Introduction
PRÉSENTATION DU PRODUIT
Un appareil de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron est un dispositif basé sur la technologie de pulvérisation cathodique magnétron. Il utilise des ions contraints par un champ magnétique pour bombarder des cibles, déposant des films uniformes et denses sur des substrats.
Pourquoi c'est bon: Il est connu pour produire des films uniformes et denses avec une forte adhérence.
À quoi ça sert: Largement utilisé pour le revêtement de pièces de quincaillerie, ainsi que pour le revêtement fonctionnel dans des domaines tels que les semi-conducteurs, les lentilles optiques et les outils de coupe.
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Type de film courant
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Applications typiques
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Films métalliques et alliages :
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Convient pour les interconnexions de semi-conducteurs, les électrodes de dispositifs électroniques
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Films isolants
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Isolation, protection ; utilisé pour l'emballage de composants électroniques, les substrats de dispositifs optiques
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Films optiques
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Pour lentilles, écrans, filtres optiques
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Films décoratifs et protecteurs
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Pour le traitement de surface des bijoux, de la quincaillerie, des outils de coupe et des moules
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Films composites fonctionnels
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Conductivité transparente, propriété antibactérienne, hydrophobicité ; convient pour les écrans électroniques, les dispositifs médicaux, les produits énergétiques nouveaux
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Caractéristiques de l'équipement: Il rend le film lisse et compact, et l'épaisseur du film peut croître linéairement.
Application de l'équipement: Clubs de golf, céramiques, produits en verre, coques de téléphones portables, bracelets de montres, bijoux haut de gamme, articles de table, etc.
Couleur du processus: Or titane, or japonais, or rose, or champagne, or café, or noir, bleu gemme, sept couleurs, etc.
Remarque: La configuration et la taille de l'équipement de revêtement doivent être personnalisées en fonction des exigences des clients et des produits traités par les clients.
Structure :
Il est composé d'un module d'alimentation pulsée, d'une chambre de pulvérisation cathodique magnétron, d'un ensemble de matériaux cibles, d'un système de vide, d'une unité de transmission et de contrôle de la température du substrat, ainsi que d'un système de surveillance en ligne, etc.
Principe de fonctionnement :
En émettant une tension pulsée avec une fréquence allant de 10 à 350 kHz, la pulvérisation de la cible est réalisée dans la phase de tension négative, et des électrons sont introduits dans la phase de tension positive pour neutraliser les charges positives accumulées sur la surface de la cible. Pendant le fonctionnement, la chambre est d'abord mise sous vide et des gaz de travail tels que l'argon sont introduits. Après que l'alimentation pulsée applique une tension, le gaz est ionisé pour former un plasma. Sous la contrainte du champ magnétique, le plasma bombarde le matériau cible, ce qui provoque le détachement des atomes ou des molécules du matériau cible et leur dépôt sur la surface du substrat pour former un film.
Caractéristiques
Les paramètres d'impulsion sont flexibles et réglables :
L'équipement peut ajuster avec précision les paramètres principaux tels que la fréquence d'impulsion, le rapport cyclique et la puissance de crête, s'adaptant à différents matériaux cibles et exigences de revêtement. En ajustant le rapport cyclique, la génération de chaleur du matériau cible et le taux de pulvérisation peuvent également être équilibrés. Certains modèles haut de gamme peuvent atteindre une fréquence d'impulsion allant jusqu'à 150 kHz, ce qui peut répondre aux exigences de dépôt de couches de film complexes.
Compatible avec divers matériaux cibles et substrats :
Il peut non seulement traiter des cibles métalliques telles que Ti et Al, mais également réaliser une pulvérisation stable de cibles isolantes telles que Al₂O₃ et TiO₂ grâce à des modes d'impulsion bidirectionnels ou de courant alternatif à moyenne fréquence. De plus, la conception du processus à basse température peut être adaptée à différents substrats de matériaux tels que le verre, le plastique et le PET, et est particulièrement adaptée au revêtement de substrats sensibles à la chaleur comme les OLED flexibles.
Haut degré d'intégration et d'intelligence :
Les modèles grand public sont équipés de plusieurs manipulateurs à vide intégrés, d'une surveillance en ligne de l'épaisseur du film et de systèmes d'alignement automatique, prenant en charge la production continue dans plusieurs chambres.
Avantages
Réduire considérablement les défauts de la couche de film :
Le mode de fonctionnement périodique de l'alimentation pulsée peut supprimer efficacement la décharge d'arc sur la surface de la cible et réduire les défauts du film. En même temps, les impulsions de haute puissance peuvent générer un plasma haute densité, rendant la couche de film plus dense.
Améliorer l'utilisation des ressources et l'efficacité économique :
Le taux d'utilisation du matériau cible de l'équipement peut être augmenté de 20 % à 45 %, la consommation de matériau cible peut être réduite de 40 % et le coût d'utilisation des métaux rares tels que l'ITO peut être réduit de 30 %. De plus, le taux de dépôt peut atteindre 10 nm/s, ce qui améliore considérablement l'efficacité de la production.
Éviter le problème de l'empoisonnement de la cible :
Pendant le dépôt d'oxydes, de nitrures et d'autres films composés, le gaz de réaction adsorbé sur la surface de la cible peut être désorbé pendant l'intervalle d'impulsion, empêchant la formation d'une couche isolante sur la surface de la cible et résolvant le problème de l'empoisonnement de la cible dans la pulvérisation cathodique magnétron DC traditionnelle qui rend la pulvérisation non durable.
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Modèle
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IF-12515
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MAIF-1820
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MAIF-2323
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MAT-2345
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MAT1-2368
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Taille de la chambre (mm)
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D1250×H1500
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D1800×H2000
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D2300×H2300
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D2300-2500*H4500
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D2300-2500*H6800
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Système de pompage
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Pompe mécanique + Pompe Roots + Pompe à diffusion + Pompe de maintenance
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Arc
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10
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18
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22
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40-42
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58-62
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Puissance de l'arc
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200A
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Puissance de polarisation
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30KW--120KW
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Gaz
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Ar,N₂,C₂H₂,O₂
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Refroidissement
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Circulation de refroidissement par eau, équipé d'une tour de refroidissement industrielle ou d'un refroidisseur d'eau industriel (machine frigorifique) ou d'un système cryogénique. (fourni par les clients)
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Indice de vide
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Temps d'extraction (état froid sans charge) : de l'atmosphère à 9,9×10⁻³Pa ≤ 10min
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Vide ultime
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Supérieur à 5,0×10⁻⁴Pa
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Augmentation de la pression
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Taux de fuite d'air à l'état froid de la nouvelle machine ≤ 0,5Pa/h
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Puissance de fonctionnement
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Selon la configuration spécifique
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Fréquence de sortie
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Fabriqué sur mesure
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Occupation
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10
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15
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18
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50
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75
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Accessoire
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Four, tour d'eau, pompe à eau, compresseur d'air, support de montage, réservoir d'eau ou piscine
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Remarque
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Toutes les configurations peuvent être fabriquées sur mesure
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