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Machine de revêtement par faisceau d'électrons dédiée aux films antireflet (film AR) personnalisables de haute précision
  • Machine de revêtement par faisceau d'électrons dédiée aux films antireflet (film AR) personnalisables de haute précision

Machine de revêtement par faisceau d'électrons dédiée aux films antireflet (film AR) personnalisables de haute précision

Lieu d'origine Guangdong
Nom de marque Lion King
Certification CE
Détails du produit
Uniformité du revêtement:
≤ ± 5%
Vitesse de revêtement:
Haut
Taille de revêtement:
Personnalisable
Alimentation:
AC 220V / 380V, 50 / 60Hz
Niveau de vide:
Vide élevé
Enrobage de transparence:
Haut
Alimentation en revêtement:
DC / RF / AC
Système d'évaporation:
2 ensembles
Système de surveillance du revêtement:
En temps réel
L'alimentation électrique:
AC 220V / 380V, 50 / 60Hz
Alimentation d'évaporation:
1 ensemble
Matériau de chambre:
Acier inoxydable ou acier au carbone
Adhésion du revêtement:
Haut
MOYABLE DE FONCTION:
Écran tactile
Procédé de protection:
Mono ou multi-chambres
Taille de la chambre de revêtement:
Personnalisé
Mode de fonctionnement de l'écran tactile:
Manuel / automatique
Taux de dépôt de revêtement:
Réglable
Période de garantie:
1 an
Mettre en évidence: 

Film AR de haute précision personnalisable

,

Machine de revêtement par faisceau d'électrons

,

Machine de revêtement de film antireflet

Conditions de paiement et d'expédition
Quantité de commande min
1
Délai de livraison
45-60 jours de travail
Description du produit
I. Structure du noyau
  • Système sous vide: pompe moléculaire + pompe racinaire + pompe mécanique, instrument de mesure du vide, chambre à vide.
  • Système de canon électronique:une cathode (fil de tantale/fil de tungstène), une anode, une bobine de mise au point, une bobine de déformation, un scanner de faisceau d'électrons.
  • Système d'évaporation du matériau à membrane:un creuset, un mécanisme d'alimentation par membrane, une couverture de blindage anti-poussière.
  • Étagère et système de transmission de la pièce à travailler:Plateau planétaire de pièce (auto-rotation + révolution), dispositif de chauffage (chauffage infrarouge/résistance).
  • Système de surveillance de l'épaisseur du film:Moniteur d'oscillation en cristal de quartz (QCM), moniteur d'interférence optique.
  • CSystème de contrôle:Écran tactile PLC, logiciel informatique supérieur, dispositif de verrouillage.
II. Principe de fonctionnement

Étape de préparation sous vide:Fermez la porte de la chambre à vide, démarrez le système de vide pour évacuer jusqu'au vide ultime (≤ 5 × 10−5 Pa) et, en même temps, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

Étape d'évaporation du matériau de membrane:Le pistolet électronique est activé par un PLC, la cathode est chauffée pour générer des électrons thermiques. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleL'énergie cinétique du faisceau d'électrons est convertie en énergie thermique, ce qui fait que le matériau de la membrane atteint la température d'évaporation (environ 1700°C pour le SiO2 et environ 2200°C pour le TiO2),et évaporent en particules gazeuses.

Étape de dépôt du film:Les particules gazeuses du matériau de film diffusent vers le substrat dans un environnement sous vide, adsorbent, migrent et se condensent sur la surface du substrat, formant un film continu.Le support de pièce assure que les particules gazeuses couvrent uniformément la surface de la base par auto-rotation et la révolution, en évitant les écarts locaux d'épaisseur.

Étape finale du revêtement:Une fois toutes les couches de film déposées, maintenir un environnement sous vide pour refroidir pendant 30 à 60 minutes (pour éviter les contraintes internes dans les couches de film dues à des différences de température excessives),puis relâcher lentement le gaz à la pression normale et retirer la pièceTout au long du processus, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% dans la bande lumineuse visible de 400 à 700 nm).

III. Caractéristiques essentielles (avantages spécialisés pour la préparation de films AR)
  • La couche de film a une haute précision et répond aux exigences fondamentales des films AR:l'uniformité de l'épaisseur du film ≤ ± 2% et la précision de contrôle de l'indice de réfraction ± 0.005. Prend en charge la régulation de l'épaisseur du film à l'échelle nano (épaisseur minimale de dépôt 0,1 nm).
  • Le matériau à membrane présente une forte compatibilité et couvre les matériaux courants des films AR:Il peut évaporer de manière stable les matériaux de membrane couramment utilisés des films AR et supporter le dépôt alternatif de différents matériaux de membrane,répondant aux exigences de conception des films AR composites multicouches.
  • Un degré élevé d'automatisation, adapté aux scénarios de production en série:Contrôle PLC complet du processus, support de stockage de formule et commutation rapide, l'efficacité de production est augmentée de plus de 30% par rapport aux machines de revêtement générales.
  • L'environnement sous vide est propre et la qualité de la couche de film stable:le degré de vide ultime est élevé (≤ 5 × 10−5 Pa) et la teneur en gaz résiduel est faible, ce qui peut réduire les bulles et les impuretés dans la couche de film.La stabilité de la transparence lumineuse du film AR (dans un environnement de -40°C à 85°C) est augmentée de 20%, et le brouillard est ≤ 0,1%.
  • Il a une grande adaptabilité au substrat et répond aux besoins de plusieurs scénarios:Il prend en charge la préparation de films AR sur différents substrats tels que le verre, la résine, le saphir et le métal.une forte adhérence entre la couche de film et le substrat peut être obtenue.
IV. Résumé des principaux avantages
  • Il a résolu le problème de l'évaporation stable des matériaux de membrane AR à point de fusion élevé (tels que TiO2 et ZrO2), et est l'équipement de préparation préféré pour les membranes AR à large bande multicouche.
  • La précision et la stabilité de la couche de film dépassent largement celles des machines de revêtement par chauffage par résistance,répondant aux exigences en matière de films AR des produits optiques haut de gamme tels que les lentilles de caméra et les lentilles laser.
  • L'efficacité de la production de masse et le contrôle des coûts sont supérieurs à ceux des machines de revêtement à pulvérisation par magnétron, ce qui les rend adaptés à des scénarios d'application à grande échelle tels que l'électronique grand public,photovoltaïque, et les automobiles.
V. Scénarios d'application typiques
  1. Le secteur de l'électronique grand public (le plus grand marché d'application)
    Écran d'affichage du téléphone portable/tablette/ordinateur; lentille d'appareil photo/lentille de téléphone portable; lentilles de montres intelligentes/appareils de réalité virtuelle.
  2. Domaine des instruments optiques
    Lentilles de microscope/télescope; lentilles d'équipement laser (telles que les lentilles laser CO2, les lentilles laser à fibres).
  3. Champ d'énergie photovoltaïque
    Ventilateur électrique
  4. Les domaines de l'automobile et de l'aérospatiale
    Ventilateurs/fenêtres de voiture; vitre/miroir d'avion.
  5. Autres champs spéciaux
    Équipement optique médical (tels que les lentilles endoscopiques, les microscopes chirurgicaux); panneaux d'affichage (tels que les OLED, les mini-LED).

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