Đồ trang sức đồng hồ phụ kiện chân không Magnetron Sputtering Plating Pvd Sputtering Machine Inox Pvd Machine

Nơi xuất xứ:Triệu Khánh, Quảng Đông

Tên thương hiệu:Zhongda

Chứng nhận:CE

Số lượng đặt hàng tối thiểu:1

Thời gian giao hàng:20

Tags:

Máy phún xạ Magnetron

Hệ thống lớp phủ chân không phun magnetron

Máy phủ chân không phun magnetron

Chi tiết sản phẩm

Làm nổi bật:

Máy Phủ Màng Chân Không Phun Phủ Magnetron Tự Động

Máy Phủ Magnetron Cho Trang Sức

Máy Phủ Màng Phun Phủ Magnetron Cho Trang Sức

Application: Quang học, trang trí, chức năng

Coating Product: Thủy tinh, kim loại, nhựa, gốm, vv

Coating Color: Vàng, bạc, đen, xanh dương, xanh lá cây, v.v.

Target Size: Có thể tùy chỉnh

Target Material: Kim loại, hợp kim, gốm sứ

Coating Technology: Magnetron Sputtering

Coatings: TIN, TIC, TICN, TIALN, CRN, CU, AU, DLC

Material: thép không gỉ

Coating Colors: Đen/xanh/đỏ

Machine Size: Tùy chỉnh

Coating Thickness: 0,01-10 micron

Vacuum System: Độ chân không cao

Coating Uniformity: ≤±5%

Coating Process: Magnetron Sputtering

Power Supply: DC/RF/AC

Substrate Material: Thủy tinh, kim loại, gốm, nhựa

Substrate Size: Có thể tùy chỉnh

Coating Structure: Lớp đơn, nhiều lớp, gradient, v.v.

Control System: Plc, màn hình cảm ứng, thủ công

Coating Equipment Size: Có thể tùy chỉnh

Coating Material: Kim loại, hợp kim, gốm, vật liệu composite

Coating Method: Magnetron Sputtering

Mô tả sản phẩm

Thông số kỹ thuật chi tiết và đặc điểm

Phun xạ từ

Tổng quan công nghệ

Phun xạ từ là một kỹ thuật Phủ màng mỏng bằng phương pháp bay hơi vật lý (PVD) linh hoạt, được sử dụng rộng rãi để lắng đọng các màng mỏng chất lượng cao trên nhiều loại đế khác nhau. Nó hoạt động bằng cách ion hóa khí trơ (ví dụ: argon) trong buồng chân không cao (áp suất < 10⁻³ Torr), tạo ra plasma. Các ion năng lượng cao từ plasma bắn phá vật liệu bia, làm bật ra các nguyên tử sau đó lắng đọng trên đế dưới dạng một màng đồng nhất, bám dính. Phương pháp này đặc biệt phù hợp với kim loại, hợp kim, gốm và vật liệu hợp chất, mang lại khả năng kiểm soát chính xác thành phần và độ dày của màng.Mô hìnhH1400H1500

-1212	Đường kính buồng (mm)	1400	1500
1600	Đường kính cuộn tối đa (mm)	600	700
700-750	Ar, N	12	12
12~16	600~1250	600~1250	600~1250
1050~1800	0~5	0~5	0~5
0~5	90~180	90~180	90~180
100~200	Tốc độ quấn (m/phút)	100~400	100~500
100~500	Diện tích chiếm dụng (m)	1084.6	1084.6
1084.8	Tạo plasma	Tạo plasma	: Một điện trường cao áp ion hóa khí argon, tạo ra các ion Ar⁺ và electron.

Giữ từ trường

: Một từ trường (vuông góc với điện trường) giữ các electron gần bề mặt bia, tăng hiệu quả ion hóa và mật độ plasma.Quá trình phun xạ
: Các ion Ar⁺ được gia tốc bắn phá bia, làm bật ra các nguyên tử di chuyển đến đế và tạo thành một màng mỏng. Từ trường giảm thiểu sự bắn phá của electron lên đế, giảm hư hại do nhiệt.Ưu điểm chính
Độ đồng nhất & Độ bám dính: Tạo ra màng có độ đồng nhất độ dày đặc biệt (±5%) và độ bám dính mạnh với đế nhờ sự bắn phá của ion năng lượng cao.

Tính linh hoạt của vật liệu

: Tương thích với kim loại (ví dụ: Ti, Cu), gốm (ví dụ: SiO₂, Al₂O₃) và chất bán dẫn.Lắng đọng ở nhiệt độ thấp
: Thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm với nhiệt như nhựa và polymer.Kiểm soát quy trình
: Cho phép điều chỉnh chính xác các đặc tính của màng (ví dụ: độ dẫn điện, độ cứng) thông qua các thông số plasma.Lớp phủ đa thành phần
: Hỗ trợ phun xạ đồng thời nhiều bia để sản xuất hợp kim hoặc lớp gradient.Các ngành ứng dụng
Điện tử: Đóng gói IC, màn hình hiển thị và pin mặt trời.

Quang học

: Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.Dụng cụ
: Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.Ô tô
: Lớp hoàn thiện trang trí và chống ăn mòn trên các chi tiết và phụ kiện.Y tế
: Lớp phủ tương thích sinh học cho cấy ghép và dụng cụ.Hiệu ứng & Màu sắc lớp phủ
Hoàn thiện bề mặt: Độ bóng kim loại, bề mặt mờ hoặc hoa văn có kết cấu.

Dải màu

: Bạc, vàng, đen, xanh lam và các tông màu tùy chỉnh thông qua phun xạ phản ứng (ví dụ: TiN cho lớp hoàn thiện giống vàng).Các loại cấu trúc
Phun xạ từ phẳng: Lý tưởng cho việc phủ diện tích lớn (ví dụ: kính hoặc tấm).

Phun xạ từ quay

: Tăng hiệu suất sử dụng bia và tốc độ lắng đọng cho đế hình trụ hoặc cong.Phun xạ từ không cân bằng
: Tạo ra plasma có mật độ ion cao cho các màng dày đặc, bám dính.Vật liệu đế
Nhựa (ABS, PET, PC), kính, gốm, kim loại và vật liệu composite.Vật liệu phủ

Kim loại: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.

Gốm: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.

Hợp kim: NiCr, TiAl và siêu hợp kim.

Dây chuyền sản xuất hỗ trợ
Tích hợp với các quy trình sau phủ như sấy UV hoặc xử lý plasma để tăng cường chức năng.
Vật tư tiêu hao

Vật liệu bia (kim loại/gốm), khí argon và nguồn điện phun xạ.

Ứng dụngQuang học: Gương có độ phản xạ cao và lớp phủ chống chói.

Điện tử

: Oxit dẫn điện trong suốt (ITO) cho màn hình cảm ứng.

Hàng không vũ trụ

: Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.Kính kiến trúc
: Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.Tùy chỉnh
Hệ thống của chúng tôi cung cấp thiết kế mô-đun với các mảng phun xạ từ có thể cấu hình, hệ thống bơm chân không và phần mềm kiểm soát quy trình để đáp ứng các yêu cầu lắng đọng cụ thể.Mô hình thiết bị phủ phun xạ từ (Chiều cao ≤ 1,3m)
Mô hìnhLion-0710

Lion

-1012

Lion
-1212	Lion	Φ1200×H1200mmLion	Φ1200×H1200mmLion	Φ1200×H1200mmBuồng chân không	Φ1200×H1200mmΦ1000×H1200mm	Φ1200×H1200mmΦ1400×H1200mm
Φ1600×H1200mm	Φ1800×H1300mm	Ứng dụng	ngành công nghiệp đồng hồ, ngành công nghiệp 3C, ngành công nghiệp thiết bị vệ sinh, ngành công nghiệp trang sức	phụ kiện đồng hồ, phụ kiện điện thoại di động, khung kính, quần áo, đèn trang trí, thiết bị vệ sinh, vali phần cứng, kính, gốm và nhựa, v.v.	Màng phủ	Vàng Ti, Vàng hồng, Vàng Champagne, Vàng Nhật Bản, Bạc sáng, Cầu vồng, Xanh trang sức, Đỏ hồng, Đen, v.v.
Chân không	Cấu trúc cửa dọc, trang bị hệ thống bơm khí và hệ thống làm mát bằng nước
Chân không	Hệ thống chân không
Bơm duy trì + Bơm cơ + Bơm Roots + Bơm khuếch tán	hoặc Bơm phân tử (mô hình cụ thể theo yêu cầu của khách hàng)
1.0- 6.0×10⁻⁴Pa, Làm mát không tải	1 bộ pirani, 1 bộ cathode lạnh, 1 bộ đo màng
Loại nguồn cấp	Nguồn DC, nguồn MF, nguồn xung (nguồn thiên áp, nguồn hồ quang) Tối ưu
1.0- 6.0×10⁻⁴Pa, Làm mát không tải	Nguồn thiên áp
20KW/bộ	20KW/bộ
20KW/bộ	30KW/bộ

40KW/bộ	1-2 bộ	1-2 bộ	1-2 bộ	1-2 bộ	2-3 bộ	2-3 bộ
3-4 bộ	Quay	Quay	Sấy	Sấy	Nhiệt độ thường	Nhiệt độ thường
～	300
℃ đến 450	℃Hệ thống điều khiển và hiển thị lưu lượng khí làm việc 3 hoặc 4 chiều phù hợp với hệ thống bổ sung khí tự động6002 có thể điều khiển và điều chỉnh (điều khiển nhiệt độ PID)2 Hệ thống điều khiển và hiển thị lưu lượng khí làm việc 3 hoặc 4 chiều phù hợp với hệ thống bổ sung khí tự độngAr, N2, O
2	, C
2	2Thủ công, bán tự động, tự động, vận hành màn hình cảm ứng, điều khiển bằng PLC hoặc máy tính2Thủ công, bán tự động, tự động, vận hành màn hình cảm ứng, điều khiển bằng PLC hoặc máy tínhLàm mátPhương phápThủ công, bán tự động, tự động, vận hành màn hình cảm ứng, điều khiển bằng PLC hoặc máy tínhĐiều khiểnThủ công, bán tự động, tự động, vận hành màn hình cảm ứng, điều khiển bằng PLC hoặc máy tínhÁp suất khí
0.5-0.8MPa Nước	≤25℃ ≥0.2MPa
Cảnh báo	Hệ thống cảnh báo sẽ hoạt động khi xảy ra tình trạng thiếu nước, quá áp, hở mạch và các tình huống bất thường khác, đồng thời thực hiện các biện pháp bảo vệ liên quan
Tổng công suất	25~65KW
45~85KW	65~105KW
85~115KW	95~125KW
100~130KW	Đầu ra	Điện áp 380V, Tần số 50Hz (trang bị theo tiêu chuẩn điện quốc gia của khách hàng)	Chiếm dụng	15~50m²	15~50m²	25~55m²
25~55m²	35~55m²
35~55m²	Thiết kế và sản xuất máy đặc biệt theo yêu cầu của khách hàng, có thể bổ sung bia phun xạ từ, bia đôi MF, v.v.	Thiết kế và sản xuất máy đặc biệt theo yêu cầu của khách hàng, có thể bổ sung bia phun xạ từ, bia đôi MF, v.v.

Tin nhắn trả lời nhanh

Sản phẩm liên quan

Thiết bị phủ phun magnetron cho các bộ phận phần cứng điện thoại di động được tùy chỉnh theo nhu cầu của khách hàng, máy phủ PVD

I. Core Structure The magnetron sputtering coating equipment for mobile phone hardware parts is a dedicated device designed for small hardware parts such as mobile phone frames, keys, and camera decorative rings. Its core structure is divided into five major modules: vacuum system, sputtering system...

Máy phun Magnetron DC chính xác cao với kích thước tùy chỉnh và lớp phủ đa lớp cho kim loại và thủy tinh

DC Magnetron Sputtering Machine - Vacuum PVD Coating System This high-precision DC Magnetron Sputtering Machine is designed for superior vacuum PVD coating applications on metal and glass substrates. The equipment features rational structure design, uniform coating distribution, excellent quality ...

Chất lượng Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputtering Magnetron với Công Nghệ Ion Đa Vòm, Kích Thước Buồng Tùy Chỉnh và Mật Độ Phủ Cao ≥99.9% cho Ứng Dụng Trang Trí và Chức Năng Nhà máy

Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputtering Magnetron với Công Nghệ Ion Đa Vòm, Kích Thước Buồng Tùy Chỉnh và Mật Độ Phủ Cao ≥99.9% cho Ứng Dụng Trang Trí và Chức Năng

Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine Professional PVD vacuum coating magnetron sputtering machine specifically designed for cutlery and tableware applications, including knives. Working Principle Vacuum magnetron sputtering coating utilizes an orthogonal electromagnetic field where charged ...

Chất lượng Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputter Magnetron Cấp Công Nghiệp với Tốc Độ Bồi Đắp Cao và Chất Lượng Màng Vượt Trội cho Khả Năng Tương Thích Vật Liệu Rộng Rãi Nhà máy

Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputter Magnetron Cấp Công Nghiệp với Tốc Độ Bồi Đắp Cao và Chất Lượng Màng Vượt Trội cho Khả Năng Tương Thích Vật Liệu Rộng Rãi

Industrial Grade Reaction Magnetron Sputtering Vacuum Coater Machine Professional PVD vacuum coating system designed for high-end hardware and stainless steel parts with advanced magnetron sputtering technology. Product Specifications Product Type PVD Vacuum Coating Machine Primary Applications High...