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Pulvérisation cathodique magnétron

Aperçu de la technologie

Principe de fonctionnement

• Génération de plasma: Un champ électrique haute tension ionise le gaz argon, produisant des ions Ar⁺ et des électrons.
• Confinement magnétique: Un champ magnétique (orthogonal au champ électrique) piège les électrons près de la surface de la cible, améliorant ainsi l'efficacité de l'ionisation et la densité du plasma.
• Processus de pulvérisation: Les ions Ar⁺ accélérés frappent la cible, délogeant des atomes qui se déplacent vers le substrat et forment une couche mince. Le champ magnétique minimise le bombardement électronique du substrat, réduisant ainsi les dommages thermiques.

Principaux avantages

1. Uniformité et adhérence: Produit des films avec une uniformité d'épaisseur exceptionnelle (±5 %) et une forte adhérence au substrat grâce au bombardement ionique à haute énergie.
2. Polyvalence des matériaux: Compatible avec les métaux (par exemple, Ti, Cu), les céramiques (par exemple, SiO₂, Al₂O₃) et les semi-conducteurs.
3. Dépôt à basse température: Convient aux matériaux sensibles à la chaleur comme les plastiques et les polymères.
4. Contrôle du processus: Permet un réglage précis des propriétés du film (par exemple, conductivité, dureté) via les paramètres du plasma.
5. Revêtements multicouches: Prend en charge la co-pulvérisation de plusieurs cibles pour la production d'alliages ou de couches graduelles.

Industries d'application

• Électronique: Conditionnement des circuits intégrés, écrans d'affichage et cellules photovoltaïques.
• Optique: Revêtements antireflet, miroirs et filtres optiques.
• Outillage: Revêtements résistants à l'usure pour les outils de coupe et les moules.
• Automobile: Finitions décoratives et résistantes à la corrosion sur les garnitures et les composants.
• Médical: Revêtements biocompatibles pour les implants et les instruments.

Effets et couleurs des revêtements

• Finitions de surface: Lustre métallique, textures mates ou motifs texturés.
• Gamme de couleurs: Argent, or, noir, bleu et teintes personnalisées via la pulvérisation réactive (par exemple, TiN pour des finitions dorées).

Types de structures

• Magnétron planaire: Idéal pour le dépôt sur de grandes surfaces (par exemple, verre ou panneaux).
• Magnétron rotatif: Améliore l'utilisation de la cible et le taux de dépôt pour les substrats cylindriques ou courbes.
• Magnétron déséquilibré: Génère un plasma à haute densité ionique pour des films denses et adhérents.

Matériaux de substrat

• Plastiques (ABS, PET, PC), verre, céramiques, métaux et composites.

Matériaux de revêtement

• Métaux : Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
• Céramiques : SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
• Alliages : NiCr, TiAl et superalliages.

Lignes de production de support

• S'intègre avec les processus de post-revêtement comme le durcissement UV ou le traitement au plasma pour une fonctionnalité améliorée.

Consommables

• Matériaux cibles (métalliques/céramiques), gaz argon et alimentations électriques de pulvérisation.

Applications

• Optique: Miroirs à haute réflectivité et revêtements anti-éblouissement.
• Électronique: Oxydes conducteurs transparents (ITO) pour écrans tactiles.
• Aérospatiale: Revêtements de barrière thermique sur les aubes de turbine.
• Verre architectural: Revêtements à faible émissivité (faible E) pour l'efficacité énergétique.

Personnalisation