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Máquina de revestimento por evaporação com feixe de elétrons de canhão eletrônico anular, personalizada para as necessidades do cliente
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Máquina de revestimento por evaporação com feixe de elétrons de canhão eletrônico anular, personalizada para as necessidades do cliente
| Lugar de origem | Guangdong |
| Marca | Lion King |
| Certificação | CE |
Detalhes do produto
Substrato de revestimento:
Metal, vidro, cerâmica, plástico
Aplicação de revestimento:
Decorativo, funcional, protetor
Tamanho da máquina:
Personalizável
Suporte de rotação:
2 conjuntos
Material de Evaporação:
Metal, Liga, Materiais Orgânicos
Sistema de refrigeração:
Resfriamento de água
Material de filme de revestimento:
Au, Ag, Al, Cu, SiO2, etc.
Tamanho da câmara de revestimento:
Personalizado
Eficiência de Revestimento:
Alto
Taxa de depósito:
Rápido
Nível de vácuo:
Alto vácuo
Tamanho de revestimento:
Personalizável
Operação Way:
Tela sensível ao toque
Temperatura de revestimento:
≤200 ℃
Período de garantia:
1 ano
Modo de operação:
Manual/automático
Taxa de deposição de revestimento:
Ajustável
Destacar:
Máquina de evaporação por feixe de elétrons personalizada
,Equipamento de revestimento com canhão eletrônico anular
,Sistema de revestimento com canhão eletrônico óptico
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1
Tempo de entrega
45-60 dias de trabalho
Descrição do produto
I. Composição estrutural
- Sistema de arma de elétrons anulado:Filamento anular (cátodo), ânodo, bobina de foco, bobina de deflexão; O cátodo anular emite elétrons quentes, que são acelerados pelo campo elétrico e focados e defletores pelo campo magnético,Bombardeando com precisão o material dentro do cadinho.
- Sistema de vácuoO vácuo final geralmente atinge 10−4 a 10−6 Pa, reduzindo a colisão e a contaminação da fase gasosa.
- Fonte de evaporação e cadinho:Crisol de cobre resfriado a água para evitar a evaporação e a reação dos materiais do crisol e melhorar a pureza da camada de filme; Ele suporta comutação de várias estações e deposição de filme de várias camadas.
- Fase de substrato:Pode ser aquecido/resfriado por água e pode girar em torno do sol/em seu próprio eixo para garantir espessura uniforme da película.
- Sistema de controlo:Fornecimento de energia de alta tensão, controlo do feixe, monitorização da espessura do filme (oscilador de cristal), medidor de vácuo e programa de automação, conseguindo um controlo de circuito fechado dos parâmetros.
II. Princípio de trabalho
- Geração e aceleração do feixe de elétrons:Quando um filamento toroidal é eletrificado, ele emite elétrons quentes, que são acelerados por um campo elétrico de alta tensão de 5-10 kV para alcançar alta energia.
- Foco e deflexão:A bobina eletromagnética focaliza e desinfla o feixe de elétrons na superfície do material alvo dentro do cadinho, com uma densidade de energia que pode atingir 106 a 107 W/cm2.
- Evaporação e deposição:A energia cinética do feixe de elétrons é convertida em energia térmica, e o material alvo aquece rapidamente até o ponto de evaporação e se vaporiza.Os átomos/moléculas gasosos são transportados em linha reta para o substrato sob grande vácuo e condensados para formar uma película uniforme.
- Controle do processo:Monitorização em tempo real da taxa de deposição e da espessura da película, ajuste dinâmico da corrente do feixe e da potência para garantir a estabilidade do processo.
III. Características essenciais
- Alta densidade de energia:A temperatura local pode atingir 3000-6000°C, e pode evaporar materiais com alto ponto de fusão, como o tungstênio, o molibdênio e o SiO2.
- Poluição extremamente baixa:Os cristais refrigerados a água reduzem a poluição dos cristais e a pureza da camada de filme pode atingir mais de 99,99%.
- Eficiência e taxa:Alta eficiência térmica, taxa de deposição de 0,1-100 nm/s, eficiência de equilíbrio e qualidade do filme.
- Processo flexível:A comutação multi-crucible suporta filmes de várias camadas.
IV. Vantagens
- Ampla adaptabilidade dos materiais:Compatível com metais, ligas, óxidos, semicondutores, etc., especialmente adequado para materiais refratários.
- A qualidade da camada de filme é excelente:alta pureza, boa densidade e forte adesão, satisfazendo os requisitos dos dispositivos ópticos e electrónicos de alta precisão.
- Eficiência dos custos:Alta taxa de utilização dos materiais, consumo de energia concentrado nos materiais alvo e custos operacionais mais baixos a longo prazo.
- Alto grau de automação:Os parâmetros são precisamente controláveis com boa repetibilidade, tornando-o adequado tanto para pesquisa científica como para produção em massa.
V. Aplicações típicas
- Filmes ópticos:Películas antirreflexo (AR), filtros, divisores de feixe, utilizados em óculos, câmaras, dispositivos a laser, células fotovoltaicas.
- Semicondutores e Microeletrónica:Eletrodos metálicos (Al, Cu), camadas dielétricas (SiO2, Si3N4), filmes de sensores.
- Revestimentos funcionais:filmes decorativos, filmes condutores (ITO), revestimentos resistentes à corrosão/resistentes ao desgaste, aplicados na indústria aeroespacial, ferramentas e eletrónica de consumo.
- Investigação científica e produção em pequena escala:Preparação de materiais para universidades e institutos de investigação, bem como filmes personalizados para MEMS, dispositivos biomédicos, etc.
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