Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733
محل مبدا:ژائوکینگ، گوانگدونگ
نام تجاری:Zhongda
گواهینامه:CE
حداقل مقدار سفارش:1
زمان تحویل:45-60 روز کاری
جزئیات محصول
برجسته کردن:

magnetron sputtering vacuum coating machine

,

multi-arc ion sputtering vacuum chamber

,

deposition magnetron sputtering machine

Chamber Size: سفارشی شده
Coating Control System: PLC/صفحه لمسی
Operation Way: صفحه نمایش لمسی
Coating Monitoring System: زمان واقعی
Coating Thickness: 0.1-5 میکرون
Coating Power Supply: DC/RF/AC
Coating Hardness: ≥ HV800
Coating Materials: فلز، سرامیک، مواد آلی
Chamber Material: فولاد ضد زنگ
Vacuum Level: خلاء بالا
Warranty: 1 سال
Coating Speed: سریع
توضیح محصول
مشخصات و ویژگی‌های دقیق
1. اصل کارکرد
  1. ایجاد محیط خلاء: از یک مجموعه پمپ خلاء برای کاهش فشار داخل محفظه پوشش به حالت خلاء بالا (معمولاً ≤10⁻³Pa) استفاده می‌شود تا از تداخل مولکول‌های هوا با رسوب فیلم جلوگیری شود.
  2. تحریک پلاسما: یک گاز بی‌اثر (مانند آرگون) به داخل محفظه وارد می‌شود و یک میدان الکتریکی با ولتاژ بالا بین هدف (ماده پوشش، به عنوان مثال، آلومینیوم، تیتانیوم، ITO) و زیرلایه اعمال می‌شود تا گاز آرگون یونیزه شده و پلاسما تولید شود.
  3. رسوب اسپاترینگ مغناطیسی: از یک میدان مغناطیسی برای محدود کردن مسیر حرکت الکترون‌ها استفاده می‌شود و راندمان برخورد بین الکترون‌ها و مولکول‌های آرگون را افزایش می‌دهد. این باعث می‌شود یون‌های آرگون با سرعت بالا به سطح هدف برخورد کنند؛ اتم‌های هدف "اسپاتر" شده، در یک خط مستقیم حرکت کرده و روی سطح زیرلایه رسوب می‌کنند تا یک فیلم یکنواخت تشکیل دهند.
2. مزایای اصلی
  • کیفیت بالای فیلم: فیلم دارای یکنواختی خوب (انحراف قابل کنترل در حدود ±5%) و چسبندگی قوی به زیرلایه است، که باعث می‌شود کمتر پوسته پوسته شود یا ترک بخورد.
  • راندمان بالای پوشش: طراحی استفاده از میدان مغناطیسی برای محدود کردن الکترون‌ها، سرعت اسپاترینگ را به طور قابل توجهی بهبود می‌بخشد. نرخ رسوب تک هدفی می‌تواند به 0.1-10 میکرومتر در دقیقه برسد که برای تولید انبوه مناسب است.
  • سازگاری گسترده مواد: مواد پوشش قابل استفاده شامل فلزات (آلومینیوم، مس، نقره)، آلیاژها (فولاد ضد زنگ، آلیاژ تیتانیوم) و ترکیبات (ITO، SiO₂، Al₂O₃) است که نیازهای عملکردی مختلف را برآورده می‌کند.
  • سازگاری با محیط زیست و عدم آلودگی: کل فرآیند فاقد تخلیه مایعات شیمیایی زائد یا گازهای مضر است و فقط از گازهای بی‌اثر و اهداف جامد استفاده می‌کند که با استانداردهای حفاظت از محیط زیست صنعتی مدرن مطابقت دارد.
3. زمینه‌های اصلی کاربرد
صنعت کاربرد نمونه‌های استفاده خاص الزامات اصلی
صنعت اطلاعات الکترونیکی پوشش الکترود تراشه، فیلم رسانای ITO نمایشگر، فیلم هد مغناطیسی رسانایی بالا، یکنواختی فیلم، کنترل دقیق
زمینه نوری فیلم ضد انعکاس برای عینک، فیلم فیلتر برای لنز دوربین، لنز لیزر انعکاس کم، انتقال نور بالا، مقاومت در برابر سایش
پوشش تزئینی و کاربردی فیلم‌های تزئینی برای سخت‌افزار (مانند طلای تیتانیوم، طلای زیرکونیوم)، فیلم‌های مقاوم در برابر سایش برای ابزارهای برش زیبایی‌شناسی، مقاومت در برابر خوردگی، سختی بالا
صنعت انرژی نو پوشش قطعه قطب باتری لیتیومی، فیلم ضد انعکاس برای شیشه فتوولتائیک چسبندگی بالا، راندمان تولید انبوه، هزینه کم
4. پارامترهای فنی کلیدی (مرجع)
  • درجه خلاء: خلاء نهایی ≤5*10⁻⁵Pa، خلاء کاری 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
  • پیکربندی هدف: تک هدفی، دو هدفی یا چند هدفی (پشتیبانی از اسپاترینگ DC، RF و فرکانس متوسط)، اندازه هدف Φ50-300mm
  • اندازه زیرلایه: قابل سفارشی‌سازی؛ اندازه‌های معمول شامل مواد ورق (100*100mm - 1000*1000mm) و مواد کویل (عرض ≤1600mm) است.
  • نرخ رسوب: 0.5-10 میکرومتر در دقیقه برای فیلم‌های فلزی، 0.1-2 میکرومتر در دقیقه برای فیلم‌های اکسیدی
  • دمای گرمایش زیرلایه: دمای اتاق - 500℃ (کنترل دقیق دما موجود است، اختلاف دما ±2℃)
پیام برای پاسخ سریع
محصولات مرتبط