| 구성 요소 | 사양 |
|---|---|
| 진공실 | φ800×H900mm |
| 가열 방법 | 위쪽, 옆, 아래쪽 (선택) |
| 고 진공 시스템 | 분자 펌프, 분산 펌프, 냉동 펌프 (선택) |
| 낮은 진공 시스템 | 건조 펌프, 직류 펌프, 뿌리 펌프, 회전 펌프 (선택) |
| 제어 시스템 | 산업용 컴퓨터 터치 스크린 완전 자동 제어 |
| 크리스탈 필름 두께 모니터 | 인피콘 XTC-3, SQC310, 상하이 MXC-3B |
| 이온 소스 | RF 이온 소스, 홀 이온 소스, 카우프만 이온 소스, 홀로 카토드 이온 소스 (선택) |
| 작업 조각의 회전 | 우산 작업장치, 롤러 작업장치 (선택) |
| 전자 총 | 단일, 이중, 다중 위치 (선택) |
| 냉동 단위 | 여러 공급자 (선택) |
| 탐사 시스템 | 단일, 6점 및 12점 회전 센서 (선택) |
| 극심 한 압력 | ≤8.0×10−5Pa (표본 및 코팅 물질이 없는 정상 온도에서 깨끗한 진공 챔버) |
| 증기 차단 시스템 | 유닛 블록, 두 위치 블록 및 여러 위치 로터리 블록 (선택) |
| 진공 압력 유지 | 높은 밸브를 닫고 1시간 후에 진공도 ≤9×10−2Pa |
| 필요한 전원 공급 장치 | 3단계 전력, 380V, 50HZ |
| 물 압력 필요 | 0.3-0.4Mpa |
| 장비 무게 | 3T-4T |
| 공기 압력 필요 | 0.6-0.8Mpa |