خانه
>
محصولات
>
دستگاه روکش خلاء مگنترون
>
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
|
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| محل منبع | گوانگدونگ |
| نام تجاری | Lion King |
| گواهی | CE |
جزئیات محصول
اندازه اتاقک:
سفارشی شده
سیستم کنترل پوشش:
PLC/صفحه لمسی
راه عملیات:
صفحه نمایش لمسی
سیستم مانیتورینگ پوشش:
زمان واقعی
ضخامت پوشش:
0.1-5 میکرون
منبع تغذیه:
DC/RF/AC
سختی روکش:
≥ HV800
مواد روکش:
فلز، سرامیک، مواد آلی
مواد اتاقک:
فولاد ضد زنگ
سطح خلاء:
خلاء بالا
گارانتی:
1 سال
سرعت پوشش:
سریع
برجسته کردن:
magnetron sputtering vacuum coating machine,multi-arc ion sputtering vacuum chamber,deposition magnetron sputtering machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
شرایط پرداخت و ارسال
مقدار حداقل تعداد سفارش
1
زمان تحویل
45-60 روز کاری
توضیح محصول
1. اصل کارکرد
- ایجاد محیط خلاء: از یک مجموعه پمپ خلاء برای کاهش فشار داخل محفظه پوشش به حالت خلاء بالا (معمولاً ≤10⁻³Pa) استفاده میشود تا از تداخل مولکولهای هوا با رسوب فیلم جلوگیری شود.
- تحریک پلاسما: یک گاز بیاثر (مانند آرگون) به داخل محفظه وارد میشود و یک میدان الکتریکی با ولتاژ بالا بین هدف (ماده پوشش، به عنوان مثال، آلومینیوم، تیتانیوم، ITO) و زیرلایه اعمال میشود تا گاز آرگون یونیزه شده و پلاسما تولید شود.
- رسوب اسپاترینگ مغناطیسی: از یک میدان مغناطیسی برای محدود کردن مسیر حرکت الکترونها استفاده میشود و راندمان برخورد بین الکترونها و مولکولهای آرگون را افزایش میدهد. این باعث میشود یونهای آرگون با سرعت بالا به سطح هدف برخورد کنند؛ اتمهای هدف "اسپاتر" شده، در یک خط مستقیم حرکت کرده و روی سطح زیرلایه رسوب میکنند تا یک فیلم یکنواخت تشکیل دهند.
2. مزایای اصلی
- کیفیت بالای فیلم: فیلم دارای یکنواختی خوب (انحراف قابل کنترل در حدود ±5%) و چسبندگی قوی به زیرلایه است، که باعث میشود کمتر پوسته پوسته شود یا ترک بخورد.
- راندمان بالای پوشش: طراحی استفاده از میدان مغناطیسی برای محدود کردن الکترونها، سرعت اسپاترینگ را به طور قابل توجهی بهبود میبخشد. نرخ رسوب تک هدفی میتواند به 0.1-10 میکرومتر در دقیقه برسد که برای تولید انبوه مناسب است.
- سازگاری گسترده مواد: مواد پوشش قابل استفاده شامل فلزات (آلومینیوم، مس، نقره)، آلیاژها (فولاد ضد زنگ، آلیاژ تیتانیوم) و ترکیبات (ITO، SiO₂، Al₂O₃) است که نیازهای عملکردی مختلف را برآورده میکند.
- سازگاری با محیط زیست و عدم آلودگی: کل فرآیند فاقد تخلیه مایعات شیمیایی زائد یا گازهای مضر است و فقط از گازهای بیاثر و اهداف جامد استفاده میکند که با استانداردهای حفاظت از محیط زیست صنعتی مدرن مطابقت دارد.
3. زمینههای اصلی کاربرد
| صنعت کاربرد | نمونههای استفاده خاص | الزامات اصلی |
|---|---|---|
| صنعت اطلاعات الکترونیکی | پوشش الکترود تراشه، فیلم رسانای ITO نمایشگر، فیلم هد مغناطیسی | رسانایی بالا، یکنواختی فیلم، کنترل دقیق |
| زمینه نوری | فیلم ضد انعکاس برای عینک، فیلم فیلتر برای لنز دوربین، لنز لیزر | انعکاس کم، انتقال نور بالا، مقاومت در برابر سایش |
| پوشش تزئینی و کاربردی | فیلمهای تزئینی برای سختافزار (مانند طلای تیتانیوم، طلای زیرکونیوم)، فیلمهای مقاوم در برابر سایش برای ابزارهای برش | زیباییشناسی، مقاومت در برابر خوردگی، سختی بالا |
| صنعت انرژی نو | پوشش قطعه قطب باتری لیتیومی، فیلم ضد انعکاس برای شیشه فتوولتائیک | چسبندگی بالا، راندمان تولید انبوه، هزینه کم |
4. پارامترهای فنی کلیدی (مرجع)
- درجه خلاء: خلاء نهایی ≤5*10⁻⁵Pa، خلاء کاری 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- پیکربندی هدف: تک هدفی، دو هدفی یا چند هدفی (پشتیبانی از اسپاترینگ DC، RF و فرکانس متوسط)، اندازه هدف Φ50-300mm
- اندازه زیرلایه: قابل سفارشیسازی؛ اندازههای معمول شامل مواد ورق (100*100mm - 1000*1000mm) و مواد کویل (عرض ≤1600mm) است.
- نرخ رسوب: 0.5-10 میکرومتر در دقیقه برای فیلمهای فلزی، 0.1-2 میکرومتر در دقیقه برای فیلمهای اکسیدی
- دمای گرمایش زیرلایه: دمای اتاق - 500℃ (کنترل دقیق دما موجود است، اختلاف دما ±2℃)
محصولات پیشنهادی
-
ویدیو
در هر زمان با ما تماس بگیرید
18207198662
جاده لانتانگ جنوبی، منطقه دوانژو، شهر ژائوکینگ، گوانگدونگ 526060 چین
