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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग मशीन
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| उत्पत्ति के प्लेस | गुआंग्डोंग |
| ब्रांड नाम | Lion King |
| प्रमाणन | CE |
उत्पाद विवरण
चैंबर का आकार:
अनुकूलित
कोटिंग नियंत्रण प्रणाली:
पीएलसी/टच स्क्रीन
संचालन मार्ग:
टच स्क्रीन
कोटिंग निगरानी प्रणाली:
रियल टाइम
कोटिंग की मोटाई:
0.1-5 माइक्रोन
कोटिंग बिजली की आपूर्ति:
डीसी/आरएफ/एसी
कोटिंग कठोरता:
≥HV800
कोटिंग सामग्री:
धातु, चीनी मिट्टी, जैविक सामग्री
चैम्बर सामग्री:
स्टेनलेस स्टील
वैक्यूम स्तर:
उच्च वैक्यूम
गारंटी:
1 वर्ष
कोटिंग की गति:
तेज़
प्रमुखता देना:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
भुगतान और शिपिंग शर्तें
न्यूनतम आदेश मात्रा
1
प्रसव के समय
45-60 कार्य दिवस
उत्पाद वर्णन
1मूल कार्य सिद्धांत
- वैक्यूम वातावरण की स्थापनाः कोटिंग कक्ष के अंदर दबाव को उच्च वैक्यूम स्थिति (आमतौर पर ≤10−3Pa) तक कम करने के लिए एक वैक्यूम पंप सेट का उपयोग किया जाता है।हवा के अणुओं को फिल्म जमाव में हस्तक्षेप करने से रोकना.
- प्लाज्मा उत्तेजनाः एक निष्क्रिय गैस (जैसे आर्गन) कक्ष में लाया जाता है, और एक उच्च वोल्टेज विद्युत क्षेत्र लक्ष्य (कोटिंग सामग्री, उदाहरण के लिए, एल्यूमीनियम, टाइटेनियम,ITO) और सब्सट्रेट आर्गन गैस को आयनित करने और प्लाज्मा उत्पन्न करने के लिए.
- मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग जमाव: इलेक्ट्रॉनों और आर्गॉन अणुओं के बीच टकराव दक्षता को बढ़ाने के लिए इलेक्ट्रॉन आंदोलन प्रक्षेपवक्र को सीमित करने के लिए एक चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग किया जाता है।इससे आर्गन आयन उच्च गति से लक्ष्य सतह पर बमबारी करते हैंलक्ष्य परमाणुओं को "बाहर छिड़का जाता है", एक सीधी रेखा में आगे बढ़ते हैं, और एक समान फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह पर जमा होते हैं।
2मुख्य लाभ
- उच्च फिल्म गुणवत्ता: फिल्म में अच्छी एकरूपता है (अवरोध ± 5% के भीतर नियंत्रित किया जा सकता है) और सब्सट्रेट पर मजबूत आसंजन है, जिससे इसे छीलने या दरार करने की संभावना कम होती है।
- उच्च कोटिंग दक्षता: इलेक्ट्रॉनों को सीमित करने के लिए चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग करने के डिजाइन से स्पटरिंग दर में काफी सुधार होता है। एकल-लक्ष्य जमा दर 0.1-10μm/min तक पहुंच सकती है, जो बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त है।
- व्यापक सामग्री अनुकूलन क्षमता: लागू कोटिंग सामग्रियों में धातु (एल्यूमीनियम, तांबा, चांदी), मिश्र धातु (स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम मिश्र धातु) और यौगिक (ITO, SiO2, Al2O3) शामिल हैं, जो विभिन्न कार्यात्मक आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।
- पर्यावरण के अनुकूल और कोई प्रदूषण नहीं: पूरी प्रक्रिया में रासायनिक अपशिष्ट तरल या हानिकारक गैसों का कोई उत्सर्जन नहीं होता है, और केवल निष्क्रिय गैसों और ठोस लक्ष्यों का उपयोग किया जाता है, जो आधुनिक औद्योगिक पर्यावरण संरक्षण मानकों का अनुपालन करते हैं।
3मुख्य अनुप्रयोग क्षेत्र
| अनुप्रयोग उद्योग | विशिष्ट उपयोगों के उदाहरण | मुख्य आवश्यकताएं |
|---|---|---|
| इलेक्ट्रॉनिक सूचना उद्योग | चिप इलेक्ट्रोड कोटिंग, डिस्प्ले आईटीओ चालक फिल्म, चुंबकीय सिर फिल्म | उच्च चालकता, फिल्म एकरूपता, सटीक नियंत्रण |
| ऑप्टिकल क्षेत्र | चश्मे के लिए प्रतिबिंब विरोधी फिल्म, कैमरा लेंस के लिए फिल्टर फिल्म, लेजर लेंस | कम परावर्तनशीलता, उच्च प्रकाश पारगम्यता, पहनने के प्रतिरोध |
| सजावटी और कार्यात्मक कोटिंग | हार्डवेयर के लिए सजावटी फिल्में (जैसे टाइटेनियम सोना, ज़िरकोनियम सोना), काटने के औजारों के लिए पहनने के प्रतिरोधी फिल्में | सौंदर्यशास्त्र, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च कठोरता |
| नई ऊर्जा उद्योग | लिथियम बैटरी पोल टुकड़ा कोटिंग, फोटोवोल्टिक ग्लास के लिए प्रतिबिंब विरोधी फिल्म | उच्च आसंजन, बड़े पैमाने पर उत्पादन दक्षता, कम लागत |
4मुख्य तकनीकी मापदंड (संदर्भ)
- वैक्यूम डिग्रीः अंतिम वैक्यूम ≤5*10−5Pa, कार्य वैक्यूम 1*10−3 - 5*10−1Pa
- लक्ष्य विन्यासः एकल-लक्ष्य, डबल-लक्ष्य, या बहु-लक्ष्य (सीसी, आरएफ, और मध्य आवृत्ति स्पटरिंग का समर्थन), लक्ष्य आकार Φ50-300 मिमी
- सब्सट्रेट आकारः अनुकूलन योग्य; पारंपरिक आकार शीट सामग्री (100*100mm - 1000*1000mm) और रोल्ड सामग्री (चौड़ाई ≤1600mm) को कवर करते हैं
- अवशोषण दरः धातु फिल्मों के लिए 0.5-10μm/मिनट, ऑक्साइड फिल्मों के लिए 0.1-2μm/मिनट
- सब्सट्रेट हीटिंग तापमानः कमरे का तापमान - 500°C (सटीक तापमान नियंत्रण उपलब्ध, तापमान अंतर ±2°C)
अनुशंसित उत्पाद
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