Προσαρμόσιμη υψηλής ακρίβειας ταινία αντιαντανάκλασης (AR ταινία) ειδική μηχανή επικάλυψης δέσμης ηλεκτρονίων

• Σύστημα κενού: Μοριακή αντλία + Αντλία ριζών + συνδυασμός μηχανικής αντλίας, μέτρηση κενού, θάλαμος κενού.
• Σύστημα ηλεκτρονικού όπλου:Καθοδική (σύρμα τανταλίου/σύρμα θουλφραμίου), ανοδική, εστιαστική τροχιά, τροχιά εκτροπή, σαρωτής δέσμης ηλεκτρονίων.
• Σύστημα εξάτμισης υλικού μεμβράνης:χωνευτήρα, μηχανισμός τροφοδοσίας υλικού μεμβράνης, προστατευτικό κάλυμμα κατά των ψεκασμών.
• Συστήματα ράφους και μεταφοράς εργαλείων:Πλανητικό ράφι εργαλείου (αυτοστροφή + στροφή), συσκευή θέρμανσης (υπερύθμιση υπέρυθρου/αντίστασης).
• Σύστημα παρακολούθησης πάχους ταινίας:ανιχνευτής ταλάντευσης κρυστάλλων χαλαζιού (QCM), ανιχνευτής οπτικών παρεμβολών.
• Γσύστημα ελέγχου:Εικονική οθόνη, λογισμικό υπολογιστή, συσκευή ασφαλείας.

Στάδιο προετοιμασίας στο κενό:Κλείστε την πόρτα του θαλάμου κενού, ενεργοποιήστε το σύστημα κενού για να εκκενωθεί στο απόλυτο κενό (≤5 × 10−5 Pa) και ταυτόχρονα, heat the substrate to the preset temperature (such as 150℃ for glass substrate and 80℃ for resin substrate) through the workpiece rack heating device to remove the water vapor and impurities adsorbed on the substrate surface and enhance the adhesion of the film layer.

Στάδιο εξάτμισης υλικού μεμβράνης:Το ηλεκτρονικό όπλο ενεργοποιείται από PLC. which are then accelerated at the anode (acceleration voltage 10-30kV) and focused by the focusing coil to form a high-energy electron beam that bombards the AR membrane material (such as the first layer of SiO₂) inside the crucibleΗ κινητική ενέργεια της δέσμης ηλεκτρονίων μετατρέπεται σε θερμική ενέργεια, με αποτέλεσμα το υλικό της μεμβράνης να φτάνει στην θερμοκρασία εξάτμισης (περίπου 1700 °C για το SiO2 και περίπου 2200 °C για το TiO2),και μετά εξατμίζονται σε αέρια σωματίδια.

Στάδιο αποθέματος της ταινίας:Τα αέρια σωματίδια υλικού φιλμ διαχέονται προς το υπόστρωμα σε περιβάλλον κενού, προσρροφούνται, μεταναστεύουν και συμπυκνώνται στην επιφάνεια του υποστρώματος, σχηματίζοντας συνεχή φιλμ.Το ράφι του εργαστηρίου εξασφαλίζει ότι τα αέρια σωματίδια καλύπτουν ομοιόμορφα την επιφάνεια της βάσης μέσω της αυτοστροφής και της περιστροφής, αποφεύγοντας τις τοπικές αποκλίσεις πάχους.

Τελικό στάδιο της επικάλυψης:Αφού όλα τα στρώματα του φιλμ έχουν αποθηκευτεί, διατηρείται σε κενό περιβάλλον για ψύξη για 30 έως 60 λεπτά (για να αποφευχθεί η εσωτερική πίεση στα στρώματα του φιλμ λόγω υπερβολικών διαφορών θερμοκρασίας),Μετά απελευθερώστε αργά το αέριο σε κανονική πίεση και αφαιρέστε το εργαλείοΣε όλη τη διαδικασία, the film thickness monitoring system provides real-time feedback on data and dynamically adjusts the electron beam power and evaporation rate to ensure that the refractive index and thickness of each layer of film meet the AR film design requirements (such as achieving a reflectivity of ≤00,5% στην ζώνη ορατού φωτός 400-700 nm).

• Το στρώμα φιλμ έχει υψηλή ακρίβεια και πληροί τις βασικές απαιτήσεις των ταινιών AR:ομοιότητα πάχους φιλμ ≤±2% και ακρίβεια ελέγχου του δείκτη διάθλασης ±0.005Υποστηρίζει ρύθμιση πάχους φιλμ σε νανοκλίμακα (ελάχιστο πάχος εναπόθεσης 0,1nm).
• Το υλικό μεμβράνης έχει ισχυρή συμβατότητα και καλύπτει τα βασικά υλικά των ταινιών AR:Μπορεί να εξατμίσει σταθερά τα κοινά χρησιμοποιούμενα υλικά μεμβράνης των ταινιών AR και να υποστηρίξει την εναλλακτική εναπόθεση διαφορετικών υλικών μεμβράνης,που πληρούν τις απαιτήσεις σχεδιασμού πολυεπίπεδων σύνθετων ταινιών AR.
• Υψηλός βαθμός αυτοματοποίησης, κατάλληλος για σενάρια μαζικής παραγωγής:Ο έλεγχος πλήρους διαδικασίας από PLC, η υποστήριξη της αποθήκευσης φόρμουλας και η ταχεία εναλλαγή, η αποδοτικότητα παραγωγής αυξάνεται κατά περισσότερο από 30% σε σύγκριση με τις γενικές μηχανές επικάλυψης.
• Το περιβάλλον κενού είναι καθαρό και η ποιότητα της στρώσης φιλμ είναι σταθερή:ο βαθμός τελικού κενού είναι υψηλός (≤5×10−5 Pa) και η περιεκτικότητα σε υπολειμματικό αέριο είναι χαμηλή, γεγονός που μπορεί να μειώσει τις φυσαλίδες και τις ακαθαρσίες στο στρώμα φιλμ.Η σταθερότητα της διαπερατότητας του φωτός του φιλμ AR (στο περιβάλλον των -40 °C έως 85 °C) αυξάνεται κατά 20%, και η ομίχλη είναι ≤ 0,1%.
• Έχει ευρεία προσαρμοστικότητα στο υπόστρωμα και ικανοποιεί τις ανάγκες πολλαπλών σενάριων:Υποστηρίζει την προετοιμασία ταινιών AR σε διαφορετικά υποστρώματα όπως γυαλί, ρητίνη, ζαφείρι και μέταλλο.μπορεί να επιτευχθεί ισχυρή προσκόλληση μεταξύ του στρώματος της ταινίας και του υποστρώματος.

• Έχει λύσει το πρόβλημα της σταθερής εξάτμισης υλικών μεμβράνης AR υψηλού σημείου τήξης (όπως TiO2 και ZrO2), και είναι ο προτιμώμενος εξοπλισμός προετοιμασίας για πολυστρωτικές ευρυζωνικές μεμβράνες AR.
• Η ακρίβεια και η σταθερότητα του στρώματος της ταινίας υπερβαίνουν κατά πολύ εκείνες των μηχανών επικάλυψης με θέρμανση αντίστασης,ανταποκρίνονται στις απαιτήσεις ταινίας AR των οπτικών προϊόντων υψηλής τεχνολογίας, όπως οι φακοί φωτογραφικής μηχανής και οι φακοί λέιζερ.
• Η απόδοση μαζικής παραγωγής και ο έλεγχος του κόστους είναι ανώτεροι από εκείνους των μηχανών επικάλυψης με ψεκασμό μαγνητρώνων, καθιστώντας το κατάλληλο για σενάρια εφαρμογής μεγάλης κλίμακας, όπως τα καταναλωτικά ηλεκτρονικά,Φωτοβολταϊκά, και αυτοκινήτων.

1. Το πεδίο των ηλεκτρονικών ειδών κατανάλωσης (η μεγαλύτερη αγορά εφαρμογής)
   Ηθόνη οθόνης κινητού τηλεφώνου/ταμπλέτ/υπολογιστή· φακούς κάμερας/φακούς κινητού τηλεφώνου· φακούς συσκευών Smartwatch/VR.
2. Το πεδίο των οπτικών οργάνων
   Δακτυλικοί φακοί μικροσκοπίων/τηλεσκοπίων· φακοί εξοπλισμού λέιζερ (όπως φακοί λέιζερ CO2, φακοί λέιζερ με ίνες).
3. Φωτοβολταϊκό ενεργειακό πεδίο
   Φωτοβολταϊκό γυαλί· Συγκεντρωμένο Ηλιακό Σύστημα (CSP)
4. Τομείς αυτοκινήτων και αεροδιαστημικής παραγωγής
   Παρμπρίζ/Παράθυρα αυτοκινήτων· παράθυρο αεροσκάφους/καθρέφτης αεροπορίας.
5. Άλλα ειδικά πεδία
   Ιατρικός οπτικός εξοπλισμός (όπως ενδοσκοπικοί φακοί, χειρουργικά μικροσκόπια) · οθόνες οθόνης (όπως OLED, Mini LED).