전자 빔 광학 코팅 기계는 정밀 광학 제조 분야에서 핵심 장비입니다. 그것은 녹기, 증발,고 녹는점 광학 물질을 이온화, 그 다음 증발 된 물질을 기판 표면에 퇴적하여 초 얇고 균일하고 고성능 광학 필름을 형성합니다.이 필름은 반사 필름과 같은 광학 부품에 널리 사용됩니다., 고 반사 필름, 필터 필름, 양극화 필름, 광학, 전자, 항공우주 및 반도체와 같은 산업의 장치에 필수적입니다.
진공 환경의 창조
전체 코팅 프로세스는 고 진공 챔버에서 수행됩니다. 이 환경은 두 가지 중요한 목적을 수행합니다.
증발 된 물질이 공기와 반응하거나 가스 분자에 의해 흩어지는 것을 방지하여 필름 순도를 보장합니다.
증발 된 원자 / 분자와 가스 분자 사이의 충돌을 줄여 증기가 기판에 부드럽게 도달하여 밀도가 높은 필름을 형성 할 수 있습니다.
전자 빔 생성 및 가속
전자 총은 열성 방출을 통해 전자를 생성합니다. 전자는 높은 운동 에너지를 얻기 위해 고전압 전기장으로 가속됩니다.
목표물 가열 및 증발
고에너지 전자선은 자기 렌즈에 의해 집중되고 표적 물질의 표면에 향합니다.전자의 운동 에너지는 목표물과 충돌할 때 열 에너지로 변환됩니다., 재료를 증발 온도까지 빠르게 가열합니다 (알루미나와 같은 2000°C 이상의 녹는점의 재료에도 불구하고).그 다음 물질은 원자들로 구성된 고밀도 증기로 증발합니다, 분자, 또는 이온.
증기 퇴적 및 필름 형성
증발된 물질 입자는 진공 방에서 직선으로 움직이고 회전 기판의 표면에 퇴적됩니다. 입자가 축적됨에 따라그들은 특정 구조와 광학적 특성을 가진 얇은 필름을 형성합니다..
현장 모니터링 및 제어
코팅 과정에서 쿼츠 크리스탈 마이크로 밸런스 또는 광적 모니터링 시스템은 필름 두께와 굴절 지수를 실시간으로 추적하는 데 사용됩니다.시스템은 제어 장치에 데이터를 다시 공급, 이는 필름이 설계 요구 사항을 충족하도록 전자 빔 전력, 기판 온도 및 퇴적 속도와 같은 매개 변수를 조정합니다.
고 녹는점 소재의 높은 증발 효율성
전자 빔은 직접적으로 표적을 가열하여 ~ 3000°C 이상의 녹는점을 가진 물질의 증발을 가능하게 합니다.
높은 필름 순수성
진공 환경과 접촉 없는 가열은 필름의 불순물을 최소화합니다.
정확 한 두께 조절
인시투 모니터링 시스템과 조절 가능한 전자 빔 전력은 필름 두께 제어 정확도를 ±0.1 nm까지 허용하여 다층 광 필름의 요구 사항을 충족시킵니다.
광범위한 재료 호환성
산화물, 플루오라이드 금속, 심지어 세라믹과도 호환이 가능해 적용 범위가 넓어집니다.
높은 매출율
퇴적 속도는 1~10nm/s까지 도달하여 대량 광학 부품의 생산 효율성을 향상시킵니다.
광통신
광섬유와 광 결합기에 얇은 필름의 코팅, 빛 전송 중에 낮은 신호 손실을 보장합니다.
소비자 전자제품
스마트폰/랩톱 스크린에 반사 (AR) 필름. 카메라 모듈에 대한 적외선 (IR) 차단 필터.
항공우주 및 국방
위성 광학 망원경용 반사력 높은 필름. 항공기 앞창의 얼음 방지 및 안개 방지 광학 필름.
반도체 및 광전자
마이크로칩용 다이렉트릭 필름. 광발사 다이오드용 얇은 필름 코팅.
질문: 기계는 조작이 어렵나요?
A: 전혀 아닙니다. 기계는 두 가지 방법으로 작동합니다. 수동으로 작동하는 것과 자동으로 작동하는 것입니다.
자동 프로세스 하에서, 기계는 자동으로 시작 하 고 전체 프로세스를 자체적으로 완료 합니다.
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