Đồ trang sức đồng hồ phụ kiện chân không Magnetron Sputtering Plating Pvd Sputtering Machine Inox Pvd Machine

Phun xạ từ

Tổng quan công nghệ

Giữ từ trường

• : Một từ trường (vuông góc với điện trường) giữ các electron gần bề mặt bia, tăng hiệu quả ion hóa và mật độ plasma.Quá trình phun xạ
• : Các ion Ar⁺ được gia tốc bắn phá bia, làm bật ra các nguyên tử di chuyển đến đế và tạo thành một màng mỏng. Từ trường giảm thiểu sự bắn phá của electron lên đế, giảm hư hại do nhiệt.Ưu điểm chính
• Độ đồng nhất & Độ bám dính: Tạo ra màng có độ đồng nhất độ dày đặc biệt (±5%) và độ bám dính mạnh với đế nhờ sự bắn phá của ion năng lượng cao.

Tính linh hoạt của vật liệu

1. : Tương thích với kim loại (ví dụ: Ti, Cu), gốm (ví dụ: SiO₂, Al₂O₃) và chất bán dẫn.Lắng đọng ở nhiệt độ thấp
2. : Thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm với nhiệt như nhựa và polymer.Kiểm soát quy trình
3. : Cho phép điều chỉnh chính xác các đặc tính của màng (ví dụ: độ dẫn điện, độ cứng) thông qua các thông số plasma.Lớp phủ đa thành phần
4. : Hỗ trợ phun xạ đồng thời nhiều bia để sản xuất hợp kim hoặc lớp gradient.Các ngành ứng dụng
5. Điện tử: Đóng gói IC, màn hình hiển thị và pin mặt trời.

Quang học

• : Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.Dụng cụ
• : Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.Ô tô
• : Lớp hoàn thiện trang trí và chống ăn mòn trên các chi tiết và phụ kiện.Y tế
• : Lớp phủ tương thích sinh học cho cấy ghép và dụng cụ.Hiệu ứng & Màu sắc lớp phủ
• Hoàn thiện bề mặt: Độ bóng kim loại, bề mặt mờ hoặc hoa văn có kết cấu.

Dải màu

• : Bạc, vàng, đen, xanh lam và các tông màu tùy chỉnh thông qua phun xạ phản ứng (ví dụ: TiN cho lớp hoàn thiện giống vàng).Các loại cấu trúc
• Phun xạ từ phẳng: Lý tưởng cho việc phủ diện tích lớn (ví dụ: kính hoặc tấm).

Phun xạ từ quay

• : Tăng hiệu suất sử dụng bia và tốc độ lắng đọng cho đế hình trụ hoặc cong.Phun xạ từ không cân bằng
• : Tạo ra plasma có mật độ ion cao cho các màng dày đặc, bám dính.Vật liệu đế
• Nhựa (ABS, PET, PC), kính, gốm, kim loại và vật liệu composite.Vật liệu phủ

Kim loại: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.

• Gốm: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.

Hợp kim: NiCr, TiAl và siêu hợp kim.

• Dây chuyền sản xuất hỗ trợ
• Tích hợp với các quy trình sau phủ như sấy UV hoặc xử lý plasma để tăng cường chức năng.
• Vật tư tiêu hao

Vật liệu bia (kim loại/gốm), khí argon và nguồn điện phun xạ.

• Ứng dụngQuang học: Gương có độ phản xạ cao và lớp phủ chống chói.

Điện tử

• : Oxit dẫn điện trong suốt (ITO) cho màn hình cảm ứng.

Hàng không vũ trụ

• : Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.Kính kiến trúc
• : Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.Tùy chỉnh
• Hệ thống của chúng tôi cung cấp thiết kế mô-đun với các mảng phun xạ từ có thể cấu hình, hệ thống bơm chân không và phần mềm kiểm soát quy trình để đáp ứng các yêu cầu lắng đọng cụ thể.Mô hình thiết bị phủ phun xạ từ (Chiều cao ≤ 1,3m)
• Mô hìnhLion-0710

Lion