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Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo
Detalles del producto
Resaltar:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
Chamber Size:
personalizado
Coating Control System:
Pantalla PLC/TOUCH
Operation Way:
Pantalla táctil
Coating Monitoring System:
en tiempo real
Coating Thickness:
0.1-5 micras
Coating Power Supply:
DC/RF/AC
Coating Hardness:
≥HV800
Coating Materials:
Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos
Chamber Material:
Acero inoxidable
Vacuum Level:
Alto vacío
Warranty:
1 año
Coating Speed:
Rápido
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
1. Principio de Trabajo Central
- Establecimiento de Entorno de Vacío: Se utiliza un conjunto de bomba de vacío para reducir la presión dentro de la cámara de recubrimiento a un estado de alto vacío (generalmente ≤10⁻³Pa), evitando que las moléculas de aire interfieran con la deposición de la película.
- Excitación de Plasma: Se introduce un gas inerte (como argón) en la cámara y se aplica un campo eléctrico de alto voltaje entre el objetivo (material de recubrimiento, por ejemplo, aluminio, titanio, ITO) y el sustrato para ionizar el gas argón y generar plasma.
- Deposición por Pulverización Catódica Magnetrón: Se utiliza un campo magnético para restringir la trayectoria de movimiento de los electrones, mejorando la eficiencia de colisión entre los electrones y las moléculas de argón. Esto hace que los iones de argón bombardeen la superficie del objetivo a alta velocidad; los átomos del objetivo son "pulverizados", se mueven en línea recta y se depositan en la superficie del sustrato para formar una película uniforme.
2. Ventajas Centrales
- Alta Calidad de Película: La película tiene buena uniformidad (la desviación se puede controlar dentro de ±5%) y una fuerte adhesión al sustrato, lo que la hace menos propensa a despegarse o agrietarse.
- Alta Eficiencia de Recubrimiento: El diseño de usar un campo magnético para restringir los electrones mejora significativamente la tasa de pulverización. La tasa de deposición de un solo objetivo puede alcanzar 0.1-10μm/min, adecuada para producción en masa.
- Amplia Adaptabilidad de Materiales: Los materiales de recubrimiento aplicables incluyen metales (aluminio, cobre, plata), aleaciones (acero inoxidable, aleación de titanio) y compuestos (ITO, SiO₂, Al₂O₃), cumpliendo con diferentes requisitos funcionales.
- Respetuoso con el Medio Ambiente y Sin Contaminación: Todo el proceso no produce descarga de líquido residual químico ni gases nocivos, y solo utiliza gases inertes y objetivos sólidos, cumpliendo con los estándares modernos de protección ambiental industrial.
3. Principales Campos de Aplicación
| Industria de Aplicación | Ejemplos de Usos Específicos | Requisitos Centrales |
|---|---|---|
| Industria de Información Electrónica | Recubrimiento de electrodos de chips, película conductora ITO para pantallas, película de cabezal magnético | Alta conductividad, uniformidad de película, control preciso |
| Campo Óptico | Película antirreflectante para gafas, película de filtro para lentes de cámara, lentes láser | Baja reflectividad, alta transmitancia de luz, resistencia al desgaste |
| Recubrimiento Decorativo y Funcional | Películas decorativas para herrajes (por ejemplo, oro de titanio, oro de circonio), películas resistentes al desgaste para herramientas de corte | Estética, resistencia a la corrosión, alta dureza |
| Industria de Nuevas Energías | Recubrimiento de piezas de polo de batería de litio, película antirreflectante para vidrio fotovoltaico | Alta adhesión, eficiencia de producción en masa, bajo costo |
4. Parámetros Técnicos Clave (Referencia)
- Grado de Vacío: Vacío final ≤5*10⁻⁵Pa, vacío de trabajo 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- Configuración del Objetivo: Objetivo único, doble o múltiple (soporta pulverización DC, RF y de frecuencia media), tamaño del objetivo Φ50-300mm
- Tamaño del Sustrato: Personalizable; los tamaños convencionales cubren materiales en lámina (100*100mm - 1000*1000mm) y materiales en rollo (ancho ≤1600mm)
- Tasa de Deposición: 0.5-10μm/min para películas metálicas, 0.1-2μm/min para películas de óxido
- Temperatura de Calentamiento del Sustrato: Temperatura ambiente - 500℃ (control de temperatura preciso disponible, diferencia de temperatura ±2℃)
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