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Máquina de revestimento a vácuo de pulverização por magneto de grau industrial com alta taxa de deposição e qualidade superior do filme para ampla compatibilidade do material

Máquina de revestimento a vácuo de pulverização por magneto de grau industrial com alta taxa de deposição e qualidade superior do filme para ampla compatibilidade do material
Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong
Marca:Zhongda
Certificação:CE
Quantidade mínima de pedido:1
Prazo de entrega:45-60 dias úteis
Detalhes do produto
Destacar:

Reaction Sputtering Vacuum Coater

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Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater

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Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater

Evaporation Power Supply: 1 conjunto
Coating Thickness: 10–500nm
Coating Color: Personalizável
Vacuum Chamber Material: aço carbono ou aço inoxidável
Coating Adhesion: Forte
Coating Hardness: Alto
Coating Transparency: Alto
Coating Method: Magnetron Sputtering
Coating Technology: Magnetron Sputtering
Voltage: 380V, 50Hz ou personalizado
Vacuum Level: Alto Vácuo
Coating Uniformity: ≤ ± 3%
Power Supply: CC/RF/AC
Coating Structure: Camada única, multi-camada, gradiente, etc.
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Máquina de Revestimento a Vácuo por Magnetron Sputtering de Grau Industrial
Sistema profissional de revestimento a vácuo PVD projetado para ferragens de ponta e peças de aço inoxidável com tecnologia avançada de magnetron sputtering.
Especificações do Produto
Tipo de Produto Máquina de Revestimento a Vácuo PVD
Aplicações Primárias Ferragens de Ponta e Peças de Aço Inoxidável
Material de Construção Aço Inoxidável
Tipo de Máquina Máquina de Revestimento Industrial, Máquina de Revestimento de Metal
Faixa de Peso 5-10 Toneladas
Tipo de Cabeça de Revestimento Outro
Largura de Revestimento Personalizado
Vantagens Técnicas Chave
  • Alta Taxa de Deposição: O campo magnético aumenta a densidade do plasma para sputtering mais rápido, resolvendo problemas de baixa eficiência do sputtering de diodo tradicional
  • Qualidade Superior do Filme: Produz filmes de alta densidade com excelente adesão aos substratos e uniformidade excepcional
  • Ampla Compatibilidade de Materiais: Funciona com metais, ligas, semicondutores, isolantes e materiais de alto ponto de fusão
  • Controle Preciso do Processo: Ajusta a espessura, composição e microestrutura do filme ajustando a potência, fluxo de gás, pressão e temperatura do substrato
  • Baixa Contaminação: O ambiente de vácuo e o processo de deposição física minimizam impurezas químicas nos filmes
Industrial magnetron sputtering vacuum coater machine for hardware fittings
Componentes e Estrutura do Sistema
  • Sistema de Vácuo: Inclui bomba mecânica, bomba turbomolecular e medidor de vácuo para manter alto vácuo e prevenir contaminação do filme
  • Conjunto de Alvo: Consiste em alvo e conjunto magnético para gerar o campo magnético
  • Fonte de Alimentação: Fornece energia para geração de plasma com tipos comuns incluindo DC, RF e DC pulsado
  • Suporte de Substrato: Fixa e aquece/resfria substratos com função de rotação opcional para melhorar a uniformidade do filme
  • Sistema de Controle de Gás: Utiliza controladores de fluxo de massa para regulação precisa das taxas de fluxo de gás inerte ou reativo
  • Monitor de Espessura de Filme: Monitores in-situ rastreiam a espessura do filme em tempo real para garantir a precisão do processo
Mensagem para resposta rápida
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