Calidad Equipo de recubrimiento por pulverización catódica de RF Magnetron con sistema de alto vacío, monitorización de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable para aplicaciones ópticas y decorativas Fábrica

Equipo de recubrimiento por pulverización catódica de RF Magnetron con sistema de alto vacío, monitorización de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable para aplicaciones ópticas y decorativas

Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón

Nombre de la marca:Zhongda

Proceso de dar un título:CE

Cantidad mínima de pedido:1

El tiempo de entrega:45-60 días de trabajo

Etiquetas:

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón

Sistema de recubrimiento de vacío con pulverización por magnetrón

con un contenido de aluminio superior a 10 W

Detalles del producto

Resaltar:

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón RF

Equipo de recubrimiento al vacío PVD para vidrios

Máquina de pulverización catódica magnetrón para metales

Evaporation Power Supply: 1 juego

Vacuum System: Alto vacío

Application: Óptico, decorativo, funcional

Coating Material: Metal, aleación, cerámica, etc.

Target Size: Personalizable

Coating Speed: 0,5-1,5 m/min

Coating Monitoring System: en tiempo real

Coating Materials: Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos

Coating Chamber Size: personalizado

Coating Density: ≥99,9%

Operation Way: Pantalla táctil

Coating Hardness: ≥HV800

Chamber Material: Acero inoxidable

Operation Mode: Automático/manual

Descripción del Producto

Especificaciones y Características Detalladas

Equipo de recubrimiento de pulverización por magnetrón de RF

Máquina profesional de recubrimiento al vacío PVD diseñada para recubrir vidrios, metales y diversos sustratos con películas finas de precisión.

Introducción a la tecnología central

Los equipos de recubrimiento de pulverización por magnetrones de RF utilizan tecnología de pulverización por magnetrones con fuente de alimentación de RF (normalmente 13,56MHz).El sistema ioniza gases inertes como el argón a través de campos eléctricos de radio frecuencia para generar plasmaBajo las restricciones del campo magnético, las bombas de plasma se dirigen a las superficies del material, haciendo que los átomos o moléculas se escapen y se depositen uniformemente en las superficies del sustrato, formando películas finas de alta calidad.

Principales características

Amplia adaptabilidad del material - capaz de pulverizar conductores, semiconductores e aislantes sin requerir tratamiento conductivo
Proceso de recubrimiento suave con baja temperatura del sustrato - minimiza el daño a los sustratos sensibles al calor, incluidos los plásticos y los polímeros
Control preciso de la película: los parámetros ajustables, incluidos la potencia, la presión y el tiempo, permiten un control exacto del grosor, la composición y la estructura de la película

Ventajas principales

Calidad superior de la película: alta densidad, baja tasa de defectos y fuerte adhesión del sustrato
Las tasas de pulverización estables y la alta eficiencia de producción son adecuadas para la producción industrial en lotes.
Proceso respetuoso con el medio ambiente: no se requieren reactivos químicos, solo se utilizan gases inertes, y cumple con los estándares de producción ecológica

Aplicaciones típicas

Información electrónica:Preparación de películas de electrodos y películas aislantes para chips de semiconductores, circuitos integrados y paneles de visualización
Aplicaciones ópticas:Fabricación de películas antirreflexión, películas reflectantes y películas de filtro para lentes, instrumentos ópticos y módulos fotovoltaicos
Industrial y decorativo:Películas resistentes al desgaste, a la corrosión y decorativas para herramientas de corte, moldes, componentes de hardware y vidrio arquitectónico
Nueva Energía:Películas de electrodos de baterías de litio, capas de catalizadores de pilas de combustible y recubrimientos de pilas solares

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