Inicio
>
productos
>
Máquina de recubrimiento de aspirador de magnetrón
>
Equipo de recubrimiento por pulverización catódica de RF Magnetron con sistema de alto vacío, monitorización de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable para aplicaciones ópticas y decorativas
|
Equipo de recubrimiento por pulverización catódica de RF Magnetron con sistema de alto vacío, monitorización de recubrimiento en tiempo real y tamaño de objetivo personalizable para aplicaciones ópticas y decorativas
| Lugar de origen | Guangdong |
| Nombre de la marca | Lion King |
| Certificación | CE |
Detalles del producto
Fuente de alimentación de evaporación:
1 juego
Sistema de vacío:
Alto vacío
Solicitud:
Óptico, decorativo, funcional
Material de revestimiento:
Metal, aleación, cerámica, etc.
Tamaño objetivo:
Personalizable
Velocidad de recubrimiento:
0,5-1,5 m/min
Sistema de monitoreo de recubrimiento:
en tiempo real
Materiales de recubrimiento:
Metal, Cerámica, Materiales Orgánicos
Tamaño de la cámara de recubrimiento:
personalizado
Densidad del recubrimiento:
≥99,9%
Modo de operación:
Pantalla táctil
Dureza de recubrimiento:
≥HV800
Material de la cámara:
Acero inoxidable
Modo de operación:
Automático/manual
Resaltar:
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón RF
,Equipo de recubrimiento al vacío PVD para vidrios
,Máquina de pulverización catódica magnetrón para metales
Términos de pago y envío
Cantidad de orden mínima
1
Tiempo de entrega
45-60 días de trabajo
Descripción del Producto
Equipo de recubrimiento de pulverización por magnetrón de RF
Máquina profesional de recubrimiento al vacío PVD diseñada para recubrir vidrios, metales y diversos sustratos con películas finas de precisión.
Introducción a la tecnología central
Los equipos de recubrimiento de pulverización por magnetrones de RF utilizan tecnología de pulverización por magnetrones con fuente de alimentación de RF (normalmente 13,56MHz).El sistema ioniza gases inertes como el argón a través de campos eléctricos de radio frecuencia para generar plasmaBajo las restricciones del campo magnético, las bombas de plasma se dirigen a las superficies del material, haciendo que los átomos o moléculas se escapen y se depositen uniformemente en las superficies del sustrato, formando películas finas de alta calidad.
Principales características
- Amplia adaptabilidad del material - capaz de pulverizar conductores, semiconductores e aislantes sin requerir tratamiento conductivo
- Proceso de recubrimiento suave con baja temperatura del sustrato - minimiza el daño a los sustratos sensibles al calor, incluidos los plásticos y los polímeros
- Control preciso de la película: los parámetros ajustables, incluidos la potencia, la presión y el tiempo, permiten un control exacto del grosor, la composición y la estructura de la película
Ventajas principales
- Calidad superior de la película: alta densidad, baja tasa de defectos y fuerte adhesión del sustrato
- Las tasas de pulverización estables y la alta eficiencia de producción son adecuadas para la producción industrial en lotes.
- Proceso respetuoso con el medio ambiente: no se requieren reactivos químicos, solo se utilizan gases inertes, y cumple con los estándares de producción ecológica
Aplicaciones típicas
- Información electrónica:Preparación de películas de electrodos y películas aislantes para chips de semiconductores, circuitos integrados y paneles de visualización
- Aplicaciones ópticas:Fabricación de películas antirreflexión, películas reflectantes y películas de filtro para lentes, instrumentos ópticos y módulos fotovoltaicos
- Industrial y decorativo:Películas resistentes al desgaste, a la corrosión y decorativas para herramientas de corte, moldes, componentes de hardware y vidrio arquitectónico
- Nueva Energía:Películas de electrodos de baterías de litio, capas de catalizadores de pilas de combustible y recubrimientos de pilas solares
Productos recomendados
Contacta con nosotros en cualquier momento
18924253176
Calle Lantang Sur, área de Duanzhou, ciudad de Zhaoqing, Guangdong 526060 China
