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Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón de grado industrial con alta tasa de deposición y calidad de película superior para una amplia compatibilidad de materiales
Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón de grado industrial con alta tasa de deposición y calidad de película superior para una amplia compatibilidad de materiales
Lugar de origen:Zhaoqing, Provincia de Cantón
Nombre de la marca:Zhongda
Proceso de dar un título:CE
Cantidad mínima de pedido:1
El tiempo de entrega:45-60 días laborables
Detalles del producto
Resaltar:
Reaction Sputtering Vacuum Coater
,Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater
,Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater
Evaporation Power Supply:
1 juego
Coating Thickness:
10–500 nm
Coating Color:
Personalizable
Vacuum Chamber Material:
acero al carbono o acero inoxidable
Coating Adhesion:
Fuerte
Coating Hardness:
Alto
Coating Transparency:
Alto
Coating Method:
Magnetrón pulverizando
Coating Technology:
Magnetrón pulverizando
Voltage:
380V, 50Hz o por encargo
Vacuum Level:
Alto vacío
Coating Uniformity:
≤ ± 3%
Power Supply:
DC/RF/AC
Coating Structure:
Una sola capa, múltiples capas, gradiente, etc.
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
Máquina de recubrimiento de vacío de pulverización por reacción magnétrónica de grado industrial
Sistema profesional de recubrimiento al vacío PVD diseñado para hardware de alta gama y piezas de acero inoxidable con tecnología avanzada de pulverización por magnetrones.
Especificaciones del producto
| Tipo de producto | Máquina de recubrimiento al vacío PVD |
| Aplicaciones principales | Hardware de alta gama y piezas de acero inoxidable |
| Material de construcción | Acero inoxidable |
| Tipo de máquina | Máquina de recubrimiento industrial, máquina de recubrimiento de metales |
| Rango de peso | Entre 5 y 10 toneladas |
| Tipo de cabeza de revestimiento | Las demás |
| Ancho del revestimiento | Personalizado |
Ventajas técnicas clave
- Alta tasa de deposición:El campo magnético aumenta la densidad de plasma para un rocío más rápido, resolviendo los problemas de baja eficiencia del rocío tradicional de diodos
- Calidad superior de la película:Produce películas de alta densidad con excelente adhesión a los sustratos y excepcional uniformidad
- Compatibilidad general del material:Trabajos con metales, aleaciones, semiconductores, aislantes y materiales de alto punto de fusión
- Control de procesos preciso:Ajustar el grosor de la película, la composición y la microestructura mediante el ajuste de potencia, flujo de gas, presión y temperatura del sustrato
- Baja contaminación:El ambiente de vacío y el proceso de deposición física minimizan las impurezas químicas en las películas
Componentes y estructura del sistema
- Sistema de vacío:Incluye bomba mecánica, bomba turbomolecular y medidor de vacío para mantener un vacío elevado y evitar la contaminación de la película
- El conjunto de objetivos:Consiste en el objetivo y el conjunto magnético para generar el campo magnético
- Fuente de alimentación:Proporciona energía para la generación de plasma con tipos comunes que incluyen CC, RF y DC pulsado
- Contenedor del sustrato:Substratos fijos y de calentamiento/enfriamiento con función de rotación opcional para mejorar la uniformidad de la película
- Sistema de control de los gases:Utiliza controladores de flujo de masa para la regulación precisa de los caudales de gas inerte o reactivo
- Monitor de espesor de película:Los monitores in situ rastrean el grosor de la película en tiempo real para garantizar la precisión del proceso
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