Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón de grado industrial con alta tasa de deposición y calidad de película superior para una amplia compatibilidad de materiales

Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón de grado industrial con alta tasa de deposición y calidad de película superior para una amplia compatibilidad de materiales
Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días laborables
Detalles del producto
Resaltar:

Reaction Sputtering Vacuum Coater

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Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater

,

Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater

Evaporation Power Supply: 1 juego
Coating Thickness: 10–500 nm
Coating Color: Personalizable
Vacuum Chamber Material: acero al carbono o acero inoxidable
Coating Adhesion: Fuerte
Coating Hardness: Alto
Coating Transparency: Alto
Coating Method: Magnetrón pulverizando
Coating Technology: Magnetrón pulverizando
Voltage: 380V, 50Hz o por encargo
Vacuum Level: Alto vacío
Coating Uniformity: ≤ ± 3%
Power Supply: DC/RF/AC
Coating Structure: Una sola capa, múltiples capas, gradiente, etc.
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
Máquina de recubrimiento de vacío de pulverización por reacción magnétrónica de grado industrial
Sistema profesional de recubrimiento al vacío PVD diseñado para hardware de alta gama y piezas de acero inoxidable con tecnología avanzada de pulverización por magnetrones.
Especificaciones del producto
Tipo de producto Máquina de recubrimiento al vacío PVD
Aplicaciones principales Hardware de alta gama y piezas de acero inoxidable
Material de construcción Acero inoxidable
Tipo de máquina Máquina de recubrimiento industrial, máquina de recubrimiento de metales
Rango de peso Entre 5 y 10 toneladas
Tipo de cabeza de revestimiento Las demás
Ancho del revestimiento Personalizado
Ventajas técnicas clave
  • Alta tasa de deposición:El campo magnético aumenta la densidad de plasma para un rocío más rápido, resolviendo los problemas de baja eficiencia del rocío tradicional de diodos
  • Calidad superior de la película:Produce películas de alta densidad con excelente adhesión a los sustratos y excepcional uniformidad
  • Compatibilidad general del material:Trabajos con metales, aleaciones, semiconductores, aislantes y materiales de alto punto de fusión
  • Control de procesos preciso:Ajustar el grosor de la película, la composición y la microestructura mediante el ajuste de potencia, flujo de gas, presión y temperatura del sustrato
  • Baja contaminación:El ambiente de vacío y el proceso de deposición física minimizan las impurezas químicas en las películas
Industrial magnetron sputtering vacuum coater machine for hardware fittings
Componentes y estructura del sistema
  • Sistema de vacío:Incluye bomba mecánica, bomba turbomolecular y medidor de vacío para mantener un vacío elevado y evitar la contaminación de la película
  • El conjunto de objetivos:Consiste en el objetivo y el conjunto magnético para generar el campo magnético
  • Fuente de alimentación:Proporciona energía para la generación de plasma con tipos comunes que incluyen CC, RF y DC pulsado
  • Contenedor del sustrato:Substratos fijos y de calentamiento/enfriamiento con función de rotación opcional para mejorar la uniformidad de la película
  • Sistema de control de los gases:Utiliza controladores de flujo de masa para la regulación precisa de los caudales de gas inerte o reactivo
  • Monitor de espesor de película:Los monitores in situ rastrean el grosor de la película en tiempo real para garantizar la precisión del proceso
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