Máquina de revestimento por feixe de elétrons dedicada a filmes antirreflexo (filme AR) personalizáveis de alta precisão

• Sistema de vácuo: Combinação de bomba molecular + bomba de raízes + bomba mecânica, instrumento de medição de vácuo, câmara de vácuo.
• Sistema de arma de elétrons:catodo (fios de tântalo/fios de tungstênio), ânodo, bobina de foco, bobina de deflexão, scanner de feixe de elétrons.
• Sistema de evaporação do material da membrana:Mecanismo de alimentação de material de crisol, membrana, cobertura de blindagem anti-espuma.
• Estaca e sistema de transmissão da peça:Estaca planetária para peças de trabalho (auto-rotação + revolução), dispositivo de aquecimento (aquecimento por infravermelho/resistência).
• Sistema de controlo da espessura da película:Monitor de oscilação de cristais de quartzo (QCM), monitor de interferência óptica.
• CSistema de controlo:PLC touch screen, software superior, dispositivo de bloqueio de segurança.

Fase de preparação do vácuo:Fechar a porta da câmara de vácuo, iniciar o sistema de vácuo para evacuar até ao vácuo máximo (≤ 5 × 10−5 Pa) e, ao mesmo tempo, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

Fase de evaporação do material da membrana:A arma de elétrons é activada por PLC, o cátodo é aquecido para gerar elétrons térmicos, which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleA energia cinética do feixe de elétrons é convertida em energia térmica, fazendo com que o material da membrana atinja a temperatura de evaporação (cerca de 1700°C para o SiO2 e cerca de 2200°C para o TiO2),e depois evaporam em partículas gasosas.

Fase de deposição do filme:As partículas de material de filme gasoso difundem-se para o substrato num ambiente de vácuo, adsorvem, migram e condensam-se na superfície do substrato, formando uma película contínua.O rack peça de trabalho garante que as partículas gasosas cobrem uniformemente a superfície da base através de auto-rotação e revolução, evitando desvios de espessura locais.

Fase final do revestimento:Depois de todas as camadas de filme terem sido depositadas, manter um ambiente de vácuo para arrefecer durante 30 a 60 minutos (para evitar tensões internas nas camadas de filme devido a diferenças de temperatura excessivas),em seguida, liberar lentamente o gás para a pressão normal e remover a peça de trabalhoAo longo de todo o processo, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% na faixa de luz visível de 400 a 700 nm).

• A camada de filme tem alta precisão e atende aos requisitos essenciais dos filmes AR:uniformidade da espessura da película ≤ ± 2% e precisão de controlo do índice de refração ± 0.005Suporta a regulação da espessura da película em nanoescala (espessura mínima de deposição 0,1 nm).
• O material da membrana tem uma forte compatibilidade e cobre os materiais principais dos filmes AR:Pode evaporar de forma estável os materiais de membrana comumente utilizados dos filmes AR e suportar a deposição alternada de diferentes materiais de membrana,que satisfaçam os requisitos de projeto dos filmes AR compostos de várias camadas.
• Alto grau de automação, adequado para cenários de produção em massa:Controle PLC de processo completo, suporte ao armazenamento de fórmulas e comutação rápida, a eficiência de produção é aumentada em mais de 30% em comparação com as máquinas de revestimento gerais.
• O ambiente de vácuo é limpo e a qualidade da camada de filme é estável:O grau de vácuo final é elevado (≤ 5×10−5 Pa) e o teor de gás residual é baixo, o que pode reduzir as bolhas e as impurezas na camada de filme.A estabilidade da transmissão luminosa do filme AR (no ambiente de -40°C a 85°C) é aumentada em 20%, e a neblina é ≤ 0,1%.
• Possui ampla adaptabilidade ao substrato e satisfaz as necessidades de vários cenários:Suporta a preparação de filmes AR em diferentes substratos, como vidro, resina, safira e metal.Pode ser alcançada uma forte adesão entre a camada de filme e o substrato.

• Resolveu o problema da evaporação estável de materiais de membrana AR de alto ponto de fusão (como TiO2 e ZrO2), e é o equipamento de preparação preferido para membranas AR de banda larga de várias camadas.
• A precisão e a estabilidade da camada de filme ultrapassam em muito as das máquinas de revestimento por aquecimento por resistência,satisfazer os requisitos de filme AR dos produtos ópticos de ponta, como lentes de câmara e lentes a laser.
• A eficiência da produção em massa e o controlo dos custos são superiores aos das máquinas de revestimento por pulverização por magnetrão, tornando-a adequada para cenários de aplicação em larga escala, como a electrónica de consumo,Energia fotovoltaica, e automóveis.

1. Área de electrónica de consumo (maior mercado de aplicação)
   Ecrã de ecrã de telemóvel/tablet/computador; lente de câmara/lente de telemóvel; lentes de smartwatch/dispositivo VR.
2. Área de instrumentos ópticos
   Lentes de microscópio/telescópio; lentes de equipamento a laser (como lentes a laser CO2, lentes a laser de fibra).
3. Campo de energia fotovoltaica
   Vidro fotovoltaico; Sistema Solar Concentrado (CSP)
4. Áreas automotivas e aeroespaciais
   Vidros dianteiros de automóveis/janela; janela de avião/espelho de avião.
5. Outros campos especiais
   Equipamento óptico médico (como lentes endoscópicas, microscópios cirúrgicos); painéis de exibição (como OLED, Mini LED).