Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

Kompaktna wysokoprecyzyjna maszyna do pokrycia wyparzeniowym wiązki elektronów do wszechstronnych zastosowań powłoki optycznej

Kompaktna wysokoprecyzyjna maszyna do pokrycia wyparzeniowym wiązki elektronów do wszechstronnych zastosowań powłoki optycznej
Miejsce pochodzenia:Zhaoqing, Guangdong
Nazwa marki:Zhongda
Orzecznictwo:CE
Minimalna ilość zamówienia:1
Czas dostawy:45-60 dni roboczych
Szczegóły produktu
Podkreślić:

małe urządzenie do parowania wiązki elektronów

,

urządzenia PVD do powłoki optycznej

,

maszyna do powlekania wiązką elektronów

Control System: W pełni automatyczny, półautomatyczny, manualny
Coating Process: Odparowanie próżniowe
Rotation Stand: 2 zestawy
Server: otwartość
Dimensions: Około. 2000 mm x 1500 mm x 1800 mm
Cooling Method: Chłodzenie wodne
Coating Transparency: Wysoki
Coating Thickness: Nastawny
Chamber Material: Stal nierdzewna lub stal węglowa
Pumptype: Obrotowa pompa łopatkowa + pompa dyfuzyjna
Voltage: 380 V, 50 Hz lub wykonane na zamówienie
Coating Technology: Odparowanie
Coating Temperature: Nastawny
Evaporation Power Supply: 1 zestaw
Rotation System: 2 zestawy
Opis produktu
Szczegółowe specyfikacje i cechy
Małe maszyny do pokrycia z parowaniem wiązki elektronów
Podstawowe specyfikacje techniczne
Kategoria parametrów Szczegóły
Pojemność podłoża Maksymalny rozmiar: do 6 cali (150 mm); Kompatybilny z płytkami 2 "/4"/6" / komponentami optycznymi; Min rozmiar: 10 × 10 mm
Wydajność w próżni Maksymalna próżnia: ≤ 1×10−6 Torr (1,3×10−4 Pa); Czas pompowania: minuty do 5×10−6 Torr; Prędkość wycieku: 10−3 Pa*L/s (test wycieku)
System parowania Moc wiązki elektronów: 250W-10kW; Liczba tyglików/kieszeni: 4-8; Wsparcie pręta (maksymalnie φ4mm) i surowca tyglika (1-15cc)
Kontrola procesów Temperatura podłoża: RT-500°C (dokładność ±1°C); Prędkość obrotu: 2-20 obrotów/min; Monitor grubości folii: QCM (0,01 nm/s rozdzielczość)
Jakość filmu Jednorodność: ±1%-±3%; Przyczepność: spełnia standard ASTM D3359 4B; Prędkość osadzenia: 0,1-10 nm/s
Zgodność Materiały: Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2
Wymiary fizyczne Odcisk: 1-3 × 3,0 m; Wysokość: 2,5 - 3,5 m; Waga: < 800 kg (modele biurowe / stołowe)
Zasilanie Jednorazowa/trójfazowa: 220V/380V, 50/60Hz; zużycie energii: 1,2 kW-10 kW
Główne zalety
Kompaktny i oszczędny w przestrzeni projekt
  • Konstrukcja biurowa/modularna z normą Korvus HEX-800, idealna do zastosowań laboratoryjnych/badawczych
  • Łatwa integracja z pudełkami do rękawiczek do procesów w atmosferze obojętnej
  • Ograniczenie kosztów instalacji i utrzymania
Wysoce precyzyjne i niezawodne powlekanie
  • Technologia skupiania wiązki elektronów umożliwia osadzanie ogniotrwałych metali (Pt, W) i materiałów dielektrycznych
  • 0.01nm/s kontrola grubości z jednolitością folii ± 1% (przywódczy w branży dla urządzeń małych rozmiarów)
  • Źródło jonów Hall + wstępne czyszczenie plazmy Ar zwiększa przyczepność i gęstość folii (stopień 4B)
  • Spełnia wymagania dotyczące wydajności komponentów optycznych (np. folie AR o przepuszczalności > 95%)
Wszechstronna i elastyczna adaptacja procesów
  • Wspiera 4-8 tyglików/kieszeni do współparowania wielomateriałów
  • Szybkie przełączanie pomiędzy warstwami metalowymi, tlenkowymi i organicznymi (AF/AR/odbijające/ochronne powłoki)
  • Kompatybilne z podłożami o średnicy 2-6 cali (wafery, soczewki, włókna optyczne)
  • Zastosowalne elementy (kopuła/knudzin/płytka) do komponentów 2D/3D
Inteligentna i przyjazna dla użytkownika obsługa
  • System sterowania PLC + ekran dotykowy z monitorowaniem procesu w czasie rzeczywistym
  • Biblioteki procesów zaprogramowane do szybkiego ustawienia
  • Energooszczędna konstrukcja pompy krypopumpy/pompy molekularnej z zawieszeniem magnetycznym zmniejsza zużycie energii o 30% w porównaniu z tradycyjnymi systemami
Efektywność kosztowa w zakresie badań i rozwoju oraz produkcji w małych partiach
  • Niska inwestycja początkowa z wysokim docelowym wskaźnikiem wykorzystania (> 70%) i minimalnym odpadem materiałów
  • Odpowiednie do prototypowania do produkcji małych partii (do 10 000 sztuk/rok)
  • Wielofunkcyjna integracja (wyparowanie wiązki elektronicznej + opcjonalne rozpylanie) eliminuje potrzebę stosowania wielu urządzeń
Podstawowe funkcje
Precyzyjne ogrzewanie i parowanie
  • Wysokoenergetyczne wiązki elektronów bombardują powierzchnie materiału docelowego, ogrzewając je do stanu stopionego lub odparowanego
  • Koncentrowana energia i wysoka sprawność cieplna umożliwiają odparowanie materiałów ogniotrwałych (wolfram, molibden, tytan, SiO2, TiO2)
  • Unika skażenia materiału docelowego przez źródło ogrzewania
  • Wspiera przełączanie materiału wielocielowego (2-6 pozycji kota) do ciągłego odkładania filmów jedno- i wielowarstwowych
Dokładna kontrola grubości folii
  • Wbudowany monitor grubości folii kryształowej kwarcu do monitorowania szybkości osadzenia i grubości w czasie rzeczywistym
  • Dokładność kontroli na poziomie nanometru (± 0,1 nm) dla ultracienkiej folii funkcjonalnej
  • System sterowania programowalny z ustawionymi wcześniej parametrami osadzenia (moc wiązki elektronów, stopień próżni, szybkość osadzenia)
  • Automatyczne powlekanie zapewnia spójność warstwy foliowej partii
Gwarancja środowiska o wysokiej próżni
  • Pompa mechaniczna + jednostka próżniowa pompy molekularnej zmniejsza próżnię do 10−4~10−6 Pa
  • Zmniejsza rozpraszanie się cząsteczek gazu i zanieczyszczenie odparowanych cząstek
  • Zapewnia wysoką czystość, dobrą gęstość i silną przyczepność warstw folii
Przystosowanie drobnego przedmiotu do pracy
  • Pozostałe maszyny, z wyłączeniem tych objętych pozycją 8528
  • Poprawia jednolitość warstwy powłoki na wszystkich podłogach
  • Odpowiednie do podłoża o wymiarach od milimetrów do kilkudziesięciu milimetrów (wafery, soczewki optyczne, układy, komponenty czujników)
  • Wspiera powłokę mocu powierzchni, arkusza i małych części
Wiadomość do szybkiej odpowiedzi
Powiązane produkty