دستگاه پوشش خلاء پاشش مغناطیسی اتوماتیک,دستگاه پوشش مغناطیسی برای جواهرات,دستگاه پوشش پاشش مغناطیسی برای جواهرات
,
Magnetron Coating Machine For Jewelry
,
Jewelry Magnetron Sputtering Coating Machine
شرایط پرداخت و ارسال
مقدار حداقل تعداد سفارش
1
زمان تحویل
20
توضیح محصول
اسپاترینگ مغناطِرونی
مروری بر فناوری
اسپاترینگ مغناطِرونی یک روش لایهنشانی بخار فیزیکی (PVD) بسیار متنوع است که به طور گسترده برای لایهنشانی فیلمهای نازک با کیفیت بالا بر روی زیرلایههای مختلف استفاده میشود. این روش با یونیزه کردن یک گاز نجیب (مانند آرگون) در یک محفظه خلاء بالا (فشار کمتر از 10 به توان منفی 3 تور)، پلاسما ایجاد میکند. یونهای پرانرژی از پلاسما به ماده هدف برخورد کرده و اتمهایی را خارج میکنند که سپس به عنوان یک فیلم یکنواخت و چسبنده بر روی زیرلایه رسوب میکنند. این روش به ویژه برای فلزات، آلیاژها، سرامیکها و مواد مرکب مناسب است و کنترل دقیقی بر ترکیب و ضخامت فیلم ارائه میدهد.مدلH1400H1500
Lion-1612
قطر محفظه (میلیمتر)
1400
1500
1600
حداکثر قطر رول (میلیمتر)
600
700
700-750
دستی، نیمه خودکار، خودکار، عملیات صفحه لمسی، کنترل PLC یا کامپیوتر
12
12
12~16
600~1250
600~1250
600~1250
1050~1800
0~5
0~5
0~5
0~5
90~180
90~180
90~180
100~200
سرعت سیمپیچ (متر بر دقیقه)
100~400
100~500
100~500
مساحت اشغال شده (متر)
10*8*4.6
10*8*4.6
10*8*4.8
تولید پلاسما
تولید پلاسما
: یک میدان الکتریکی با ولتاژ بالا، گاز آرگون را یونیزه کرده و یونهای Ar+ و الکترون تولید میکند.
محصورسازی مغناطیسی
: یک میدان مغناطیسی (عمود بر میدان الکتریکی) الکترونها را نزدیک سطح هدف به دام میاندازد و راندمان یونیزاسیون و چگالی پلاسما را افزایش میدهد.فرآیند اسپاترینگ
: یونهای Ar+ شتابدار به هدف برخورد کرده و اتمهایی را جدا میکنند که به سمت زیرلایه حرکت کرده و یک فیلم نازک تشکیل میدهند. میدان مغناطیسی برخورد الکترون به زیرلایه را به حداقل میرساند و آسیب حرارتی را کاهش میدهد.مزایای کلیدی
یکنواختی و چسبندگی: فیلمهایی با یکنواختی ضخامت استثنایی (±5%) و چسبندگی قوی به زیرلایه به دلیل برخورد یونهای پرانرژی تولید میکند.
تنوع مواد
: سازگار با فلزات (مانند Ti، Cu)، سرامیکها (مانند SiO2، Al2O3) و نیمهرساناها.لایهنشانی در دمای پایین
: مناسب برای مواد حساس به حرارت مانند پلاستیکها و پلیمرها.کنترل فرآیند
: امکان تنظیم دقیق خواص فیلم (مانند رسانایی، سختی) را از طریق پارامترهای پلاسما فراهم میکند.لایهنشانی چند جزئی
: از اسپاترینگ همزمان چندین هدف برای تولید آلیاژ یا لایههای گرادیانی پشتیبانی میکند.صنایع کاربردی
الکترونیک: بستهبندی IC، پنلهای نمایشگر و سلولهای فتوولتائیک.
اپتیک
: پوششهای کمانتشار (low-E) برای بهرهوری انرژی.ابزارآلات
: پوششهای سد حرارتی بر روی پرههای توربین.خودروسازی
: پرداختهای تزئینی و مقاوم در برابر خوردگی بر روی تزئینات و قطعات.پزشکی
: پوششهای زیستسازگار برای ایمپلنتها و ابزارها.اثرات و رنگهای پوشش
پرداختهای سطحی: درخشندگی فلزی، بافت مات یا الگوهای بافتدار.
محدوده رنگ
: نقرهای، طلایی، مشکی، آبی و رنگهای سفارشی از طریق اسپاترینگ واکنشی (مانند TiN برای پوششهای شبیه طلا).انواع ساختار
مغناطِرون صفحهای: ایدهآل برای لایهنشانی در مساحت بزرگ (مانند شیشه یا پنلها).
مغناطِرون چرخشی
: بهرهوری هدف و نرخ لایهنشانی را برای زیرلایههای استوانهای یا منحنی افزایش میدهد.مغناطِرون نامتعادل
: پلاسمایی با چگالی یون بالا برای فیلمهای متراکم و چسبنده تولید میکند.مواد زیرلایه
پلاستیکها (ABS، PET، PC)، شیشه، سرامیک، فلزات و کامپوزیتها.مواد پوشش
فلزات: Ti، Cr، Ag، Al، Cu، Au.
سرامیکها: SiO2، Al2O3، TiO2، Si3N4.
آلیاژها: NiCr، TiAl و ابرآلیاژها.
خطوط تولید پشتیبان
با فرآیندهای پس از پوششدهی مانند پخت UV یا عملیات پلاسما برای عملکرد بهبود یافته ادغام میشود.
مواد مصرفی
مواد هدف (فلزی/سرامیکی)، گاز آرگون و منابع تغذیه اسپاترینگ.
کاربردهااپتیک: آینههای با بازتابندگی بالا و پوششهای ضد تابش.
الکترونیک
: اکسیدهای رسانای شفاف (ITO) برای صفحههای لمسی.
هوافضا
: پوششهای سد حرارتی بر روی پرههای توربین.شیشه معماری
: پوششهای کمانتشار (low-E) برای بهرهوری انرژی.سفارشیسازی
سیستمهای ما دارای طرحهای ماژولار با آرایههای مغناطِرونی قابل پیکربندی، سیستمهای پمپ خلاء و نرمافزار کنترل فرآیند برای برآورده کردن الزامات خاص لایهنشانی هستند.مدل تجهیزات پوششدهی مغناطِرونی (ارتفاع ≤ 1.3 متر)