Μηχανή επικαλύψεως κενού με αυτοματοποιημένο σφουγγαρισμό μαγνητόρων
,
Μηχανή επικάλυψης με μαγνητόφωνο για κοσμήματα
,
Μηχανή επικαλύψεως από μαγνητόδραμα κοσμημάτων
Όροι πληρωμής και αποστολής
Ποσότητα παραγγελίας min
1
Χρόνος παράδοσης
20
Περιγραφή προϊόντος
Επιμεταλλωτής με μαγνητρονική εκτόξευση
Επισκόπηση Τεχνολογίας
Η επιμεταλλωτής με μαγνητρονική εκτόξευση είναι μια ευέλικτη Τεχνική Φυσικής Εναπόθεσης Ατμών (PVD) τεχνική που χρησιμοποιείται ευρέως για την εναπόθεση λεπτών υμενίων υψηλής ποιότητας σε διάφορα υποστρώματα. Λειτουργεί με ιονισμό ενός ευγενούς αερίου (π.χ. αργό) σε θάλαμο υψηλού κενού (πίεση < 10⁻³ Torr), δημιουργώντας πλάσμα. Ενεργειακά ιόντα από το πλάσμα βομβαρδίζουν ένα υλικό στόχο, εκτοξεύοντας άτομα που στη συνέχεια εναποτίθενται στο υπόστρωμα ως ομοιόμορφο, προσκολλημένο υμένιο. Αυτή η μέθοδος είναι ιδιαίτερα κατάλληλη για μέταλλα, κράματα, κεραμικά και σύνθετα υλικά, προσφέροντας ακριβή έλεγχο της σύνθεσης και του πάχους του υμενίου.
Μοντέλο
H1400
H1500
H1600
Διάμ. θαλάμου (mm)
1400
1500
1600
Μέγ. διάμ. ρολού (mm)
600
700
700-750
Σκάφες (τεμάχια)
12
12
12~16
Πλάτος ρολού (mm)
600~1250
600~1250
1050~1800
Ταχύτητα τροφοδοσίας σύρματος (m/min)
0~5
0~5
0~5
Ισχύς λειτουργίας (Kw)
80~150
90~180
100~200
Ταχύτητα περιέλιξης (m/min)
100~400
100~500
100~500
Κατειλημμένη περιοχή (m)
10*8*4.6
10*8*4.6
10*8*4.8
Αρχή Λειτουργίας
Δημιουργία Πλάσματος: Ένα ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης ιονίζει το αέριο αργό, παράγοντας ιόντα Ar⁺ και ηλεκτρόνια.
Μαγνητικός Περιορισμός: Ένα μαγνητικό πεδίο (κάθετο στο ηλεκτρικό πεδίο) παγιδεύει ηλεκτρόνια κοντά στην επιφάνεια του στόχου, ενισχύοντας την αποδοτικότητα ιονισμού και την πυκνότητα του πλάσματος.
Διαδικασία Εκτόξευσης: Επιταχυνόμενα ιόντα Ar⁺ χτυπούν τον στόχο, αποσπώντας άτομα που ταξιδεύουν προς το υπόστρωμα και σχηματίζουν ένα λεπτό υμένιο. Το μαγνητικό πεδίο ελαχιστοποιεί τον βομβαρδισμό του υποστρώματος από ηλεκτρόνια, μειώνοντας τη θερμική ζημιά.
Βασικά Πλεονεκτήματα
Ομοιομορφία & Πρόσφυση: Παράγει υμένια με εξαιρετική ομοιομορφία πάχους (±5%) και ισχυρή πρόσφυση στο υπόστρωμα λόγω βομβαρδισμού με ιόντα υψηλής ενέργειας.
Ευελιξία Υλικών: Συμβατό με μέταλλα (π.χ. Ti, Cu), κεραμικά (π.χ. SiO₂, Al₂O₃) και ημιαγωγούς.
Εναπόθεση σε Χαμηλή Θερμοκρασία: Κατάλληλο για ευαίσθητα στη θερμότητα υλικά όπως πλαστικά και πολυμερή.
Έλεγχος Διαδικασίας: Επιτρέπει την ακριβή ρύθμιση των ιδιοτήτων του υμενίου (π.χ. αγωγιμότητα, σκληρότητα) μέσω παραμέτρων πλάσματος.
Επικαλύψεις Πολλαπλών Συστατικών: Υποστηρίζει συν-εκτόξευση πολλαπλών στόχων για παραγωγή κραμάτων ή στρωμάτων κλίσης.
Εφαρμοσμένες Βιομηχανίες
Ηλεκτρονικά: Συσκευασία IC, οθόνες και φωτοβολταϊκά κύτταρα.
Οπτικά: Αντι-ανακλαστικές επικαλύψεις, καθρέφτες και οπτικά φίλτρα.
Εργαλεία: Επικαλύψεις ανθεκτικές στη φθορά για εργαλεία κοπής και καλούπια.
Αυτοκινητοβιομηχανία: Διακοσμητικά και ανθεκτικά στη διάβρωση φινιρίσματα σε διακοσμητικά και εξαρτήματα.
Ιατρική: Βιοσυμβατές επικαλύψεις για εμφυτεύματα και όργανα.
Επιδράσεις & Χρώματα Επικάλυψης
Φινιρίσματα Επιφάνειας: Μεταλλική λάμψη, ματ υφές ή υφές με σχέδια.
Εύρος Χρωμάτων: Ασημί, χρυσό, μαύρο, μπλε και προσαρμοσμένες αποχρώσεις μέσω αντιδραστικής εκτόξευσης (π.χ. TiN για χρυσαφένιες αποχρώσεις).
Τύποι Δομών
Επίπεδο Μαγνητρόνιο: Ιδανικό για εναπόθεση μεγάλης επιφάνειας (π.χ. γυαλί ή πάνελ).
Περιστροφικό Μαγνητρόνιο: Βελτιώνει τη χρήση του στόχου και τον ρυθμό εναπόθεσης για κυλινδρικά ή καμπύλα υποστρώματα.
Μη Ισορροπημένο Μαγνητρόνιο: Δημιουργεί πλάσμα με υψηλή πυκνότητα ιόντων για πυκνά, προσκολλημένα υμένια.
Υλικά Υποστρώματος
Πλαστικά (ABS, PET, PC), γυαλί, κεραμικά, μέταλλα και σύνθετα υλικά.
Υλικά Επικάλυψης
Μέταλλα: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Κεραμικά: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
Κράματα: NiCr, TiAl και υπερκράματα.
Γραμμές Παραγωγής Υποστήριξης
Ενσωματώνεται με διαδικασίες μετά την επικάλυψη όπως σκλήρυνση UV ή επεξεργασία με πλάσμα για βελτιωμένη λειτουργικότητα.
Αναλώσιμα
Υλικά στόχου (μεταλλικά/κεραμικά), αέριο αργό και τροφοδοτικά εκτόξευσης.
Εφαρμογές
Οπτικά: Καθρέφτες υψηλής ανακλαστικότητας και επικαλύψεις κατά της αντανάκλασης.
Ηλεκτρονικά: Διαφανείς αγώγιμοι οξείδια (ITO) για οθόνες αφής.
Αεροδιαστημική: Επικαλύψεις θερμικού φράγματος σε πτερύγια τουρμπίνας.
Αρχιτεκτονικό Γυαλί: Επικαλύψεις χαμηλής εκπομπής (low-E) για ενεργειακή απόδοση.
Προσαρμογή
Τα συστήματά μας προσφέρουν αρθρωτά σχέδια με διαμορφώσιμες συστοιχίες μαγνητρονίων, συστήματα άντλησης κενού και λογισμικό ελέγχου διεργασιών για την κάλυψη συγκεκριμένων απαιτήσεων εναπόθεσης.
DC ισχύς, MF ισχύς, παλμική ισχύς (ισχύς πόλωσης, ισχύς τόξου)
Τελικό
1.0- 6.0×10⁻⁴Pa, Ψύξη χωρίς φορτίο
Ισχύς Πόλωσης
20KW/1 σετ
20KW/1 σετ
20KW/1 σετ
30KW/1 σετ
40KW/1 σετ
60KW/1 σετ
Τροφοδοτικό Μαγνητρονίου
1-2 σετ
1-2 σετ
2-3 σετ
2-3 σετ
3-4 σετ
3-4 σετ
Περιστροφή
Πολυαξονικό πλανητικό με έλεγχο συχνότητας (μπορεί να ελεγχθεί και να ρυθμιστεί)
Ψήσιμο
Θερμοκρασία
Κανονική θερμοκρασία〜300°C έως 450°C〜600°C μπορεί να ελεγχθεί και να ρυθμιστεί (έλεγχος θερμοκρασίας PID)
Αέριο
Σύστημα ελέγχου και εμφάνισης ροής 3 ή 4 οδών εργασίας αερίου, σε συνδυασμό με αυτόματο σύστημα προσθήκης αερίου
Ar, N, κ.λπ., O, κ.λπ., C2, κ.λπ.2, κ.λπ.Ψύξη
Μέθοδος
Κυκλοφορία ψύξης νερού, εξοπλισμένη με βιομηχανικό πύργο ψύξης ή βιομηχανικό ψύκτη νερού (ψυκτική μηχανή), ή κρυογονικό σύστημα (παρέχεται από τους πελάτες)
Έλεγχος
Χειροκίνητος, ημιαυτόματος, αυτόματος, λειτουργία οθόνης αφής, έλεγχος PLC ή υπολογιστή
Πίεση Αέρα
0.5-0.8MPa
Νερό
≤25°C ≥0.2MPa
Προειδοποίηση
Το σύστημα συναγερμού θα λειτουργεί όταν συμβεί υδροπενία, υπέρταση, διακοπή κυκλώματος και άλλες αφύσικες καταστάσεις και θα εκτελεί σχετική προστασία
Συνολική Ισχύς
25~65KW
45~85KW
65~105KW
85~115KW
95~125KW
100~130KW
Έξοδος
Τάση 380V, Συχνότητα 50Hz (εξοπλισμός σύμφωνα με το εθνικό πρότυπο ηλεκτρικής ενέργειας των πελατών)
Κατοχή
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Σημείωση
Σημείωση
Σχεδιασμός και παραγωγή ειδικού μηχανήματος σύμφωνα με τις απαιτήσεις των πελατών, μπορεί να προσθέσει στόχο εκτόξευσης μαγνητρονίου, στόχο διπλής MF, κ.λπ.