<
>
Компактная высокоточная электронная машина для испарения лучей для многофункционального оптического покрытия
Компактная высокоточная электронная машина для испарения лучей для многофункционального оптического покрытия
Место происхождения:Чжаоцин, Гуандун
Название бренда:Zhongda
Сертификация:CE
Минимальное количество заказа:1
Срок поставки:45-60 рабочих дней
Детали продукта
Выделить:
Маленькая машина для испарения электронного луча
,оборудование для оптического покрытия PVD
,электронная лучевая покрывающая машина
Control System:
Полноавтоматический, полуавтоматический, ручной
Coating Process:
Вакуумное испарение
Rotation Stand:
2 комплекта
Server:
открытый
Dimensions:
Прибл. 2000 мм х 1500 мм х 1800 мм
Cooling Method:
Водяное охлаждение
Coating Transparency:
Высокий
Coating Thickness:
Регулируемый
Chamber Material:
Нержавеющая сталь или углеродистая сталь
Pumptype:
Пластинчато-роторный насос + диффузионный насос
Voltage:
380 В, 50 Гц или на заказ
Coating Technology:
Испарение
Coating Temperature:
Регулируемый
Evaporation Power Supply:
1 комплект
Rotation System:
2 комплекта
Описание продукта
Подробные спецификации и характеристики
Маленькие электронные лучевые испарения покрывающие машины
Основные технические спецификации
| Категория параметров | Подробная информация |
|---|---|
| Пропускная способность подложки | Максимальный размер: до 6 дюймов (150 мм); совместим с 2 "/4"/6" пластинами / оптическими компонентами; Минимальный размер: 10 × 10 мм |
| Производительность вакуума | Ультимативный вакуум: ≤ 1×10−6 Torr (1,3×10−4 Pa); Время перекачки: минуты до 5×10−6 Torr; Скорость утечки: 10−3 Pa*L/s (испытание утечки) |
| Система испарения | Мощность электронного луча: 250W-10kW; Количество тигров/жабов: 4-8; Поддерживающий стержень (макс φ4mm) & сырье тигрова (1-15cc) |
| Контроль процессов | Температура субстрата: RT-500°C (точность ±1°C); Скорость вращения: 2-20 оборотов в минуту; Монитор толщины пленки: QCM (0,01 нм/с разрешение) |
| Качество фильма | Однородность: ±1%-±3%; Сцепление: соответствует стандарту ASTM D3359 4B; Скорость осаждения: 0,1-10 нм/с |
| Совместимость | Материалы: Au, Ag, Pt, W, SiO2, TiO2, MgF2, YF3, ZrO2 (поддерживает AR/AF/отражающие пленки) |
| Физические размеры | Отпечаток: 1-3 × 3,0 м; Высота: 2,5-3,5 м; Вес: < 800 кг (модели настольных/стольных столов) |
| Силовое питание | Однофазный/трехфазный: 220V/380V, 50/60Hz; Потребление энергии: 1,2 кВт-10 кВт |
Ключевые преимущества
Компактный и экономичный дизайн
- Настольная/модульная конструкция с стандартом Korvus HEX-800, идеально подходит для лабораторных/исследовательских условий
- Легкая интеграция с перчатками для процессов инертной атмосферы
- Легкая конструкция и замена модуля без инструментов снижают затраты на установку и обслуживание
Высокоточное и надежное покрытие
- Технология фокусировки электронного луча позволяет откладывать огнеупорные металлы (Pt, W) и диэлектрические материалы
- 0Контроль толщины 0,01 нм/с с однородностью пленки ± 1% (лидер в отрасли для малого оборудования)
- Источник ионов Холла + предварительная очистка плазмы Ar повышает адгезию пленки (4B класс) и плотность
- Удовлетворяет требованиям к производительности оптических компонентов (например, AR-пленки с проницаемостью > 95%)
Универсальная и гибкая адаптация процессов
- Поддерживает 4-8 тигров / карман для многоматериальной коэпароляции
- Быстрый переход между металлическими, оксидными и органическими пленками (AF/AR/отражающие/защитные покрытия)
- Совместимые с подложками длиной 2-6 дюймов (вафры, линзы, оптические волокна)
- Настраиваемые светильники (купол/knudzin/plate) для 2D/3D компонентов
Интеллектуальная и удобная эксплуатация
- Система управления ПЛК + сенсорным экраном с мониторингом процессов в режиме реального времени
- Заранее запрограммированные библиотеки процессов для быстрой настройки
- Энергоэффективный дизайн криопампы / магнитного молекулярного насоса с подвеской снижает расход энергии на 30% по сравнению с традиционными системами
Эффективность затрат для НИОКР и производства малых партий
- Низкие первоначальные инвестиции с высоким целевым показателем использования (>70%) и минимальным отходом материалов
- Подходит для создания прототипов для производства небольших партий (до 10 000 штук в год)
- Многофункциональная интеграция (выпаривание электронного луча + опциональное распыливание) исключает необходимость использования нескольких устройств
Основные функции
Точный нагрев и испарение
- Высокоэнергетические электронные лучи бомбардируют поверхности целевого материала, нагревая до расплавленного или испаренного состояния
- Концентрированная энергия и высокая тепловая эффективность позволяют испарять огнеупорные материалы (вольфрам, молибден, титан, SiO2, TiO2)
- Избегает загрязнения целевого материала источником нагрева
- Поддерживает переключение многоцелевого материала (2-6 позиций тигрова для непрерывного отложения однослойных и многослойных пленок)
Точный контроль толщины пленки
- Встроенный кварцевый кристаллический монитор толщины пленки для мониторинга скорости осаждения и толщины в реальном времени
- Точность контроля на уровне нанометров (± 0,1 нм) для ультратонких функциональных пленок
- Программируемая система управления с заранее установленными параметрами осаждения (мощность электронного пучка, степень вакуума, скорость осаждения)
- Автоматическое покрытие обеспечивает консистенцию слоя пленки партии
Гарантия высокой вакуумной среды
- Механический насос + вакуумный модуль молекулярного насоса уменьшает полость до 10−4~10−6 Pa высокой вакуумной среды
- Уменьшает рассеивание молекул газа и загрязнение испаренных частиц
- Обеспечивает высокую чистоту слоев пленки, хорошую плотность и сильную адгезию
Приспособление небольших деталей
- Специально предназначенные для небольших деталей с вращающимся столом для деталей
- Улучшает однородность слоя покрытия на всех подложках
- Подходит для подложки в диапазоне от миллиметров до десятков миллиметров (вофы, оптические линзы, чипы, компоненты датчиков)
- Поддерживает покрытие поверхностной установки, листа и небольших частей
Сообщение для быстрого ответа
Сопутствующие товары
Машина для низкозатратного вакуумного оптического покрытия с полностью автоматическим управлением и технологией покрытия E-Beam
Low Cost Vacuum E-Beam PVD Machine Optical Coating Machine with Fully Auto Control Product Overview Model: ZD-2150GX Vacuum Optical Coating Machine The optical vacuum coating machine is suitable for coating precision optical films including AR, superhard AR, BBAR film, high reflection film, UV/IR ...
Оптическая электроновая покрывающая машина с точным мониторингом, индивидуальным размером камеры и высокочистыми материалами покрытия
Optical Electron Beam Coating Machine Advanced vacuum coating equipment providing precise monitoring and adaptability for various optical component coatings with superior performance characteristics. Core Characteristics Compared with conventional resistance heating and small electronic beam coating ...
Машины для покрытия оптических линз электронными лучами Вакуумные покрытия для покрытия металлических линз
warranty 1 Year machine type Spray Booths, Painting Equipment, Pre-treatment Equipment, Conveying Equipment, Drying Oven, Curing oven, Coating Equipment type Coating Production Line voltage 380V or Customizable coating Vacuum Coating core components PLC, Pressure vessel, Gear, Pump, vacuum machine ...
Большое оборудование для оптического покрытия электронными лучами с испарением для машины для покрытия пвд
I. Core Structure Vacuum system (Basic guarantee for coating) Vacuum chamber Vacuum pump set Vacuum measurement and control. Electron beam system (Energy supply core) Electron emission source Focusing and deflection device Power control module. Evaporation deposition System (Key to film formation) ...
