Đồ trang sức đồng hồ phụ kiện chân không Magnetron Sputtering Plating Pvd Sputtering Machine Inox Pvd Machine

Magnetron Sputtering

Thông tin tổng quan về công nghệ

Nguyên tắc hoạt động

• Sản xuất plasma: Một trường điện cao áp ion hóa khí argon, tạo ra các ion Ar + và electron.
• Lưu trữ từ tính: Một trường từ (phân thẳng với trường điện) bẫy các electron gần bề mặt mục tiêu, tăng hiệu quả ion hóa và mật độ plasma.
• Quá trình phun: Các ion Ar + tăng tốc tấn công mục tiêu, loại bỏ các nguyên tử đi đến chất nền và tạo thành một lớp mỏng..

Ưu điểm chính

1. Đồng nhất & Tham gia: Sản xuất các bộ phim có độ dày đồng nhất đặc biệt (± 5%) và gắn kết nền mạnh do pháo kích ion năng lượng cao.
2. Sự linh hoạt về vật chất: Tương thích với kim loại (ví dụ Ti, Cu), gốm (ví dụ SiO2, Al2O3) và bán dẫn.
3. Sự lắng đọng ở nhiệt độ thấp: Thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm với nhiệt như nhựa và polyme.
4. Kiểm soát quy trình: Cho phép điều chỉnh chính xác các tính chất của phim (ví dụ: dẫn điện, độ cứng) thông qua các thông số plasma.
5. Lớp phủ đa thành phần: Hỗ trợ đồng phun nhiều mục tiêu cho hợp kim hoặc sản xuất lớp gradient.

Ngành công nghiệp ứng dụng

• Điện tử: Bao bì IC, bảng hiển thị và pin quang điện.
• Kính quang: Lớp phủ chống phản xạ, gương và bộ lọc quang học.
• Công cụ: Lớp phủ chống mòn cho công cụ cắt và khuôn.
• Ô tô: Sơn trang trí và chống ăn mòn trên các phần và thành phần.
• Y tế: Các lớp phủ tương thích sinh học cho cấy ghép và dụng cụ.

Hiệu ứng sơn và màu sắc

• Xét mặt: Sáng kim loại, kết cấu mờ, hoặc các mẫu kết cấu.
• Phạm vi màu sắc: Bạc, vàng, đen, xanh dương và các sắc thái tùy chỉnh thông qua phun phản ứng (ví dụ: TiN cho kết thúc giống vàng).

Các loại cấu trúc

• Magnetron phẳng: Lý tưởng để lắng đọng khu vực lớn (ví dụ: kính hoặc tấm).
• Magnetron xoay: Tăng tỷ lệ sử dụng mục tiêu và lắng đọng cho các chất nền hình trụ hoặc cong.
• Magnetron không cân bằng: Tạo ra plasma với mật độ ion cao cho các bộ phim dày đặc, dính.

Vật liệu nền

• Nhựa (ABS, PET, PC), thủy tinh, gốm sứ, kim loại và vật liệu tổng hợp.

Vật liệu sơn

• Kim loại: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
• Thạch sứ: SiO2, Al2O3, TiO2, Si3N4.
• Hợp kim: NiCr, TiAl và siêu hợp kim.

Các dây chuyền sản xuất hỗ trợ

• Tích hợp vớiCác quy trình sau lớp phủnhư làm cứng tia UV hoặc điều trị bằng plasma để tăng chức năng.

Các sản phẩm tiêu thụ

• Vật liệu mục tiêu (kim loại / gốm), khí argon và nguồn cung cấp năng lượng phun.

Ứng dụng

• Kính quang: Kính phản xạ cao và lớp phủ chống chói.
• Điện tử: Oxit dẫn điện trong suốt (ITO) cho màn hình cảm ứng.
• Hàng không vũ trụ: Lớp phủ chắn nhiệt trên lưỡi máy.
• Kính kiến trúc: Lớp phủ phát thải thấp (low-E) cho hiệu quả năng lượng.

Tùy chỉnh