Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
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Industrielle Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsanlage mit hoher Abscheidungsrate und überlegener Filmqualität für breite Materialkompatibilität

Industrielle Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsanlage mit hoher Abscheidungsrate und überlegener Filmqualität für breite Materialkompatibilität
Herkunftsort:Zhaoqing, Guangdong
Markenname:Zhongda
Zertifizierung:CE
Mindestbestellmenge:1
Lieferzeit:45-60 Arbeitstage
Produktdetails
Hervorheben:

Reaction Sputtering Vacuum Coater

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Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater

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Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater

Evaporation Power Supply: 1 Satz
Coating Thickness: 10–500 nm
Coating Color: Anpassbar
Vacuum Chamber Material: Kohlenstoffstahl oder Edelstahl
Coating Adhesion: Stark
Coating Hardness: Hoch
Coating Transparency: Hoch
Coating Method: Magnetronsputter
Coating Technology: Magnetronsputter
Voltage: 380 V, 50 Hz oder maßgeschneidert
Vacuum Level: Hochvakuum
Coating Uniformity: ≤ ± 3%
Power Supply: DC/RF/AC
Coating Structure: Einzelschicht, Mehrschicht, Gradient usw.
Produktbeschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen
Industrielle Reaktionsmagnetron-Sputter-Vakuumcoater-Maschine
Professionelles PVD-Vakuum-Beschichtungssystem, entwickelt für High-End-Hardware und Edelstahlteile mit fortschrittlicher Magnetron-Sputter-Technologie.
Produktspezifikationen
Produkttyp PVD-Vakuum-Beschichtungsmaschine
Primäre Anwendungen High-End-Hardware und Edelstahlteile
Konstruktionsmaterial Edelstahl
Maschinentyp Industrielle Beschichtungsmaschine, Metallbeschichtungsmaschine
Gewichtsbereich 5-10 Tonnen
Beschichtungskopf-Typ Andere
Beschichtungsbreite Kundenspezifisch
Wichtige technische Vorteile
  • Hohe Abscheidungsrate: Magnetfeld erhöht die Plasmazusammensetzung für schnelleres Sputtern und löst Probleme mit geringer Effizienz bei der traditionellen Dioden-Sputterung
  • Überlegene Filmqualität: Erzeugt hochdichte Filme mit ausgezeichneter Haftung auf Substraten und außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit
  • Breite Materialkompatibilität: Funktioniert mit Metallen, Legierungen, Halbleitern, Isolatoren und hochschmelzenden Materialien
  • Präzise Prozesskontrolle: Passt Filmdicke, Zusammensetzung und Mikrostruktur durch Abstimmung von Leistung, Gasfluss, Druck und Substrattemperatur an
  • Geringe Kontamination: Vakuumumgebung und physikalischer Abscheidungsprozess minimieren chemische Verunreinigungen in Filmen
Industrial magnetron sputtering vacuum coater machine for hardware fittings
Systemkomponenten & Struktur
  • Vakuumsystem: Enthält mechanische Pumpe, Turbomolekularpumpe und Vakuummeter zur Aufrechterhaltung eines Hochvakuumzustands und zur Vermeidung von Filmkontamination
  • Target-Baugruppe: Besteht aus Target und Magnetbaugruppe zur Erzeugung des Magnetfelds
  • Stromversorgung: Liefert Energie für die Plasmaerzeugung mit gängigen Typen wie DC, RF und gepulstem DC
  • Substrathalter: Fixiert und heizt/kühlt Substrate mit optionaler Rotationsfunktion zur Verbesserung der Filmgleichmäßigkeit
  • Gasregelsystem: Verwendet Massendurchflussregler zur präzisen Steuerung von Inert- oder reaktiven Gasflüssen
  • Filmdickenmonitor: In-situ-Monitore verfolgen die Filmdicke in Echtzeit, um die Prozessgenauigkeit zu gewährleisten
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