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Equipo de revestimiento óptico de evaporación de haz de electrones a gran escala para máquinas de revestimiento pvd

Equipo de revestimiento óptico de evaporación de haz de electrones a gran escala para máquinas de revestimiento pvd
Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo
Detalles del producto
Resaltar:

máquinas de evaporación de haz de electrones a gran escala

,

Equipo de revestimiento óptico PVD

,

máquina de recubrimiento de haz de electrones con garantía

Evaporation System: Rayo de electrones
Coating Deposition Rate: Ajustable
Chamber Materia: acero inoxidable 304
Coating Efficiency: Alto
Coating Monitoring System: En tiempo real
Coating Hardness: ≥HV800
Coating Uniformity: ≤ ± 5%
Coating Adhesion: Alto
Power Supply: Fuente de alimentación de alta tensión DC
Type: Equipo de recubrimiento con pistola de electrones
Coating Environment: No hay polvo
Coating Temperature: Ajustable
Coating Control System: SOCIEDAD ANÓNIMA
Type: Equipo de recubrimiento por haz de electrones
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
I. Estructura del núcleo
  1. Sistema de vacío (Garantia básica para el revestimiento) Cámara de vacío Conjunto de bombas de vacío Medición y control de vacío.
  2. Sistema de pistola electrónica (núcleo de suministro de energía) Fuente de emisión de electrones Dispositivo de enfoque y desviación Módulo de control de potencia.
  3. Sistema de deposición por evaporación (clave para la formación de película) Ensamblaje del crisol; dispositivo de fijación del material objetivo, monitoreo y control del grosor de la película, sensor central.
  4. Sistema de control (automación y garantía de precisión) Unidad de control principal Módulo de control de circuito cerrado Sistema de protección de seguridad.
  5. Sistema de tratamiento del sustrato (mejorando la adhesión de la película) Mecanismo de soporte y rotación del sustrato; dispositivo de calentamiento del sustrato, módulo de pretratamiento de bombardeo iónico (opcional).
  6. Sistema auxiliar Sistema de refrigeración; sistema de control de gas.
II. Principio de trabajo

The core principle of the high-precision electron beam evaporation coating machine is the physical process of "converting the energy of the electron beam into the thermal energy of the target material to achieve material evaporation - gas-phase transfer - substrate deposition".

III. Ventajas fundamentales
  1. La precisión del recubrimiento es extremadamente alta y la calidad de la capa de película es excelente
  2. Tiene una amplia gama de materiales aplicables

    Una variedad de materiales tales como metales evaporables (Au, Ag, Al, Ti), aleaciones (NiCr, TiW), óxidos (SiO2, TiO2, Al2O3), sulfuros (ZnS) y cerámicas.

  3. Alta eficiencia de evaporación y fuerte adhesión de la capa de película
  4. Baja contaminación y alta tasa de utilización de los materiales objetivo
  5. Alto grado de automatización y operación conveniente
IV. Escenarios de aplicación típicos
  1. Campo óptico (escenarios de aplicación básicos)
    • Lentes ópticas: películas antirreflectantes (como las películas multicapa SiO2-TiO2), películas de alta reflexión (como las películas protectoras Al+SiO2) y películas filtrantes (como las películas filtrantes infrarrojas,Las películas de corte ultravioleta) están recubiertas en las lentes., prismas y espejos para mejorar la transmitancia de luz, la reflectividad o la selectividad espectral de los dispositivos ópticos.
    • Dispositivos de visualización: recubrimiento de películas conductoras transparentes (como ITO, AZO), películas antirreflectantes y películas de detección táctil en los sustratos de vidrio de las pantallas LCD, OLED y Micro LED.
    • Dispositivos láser: se recubren películas de alto reflejo y antirreflejo en la cavidad resonante del láser y la cara final de la fibra óptica para optimizar la eficiencia de transmisión del láser.
  2. El sector de la electrónica y los semiconductores
    • Dispositivos semiconductores: los electrodos metálicos (como Au, Al, Ti) y las películas de pasivación (como SiO2, Si3N4) se recubren en chips y obleas para garantizar la conductividad y la estabilidad de los dispositivos.
    • Componentes electrónicos: recubrimiento de capas de película funcional (como película de resistencia NiCr, película dieléctrica Ta2O5) en condensadores, resistencias y sensores para mejorar el rendimiento del componente;
    • Dispositivos de almacenamiento magnético: Revestimiento de películas magnéticas (como películas de aleación CoCrPt) en cabezas de disco duro y cintas magnéticas para mejorar la capacidad de almacenamiento y la velocidad de lectura/escritura.
  3. Áreas aeroespaciales y de defensa nacional
    • Componentes aeroespaciales: recubrimiento de capas de película resistentes al desgaste, a la corrosión y a los rayos UV para ventanas de aeronaves y lentes ópticas de satélite;Cubrir el buscador de misiles con película infrarroja antirreflexión y película furtiva;
    • Equipo de defensa nacional: Revestimiento de capas de película óptica de alto rendimiento para armas láser y detectores de infrarrojos para mejorar la adaptabilidad ambiental y el rendimiento de combate del equipo.
  4. Otros campos de gama alta
    • Dispositivos médicos: recubrimiento de capas de película óptica con buena biocompatibilidad y resistencia a la desinfección para lentes artificiales y lentes de endoscopio.
    • Revestimiento decorativo y funcional: Revestimiento de las esferas y joyas de los relojes de alta gama con películas decorativas resistentes al desgaste y a la oxidación (como películas de oro TiN, películas negras Cr);Las películas de protección duras (como TiN y TiAlN) se recubren en herramientas de corte y moldes para extender su vida útil.
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