<
>
Máquina de revestimento a vácuo de pulverização por magneto de grau industrial com alta taxa de deposição e qualidade superior do filme para ampla compatibilidade do material
Máquina de revestimento a vácuo de pulverização por magneto de grau industrial com alta taxa de deposição e qualidade superior do filme para ampla compatibilidade do material
Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong
Marca:Zhongda
Certificação:CE
Quantidade mínima de pedido:1
Prazo de entrega:45-60 dias úteis
Detalhes do produto
Destacar:
Reaction Sputtering Vacuum Coater
,Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater
,Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater
Evaporation Power Supply:
1 conjunto
Coating Thickness:
10–500nm
Coating Color:
Personalizável
Vacuum Chamber Material:
aço carbono ou aço inoxidável
Coating Adhesion:
Forte
Coating Hardness:
Alto
Coating Transparency:
Alto
Coating Method:
Magnetron Sputtering
Coating Technology:
Magnetron Sputtering
Voltage:
380V, 50Hz ou personalizado
Vacuum Level:
Alto Vácuo
Coating Uniformity:
≤ ± 3%
Power Supply:
CC/RF/AC
Coating Structure:
Camada única, multi-camada, gradiente, etc.
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Máquina de Revestimento a Vácuo por Magnetron Sputtering de Grau Industrial
Sistema profissional de revestimento a vácuo PVD projetado para ferragens de ponta e peças de aço inoxidável com tecnologia avançada de magnetron sputtering.
Especificações do Produto
| Tipo de Produto | Máquina de Revestimento a Vácuo PVD |
| Aplicações Primárias | Ferragens de Ponta e Peças de Aço Inoxidável |
| Material de Construção | Aço Inoxidável |
| Tipo de Máquina | Máquina de Revestimento Industrial, Máquina de Revestimento de Metal |
| Faixa de Peso | 5-10 Toneladas |
| Tipo de Cabeça de Revestimento | Outro |
| Largura de Revestimento | Personalizado |
Vantagens Técnicas Chave
- Alta Taxa de Deposição: O campo magnético aumenta a densidade do plasma para sputtering mais rápido, resolvendo problemas de baixa eficiência do sputtering de diodo tradicional
- Qualidade Superior do Filme: Produz filmes de alta densidade com excelente adesão aos substratos e uniformidade excepcional
- Ampla Compatibilidade de Materiais: Funciona com metais, ligas, semicondutores, isolantes e materiais de alto ponto de fusão
- Controle Preciso do Processo: Ajusta a espessura, composição e microestrutura do filme ajustando a potência, fluxo de gás, pressão e temperatura do substrato
- Baixa Contaminação: O ambiente de vácuo e o processo de deposição física minimizam impurezas químicas nos filmes
Componentes e Estrutura do Sistema
- Sistema de Vácuo: Inclui bomba mecânica, bomba turbomolecular e medidor de vácuo para manter alto vácuo e prevenir contaminação do filme
- Conjunto de Alvo: Consiste em alvo e conjunto magnético para gerar o campo magnético
- Fonte de Alimentação: Fornece energia para geração de plasma com tipos comuns incluindo DC, RF e DC pulsado
- Suporte de Substrato: Fixa e aquece/resfria substratos com função de rotação opcional para melhorar a uniformidade do filme
- Sistema de Controle de Gás: Utiliza controladores de fluxo de massa para regulação precisa das taxas de fluxo de gás inerte ou reativo
- Monitor de Espessura de Filme: Monitores in-situ rastreiam a espessura do filme em tempo real para garantir a precisão do processo
Mensagem para resposta rápida
Produtos Relacionados