Домой
>
продукты
>
Магнетроновая вакуумная вакуумная машина
>
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
|
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| Место происхождения | Гуандун |
| Фирменное наименование | Lion King |
| Сертификация | CE |
Детали продукта
Размер камеры:
индивидуальный
Система контроля покрытия:
ПЛК/сенсорный экран
Операция Путь:
Сенсорный экран
Система контроля покрытия:
В режиме реального времени
Толщина покрытия:
0,1-5 микрон
Покрытие источника питания:
DC/RF/AC
Твердость покрытия:
≥HV800
Покрытие материалов:
Металл, Керамика, Органические материалы
Материал камеры:
Нержавеющая сталь
Уровень вакуума:
Высокий вакуум
Гарантия:
1 год
Скорость нанесения покрытия:
Быстрый
Выделить:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
Условия оплаты и доставки
Количество мин заказа
1
Время доставки
45-60 рабочих дней
Описание продукта
1Основной принцип работы
- Установка вакуумной среды: для снижения давления внутри камеры покрытия до высокого вакуумного состояния (обычно ≤ 10−3Pa) используется вакуумный насос.предотвращение воздействия молекул воздуха на отложение пленки.
- Разбуждение плазмы: в камеру вводится инертный газ (например, аргон), и между целью (материалом покрытия, например, алюминиевым, титановым,ITO) и субстрат для ионизации газа аргона и генерации плазмы.
- Магнитное распыление: магнитное поле используется для ограничения траектории движения электронов, повышая эффективность столкновения между электронами и молекулами аргона.Это заставляет ионы аргона бомбить поверхность цели на высокой скорости.; атомы-мишень "распыляются", перемещаются по прямой линии и оседают на поверхности субстрата, образуя равномерную пленку.
2Основные преимущества
- Высокое качество пленки: пленка имеет хорошую однородность (отклонение может контролироваться в пределах ± 5%) и сильное сцепление с субстратом, что уменьшает вероятность ее оскребления или трещин.
- Высокая эффективность покрытия: Конструкция с использованием магнитного поля для ограничения электронов значительно улучшает скорость распыливания.
- Широкая адаптивность материала: применимые материалы покрытия включают металлы (алюминий, медь, серебро), сплавы (нержавеющая сталь, титановый сплав) и соединения (ITO, SiO2, Al2O3), отвечающие различным функциональным требованиям.
- Экологичность и отсутствие загрязнения: Весь процесс не имеет выбросов жидких химических отходов или вредных газов, и использует только инертные газы и твердые цели, соответствующие современным промышленным стандартам охраны окружающей среды.
3. Основные области применения
| Промышленность применения | Примеры конкретных применений | Основные требования |
|---|---|---|
| Электронная информационная промышленность | Покрытие микроскопических электродов, проводчивая пленка ITO для дисплея, магнитная пленка для головки | Высокая проводимость, однородность пленки, точное управление |
| Оптическое поле | Антиотражательная пленка для очков, фильтрующая пленка для объективов фотоаппаратов, лазерных объективов | Низкая отражательность, высокая светопроницаемость, износостойкость |
| Декоративное и функциональное покрытие | Декоративные пленки для оборудования (например, титановое золото, циркониевое золото), износостойкие пленки для режущих инструментов | Эстетика, коррозионная стойкость, высокая твердость |
| Новая энергетическая промышленность | Литийная батарея, покрытие на столбиках, антиотражательная пленка для фотоэлектрического стекла | Высокая адгезия, эффективность серийного производства, низкая стоимость |
4Ключевые технические параметры (ссылка)
- Степень вакуума: конечный вакуум ≤5*10−5Pa, рабочий вакуум 1*10−3 - 5*10−1Pa
- Конфигурация цели: одноцелевая, двойная или многоцелевая (поддерживает распыливание постоянного тока, радиочастот и средней частоты), размер цели Φ50-300 мм
- Размер подложки: можно настроить; обычные размеры покрывают листовые материалы (100*100мм - 1000*1000мм) и катушные материалы (ширина ≤1600мм)
- Скорость осаждения: 0,5-10 мкм/мин для металлических пленок, 0,1-2 мкм/мин для оксидных пленок
- Температура нагрева подложки: комнатная температура - 500°C (доступен точный контроль температуры, разница температуры ±2°C)
Рекомендуемые товары
СОТРАНИВАЙСЯ С НАМИ в любое время
18207198662
Южная дорога Лантанг, район Дуаньчжоу, город Чжаоцин, провинция Гуандун 526060 Китай
