Μονό/τρίφαση: 220V/380V, 50/60Hz· κατανάλωση ισχύος: 1,2 kW-10 kW |
Κύρια πλεονεκτήματα
Συμπίεση και εξοικονόμηση χώρου
- Δισκογραφική δομή/μονταλοποιημένη δομή με πρότυπο Korvus HEX-800, ιδανική για εργαστηριακές/ερευνητικές εγκαταστάσεις
- Εύκολη ενσωμάτωση με γάντια για διαδικασίες αδρανής ατμόσφαιρας
- Η ελαφριά κατασκευή και η αντικατάσταση της μονάδας χωρίς εργαλεία μειώνουν το κόστος εγκατάστασης και συντήρησης
Υψηλής ακρίβειας και αξιόπιστης επικάλυψης
- Η τεχνολογία εστίασης δέσμης ηλεκτρονίων επιτρέπει την εναπόθεση ανθεκτικών μετάλλων (Pt, W) και διηλεκτρικών υλικών
- 0.01nm/s έλεγχος πάχους με ομοιομορφία ταινίας ± 1% (αρχηγός στον κλάδο για εξοπλισμό μικρής κλίμακας)
- Η πηγή ιόντων Hall + προκαθαρισμός πλάσματος Ar βελτιώνει την προσκόλληση του φιλμ ( βαθμός 4B) και την πυκνότητα
- Ακολουθεί τις απαιτήσεις απόδοσης των οπτικών εξαρτημάτων (π.χ. ταινίες AR με διαπερατότητα > 95%)
Πολυδιάστατη και ευέλικτη προσαρμογή διαδικασιών
- Υποστηρίζει 4-8 χωνευτήρια/τσέπες για συν-ατμορύπανση πολλαπλών υλικών
- Γρήγορη μετάβαση μεταξύ μεταλλικών, οξειδίων και οργανικών ταινιών (AF/AR/αντανάκλαση/προστατευτικές επικάλυψεις)
- Συμβατό με υποστρώματα 2 έως 6 ιντσών (ουσίδες, φακοί, οπτικές ίνες)
- Προσαρμόσιμα εξαρτήματα (κουπίλος/knudzin/πίνακα) για 2D/3D εξαρτήματα
Ευφυής και φιλική προς το χρήστη λειτουργία
- Σύστημα ελέγχου PLC + οθόνης αφής με παρακολούθηση διαδικασιών σε πραγματικό χρόνο
- Προπρογραμματισμένες βιβλιοθήκες διεργασιών για γρήγορη ρύθμιση
- Η ενεργειακά αποδοτική σχεδίαση της κρυοαντλίας/μαγνητικής ανάρτησης μοριακής αντλίας μειώνει την κατανάλωση ενέργειας κατά 30% σε σύγκριση με τα παραδοσιακά συστήματα
Αποδοτική από άποψη κόστους για την Ε&Α και την παραγωγή μικρών παρτίδων
- Χαμηλή αρχική επένδυση με υψηλό στόχο ποσοστό αξιοποίησης (> 70%) και ελάχιστη απόρριψη υλικών
- Διορθωτικό για την κατασκευή πρωτότυπων για την κατασκευή μικρών παρτίδων (έως 10.000 τεμάχια/έτος)
- Πολυλειτουργική ολοκλήρωση (ατμιστική ενέργεια ηλεκτρονικής δέσμης + προαιρετική ψεκασμός) εξαλείφει την ανάγκη για πολλαπλές συσκευές
Βασικές λειτουργίες
Ακριβής Θέρμανση και Εξάτμιση
- Ακτίνες ηλεκτρονίων υψηλής ενέργειας βομβαρδίζουν τις επιφάνειες του υλικού-στόχου, θερμαίνοντας το υλικό σε λιωμένη ή εξατμισμένη κατάσταση
- Η συγκεντρωμένη ενέργεια και η υψηλή θερμική απόδοση επιτρέπουν την εξάτμιση πυρόστακτων υλικών (τουλφρένιο, μολυβδένιο, τιτάνιο, SiO2, TiO2)
- Αποφεύγει τη μόλυνση του υλικού-στόχου από πηγή θέρμανσης
- Υποστηρίζει την εναλλαγή υλικών πολλαπλών στόχων (2-6 θέσεις χωνευτήρων) για συνεχή εναπόθεση μονοστρωμάτων και πολυστρωμάτων ταινιών
Ακριβής έλεγχος πάχους ταινίας
- Ενσωματωμένος ανιχνευτής πάχους ταινίας κρυστάλλου του χαλαζιού για την παρακολούθηση του ρυθμού εναπόθεσης και του πάχους σε πραγματικό χρόνο
- Ακρίβεια ελέγχου σε επίπεδο νανομέτρου (± 0,1nm) για υπεραπλές λειτουργικές ταινίες
- Προγραμματιζόμενο σύστημα ελέγχου με προκαθορισμένες παραμέτρους εναπόθεσης (δύναμη δέσμης ηλεκτρονίων, βαθμός κενού, ρυθμός εναπόθεσης)
- Η αυτοματοποιημένη επικάλυψη εξασφαλίζει τη συνέπεια της στρώσης ταινίας παρτίδας
Εγγύηση περιβάλλοντος υψηλού κενού
- Μηχανική αντλία + μονάδα κενού μοριακής αντλίας μειώνει την κοιλότητα σε περιβάλλον υψηλού κενού 10−4~10−6 Pa
- Μειώνει τη διάσπαση των μορίων αερίων και τη μόλυνση των εξατμισμένων σωματιδίων
- Διασφαλίζει ότι τα στρώματα φιλμ έχουν υψηλή καθαρότητα, καλή πυκνότητα και ισχυρή προσκόλληση
Προσαρμογή μικρού μεγέθους εργαστηρίου
- Ειδικά σχεδιασμένα για μικρά εργαλεία με περιστρεφόμενο τραπέζι εργαλείων
- Βελτιώνει την ομοιομορφία της στρώσης επικάλυψης σε όλα τα υποστρώματα
- Για υποστρώματα που κυμαίνονται από χιλιοστά έως δεκάδες χιλιοστά (παλίδες, οπτικοί φακοί, τσιπάκια, συστατικά αισθητήρων)
- Υποστηρίζει την επικάλυψη της επιφάνειας, του φύλλου και των μικρών τμημάτων
Μήνυμα για γρήγορη απάντηση
Σχετικά Προϊόντα