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Bijoux Montres Accessoires Dépôt sous vide par pulvérisation cathodique Magnétron Machine de revêtement Pvd Machine Pvd en acier inoxydable
  • Bijoux Montres Accessoires Dépôt sous vide par pulvérisation cathodique Magnétron Machine de revêtement Pvd Machine Pvd en acier inoxydable

Bijoux Montres Accessoires Dépôt sous vide par pulvérisation cathodique Magnétron Machine de revêtement Pvd Machine Pvd en acier inoxydable

Lieu d'origine Guangdong
Nom de marque Lion King
Certification CE
Détails du produit
Application:
Optique, décoratif, fonctionnel
Revêtement:
Verre, métal, plastique, céramique, etc.
Couleur du revêtement:
Or, argent, noir, bleu, vert, etc.
Taille cible:
Personnalisable
Matériau cible:
Métal, Alliage, Céramique
Technologie de revêtement:
Pulvérisation de magnétron
Revêtements:
Étain, tic, ticn, tialn, crn, cu, aU, dlc
Matériel:
Acier inoxydable
Couleurs de revêtement:
Noir / bleu / rouge
Taille de la machine:
Personnaliser
Épaisseur du revêtement:
0,01-10 microns
Système d'aspirateur:
Vide poussé
Uniformité du revêtement:
≤±5%
Processus de revêtement:
Pulvérisation de magnétron
Alimentation:
DC / RF / AC
Matériau du substrat:
Verre, métal, céramique, plastique
Taille du substrat:
Personnalisable
Structure du revêtement:
Couche unique, multicouche, dégradé, etc.
système de contrôle:
PLC, écran tactile, manuel
Taille de l'équipement de revêtement:
Personnalisable
Matériau de revêtement:
Métal, alliage, céramique, matériau composite
Méthode de revêtement:
Pulvérisation de magnétron
Mettre en évidence: 

Machine de revêtement sous vide par pulvérisation cathodique magnétron automatisée

,

Machine de revêtement magnétron pour bijoux

,

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron pour bijoux

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1
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20
Description du produit

Pulvérisation Magnétron

Aperçu Technologique

La pulvérisation magnétron est une technique polyvalente de dépôt physique en phase vapeur (PVD) largement utilisée pour déposer des films minces de haute qualité sur divers substrats. Elle fonctionne en ionisant un gaz noble (par exemple, l'argon) dans une chambre à vide poussé (pression < 10⁻³ Torr), créant ainsi un plasma. Les ions énergétiques du plasma bombardent un matériau cible, éjectant des atomes qui se déposent ensuite sur le substrat sous forme d'un film uniforme et adhérent. Cette méthode est particulièrement adaptée aux métaux, alliages, céramiques et matériaux composés, offrant un contrôle précis de la composition et de l'épaisseur du film.ModèleH1400H1500
Lion-1612 Diamètre de la chambre (mm) 1400 1500
1600 Diamètre max. du rouleau (mm) 600 700
700-750 Refroidissement 12 12
12~16 600~1250 600~1250 600~1250
1050~1800 0~5 0~5 0~5
0~5 90~180 90~180 90~180
100~200 Vitesse de bobinage (m/min) 100~400 100~500
100~500 Surface occupée (m) 10*8*4.6 10*8*4.6
10*8*4.8 Génération de plasma Génération de plasma : Un champ électrique à haute tension ionise le gaz argon, produisant des ions Ar⁺ et des électrons.

Confinement Magnétique

  • : Un champ magnétique (orthogonal au champ électrique) piège les électrons près de la surface de la cible, améliorant l'efficacité de l'ionisation et la densité du plasma.Processus de Pulvérisation
  • : Les ions Ar⁺ accélérés frappent la cible, déslogeant des atomes qui voyagent vers le substrat et forment un film mince. Le champ magnétique minimise le bombardement du substrat par les électrons, réduisant les dommages thermiques.Avantages Clés
  • Uniformité et Adhérence: Produit des films avec une uniformité d'épaisseur exceptionnelle (±5%) et une forte adhérence au substrat grâce au bombardement ionique à haute énergie.

Polyvalence des Matériaux

  1. : Compatible avec les métaux (par exemple, Ti, Cu), les céramiques (par exemple, SiO₂, Al₂O₃) et les semi-conducteurs.Dépôt à Basse Température
  2. : Convient aux matériaux sensibles à la chaleur comme les plastiques et les polymères.Contrôle du Processus
  3. : Permet un réglage précis des propriétés du film (par exemple, conductivité, dureté) via les paramètres du plasma.Revêtements Multi-Composants
  4. : Prend en charge la co-pulvérisation de plusieurs cibles pour la production d'alliages ou de couches à gradient.Industries Appliquées
  5. Électronique: Emballage de circuits intégrés, panneaux d'affichage et cellules photovoltaïques.

Optique

  • : Revêtements à faible émissivité (low-E) pour l'efficacité énergétique.Outillage
  • : Revêtements barrière thermique sur les aubes de turbine.Automobile
  • : Finitions décoratives et résistantes à la corrosion sur les garnitures et les composants.Médical
  • : Revêtements biocompatibles pour implants et instruments.Effets et Couleurs des Revêtements
  • Finitions de Surface: Lustre métallique, textures mates ou motifs texturés.

Gamme de Couleurs

  • : Argent, or, noir, bleu et teintes personnalisées via pulvérisation réactive (par exemple, TiN pour des finitions couleur or).Types de Structures
  • Magnétron Plan: Idéal pour le dépôt sur de grandes surfaces (par exemple, verre ou panneaux).

Magnétron Rotatif

  • : Améliore l'utilisation de la cible et le taux de dépôt pour les substrats cylindriques ou courbes.Magnétron Déséquilibré
  • : Génère un plasma à haute densité ionique pour des films denses et adhérents.Matériaux de Substrat
  • Plastiques (ABS, PET, PC), verre, céramiques, métaux et composites.Matériaux de Revêtement

Métaux : Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.

  • Céramiques : SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.

Alliages : NiCr, TiAl et superalliages.

  • Lignes de Production Supportées
  • S'intègre avec les processus post-revêtement comme le durcissement UV ou le traitement au plasma pour une fonctionnalité améliorée.
  • Consommables

Matériaux cibles (métalliques/céramiques), gaz argon et alimentations de pulvérisation.

  • ApplicationsOptique: Miroirs à haute réflectivité et revêtements anti-éblouissement.

Électronique

  • : Oxydes conducteurs transparents (ITO) pour écrans tactiles.

Aérospatiale

  • : Revêtements barrière thermique sur les aubes de turbine.Verre Architectural
  • : Revêtements à faible émissivité (low-E) pour l'efficacité énergétique.Personnalisation
  • Nos systèmes offrent des conceptions modulaires avec des réseaux de magnétrons configurables, des systèmes de pompage à vide et des logiciels de contrôle de processus pour répondre aux exigences de dépôt spécifiques.Modèle d'Équipement de Revêtement Magnétron (Hauteur ≤ 1,3 m)
  • ModèleLion-0710

Lion-1012

Lion-1212



Lion-1412
Lion-1612
Lion-1813
industrie horlogère, industrie 3C, industrie des appareils sanitaires, industrie de la bijouterieΦ700×H1000mm
industrie horlogère, industrie 3C, industrie des appareils sanitaires, industrie de la bijouterieΦ1200×H1200mm
industrie horlogère, industrie 3C, industrie des appareils sanitaires, industrie de la bijouterieΦ1600×H1200mm
industrie horlogère, industrie 3C, industrie des appareils sanitaires, industrie de la bijouterieApplication
industrie horlogère, industrie 3C, industrie des appareils sanitaires, industrie de la bijouterieaccessoires de montre, accessoires de téléphone portable, montures de lunettes, vêtements, éclairage décoratif, articles sanitaires, bagages en quincaillerie, verre, céramique et plastique, etc.
Film de Revêtement
Or Ti, Or Rose, Or Champagne, Or Japonais, Argent Brillant, Arc-en-ciel, Bleu Bijou, Rouge Rose, Noir, etc.
Vide
Structure de porte verticale, équipée d'un système de pompage à air et d'un système de refroidissement par eau
Système de Vide
Pompe de maintien + Pompe mécanique + Pompe Roots + Pompe à diffusion
ou Pompe moléculaire (modèle spécifique selon les exigences du client)
Vide
1 jeu Pirani, 1 jeu cathode froide, 1 jeu manomètre à membrane
Type d'alimentation
Alimentation CC, alimentation MF, alimentation pulsée (alimentation de polarisation, alimentation d'arc)
Ultime
30KW/1 jeu
Puissance de Polarisation
20KW/1 jeu
20KW/1 jeu
20KW/1 jeu
30KW/1 jeu
40KW/1 jeu
60KW/1 jeu
Alimentation Magnétron
1-2 jeu
1-2 jeu






2-3 jeu
3-4 jeu
3-4 jeu
3-4 jeu
Rotation
Planétaire multi-axes avec contrôle de fréquence (peut être contrôlé et ajusté)
Cuisson
Température
~
~
°C
°C
°C
°C
~
600
°C
peut être contrôlé et ajusté (contrôle de température PID)
Gaz, etc.Ar, N₂Méthode,Méthode , etc.RefroidissementMéthodeCirculation par refroidissement à eau, équipée d'une tour de refroidissement industrielle ou d'un refroidisseur d'eau industriel (machine frigorifique), ou d'un système cryogénique (fourni par le client)
Contrôle
Manuel, semi-automatique, automatique, fonctionnement sur écran tactile, contrôlé par PLC ou ordinateur
Pression d'air45~85KWEau45~85KWAvertissementLe système d'alarme fonctionnera en cas d'hydropénie, de surtension, de rupture de circuit et d'autres situations anormales, et effectuera la protection correspondante45~85KW25~65KW45~85KW65~105KW
85~115KW
95~125KW
100~130KW
Sortie
Tension 380V, Fréquence 50Hz (équipé selon la norme électrique nationale des clients)
Occupation
15~50m²
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Remarque
Conception et production de machines spéciales selon les exigences des clients, ajout possible de cibles de pulvérisation magnétron, de cibles doubles MF, etc.

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