커스터마이징 가능한 고정도 반사 필름 (AR 필름) 전자기 빔 코팅 기계

• 진공 시스템: 분자 펌프 + 뿌리 펌프 + 기계 펌프 조합, 진공 측정 장치, 진공 방.
• 전자 총 시스템:카토드 (탄탈무선/통프스텐무선), 애노드, 초점 코일, 기울기 코일, 전자 빔 스캐너
• 선반 물질 증발 시스템:크라이블, 막물물 공급 메커니즘, 반 스프터링 보호 덮개.
• 작업 부품 래크 및 전송 시스템:행성 작업 조각 래크 (자신 회전 + 회전), 난방 장치 (인프라레드 / 저항 난방)
• 필름 두께 모니터링 시스템:쿼츠 크리스탈 오시슬레이션 모니터 (QCM), 광적 간섭 모니터
• C제어 시스템:PLC 터치 스크린, 상부 컴퓨터 소프트웨어, 안전 잠금 장치

진공 준비 단계:진공 방의 문을 닫고 진공 시스템을 시작하여 궁극적인 진공 (≤5×10−5 Pa) 으로 진공하고 동시에 heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

막물물 증발 단계:전자 총은 PLC에 의해 활성화됩니다. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucible전자 빔의 운동 에너지는 열 에너지로 변환되어 막 물질이 증발 온도 (SiO2의 약 1700°C, TiO2의 약 2200°C) 에 도달하게됩니다.그리고 나서 기체 입자로 증발합니다.

필름 퇴적 단계:가시 필름 물질 입자는 진공 환경에서 기판으로 확산되고 기판 표면에 흡수, 이주 및 응고하여 연속 필름을 형성합니다.작업 부품 랙은 가스 입자가 자기 회전과 반전을 통해 기저 표면을 균일하게 덮는 것을 보장합니다, 지역 두께 오차를 피합니다.

코팅의 마지막 단계:모든 필름 층이 퇴적된 후 30~60분 동안 진공 환경에서 냉각시켜야 합니다 (대온 차이로 인한 필름 층의 내부 스트레스를 피하기 위해서)그 다음 천천히 정상 압력으로 가스를 풀고 작업 부품을 제거이 모든 과정에서 the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤0400~700nm 가시광선 대역에서 0.5%).

• 필름 레이어는 높은 정밀도를 가지고 있으며 AR 필름의 핵심 요구 사항을 충족합니다.필름 두께 균일성 ≤±2% 및 굴절 지수 제어 정확성 ±0005나노 스케일 필름 두께 조절 (최저 퇴적 두께 0.1nm) 을 지원합니다.
• 막 재료는 강한 호환성을 가지고 있으며 AR 필름의 주류 재료를 포함합니다.AR 필름의 일반적으로 사용되는 막 물질을 안정적으로 증발시키고 다른 막 물질의 번갈아 퇴적을 지원 할 수 있습니다.다층 복합 AR 필름의 설계 요구 사항을 충족합니다..
• 대량 생산 시나리오에 적합한 높은 자동화 수준:전체 프로세스 PLC 제어, 포뮬러 저장 및 빠른 전환을 지원, 생산 효율은 일반 코팅 기계에 비해 30% 이상 증가합니다.
• 진공 환경이 깨끗하고 필름 레이어 품질이 안정적입니다.최후 진공 정도가 높고 (≤5×10−5 Pa) 잔류 가스 함량이 낮아서 필름 층의 거품과 불순물을 줄일 수 있습니다.AR 필름의 광전도 안정성 (-40°C ~ 85°C의 환경에서) 은 20% 증가합니다., 그리고 안개 는 ≤0.1% 입니다.
• 그것은 넓은 기판 적응력을 가지고 있으며 여러 시나리오의 요구를 충족합니다.그것은 유리, 樹脂, 사파이어, 금속과 같은 다른 기판에 AR 필름을 준비 지원 합니다.필름 계층과 기판 사이에 강한 접착이 가능합니다..

• 그것은 높은 녹는점 AR 막 재료 (TiO2 및 ZrO2와 같은) 의 안정적인 증발의 문제를 해결했으며, 다층 광대역 AR 막을위한 선호되는 준비 장비입니다.
• 필름 레이어의 정확성과 안정성은 저항 가열 코팅 기계의 정확성과 안정성을 훨씬 뛰어넘습니다.카메라 렌즈와 레이저 렌즈와 같은 고급 광학 제품의 AR 필름 요구 사항을 충족합니다..
• 대량 생산 효율과 비용 통제는 마그네트론 스프터링 코팅 기계보다 우월하므로 소비 전자제품과 같은 대규모 응용 시나리오에 적합합니다.태양광, 그리고 자동차.

1. 소비자 전자 분야 (최대의 응용 시장)
   휴대폰/태블릿/컴퓨터 디스플레이 화면; 카메라 렌즈/모바일 폰 렌즈; 스마트워치/VR 장치 렌즈
2. 광학 기기 분야
   현미경/망원경 렌즈; 레이저 장비 렌즈 (CO2 레이저 렌즈, 섬유 레이저 렌즈 등)
3. 태양광 에너지 필드
   태양광 유리; 집중 태양 시스템 (CSP)
4. 자동차 및 항공 우주 분야
   자동차 앞창/창문; 항공기 창문/항공 거울
5. 다른 특별 분야
   의료 광학 장비 (내시경 렌즈, 외과 현미경 등); 디스플레이 패널 (OLED, 미니 LED 등)