工業級 マグネトロンスプッティング真空コーティングマシン 高度な堆積率と優れたフィルム品質で幅広い材料互換性
Reaction Sputtering Vacuum Coater
,Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater
,Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater
| 製品タイプ | PVD真空コーティング装置 |
| 主な用途 | ハイエンドハードウェアおよびステンレス鋼部品 |
| 構造材料 | ステンレス鋼 |
| 機械タイプ | 工業用コーティング装置、金属コーティング装置 |
| 重量範囲 | 5-10トン |
| コーティングヘッドタイプ | その他 |
| コーティング幅 | カスタマイズ可能 |
- 高成膜速度:磁場がプラズマ密度を増加させ、スパッタリング速度を向上させ、従来のダイオードスパッタリングの低効率問題を解決します。
- 優れた膜質:基材への優れた密着性と exceptional な均一性を持つ高密度膜を生成します。
- 幅広い材料適合性:金属、合金、半導体、絶縁体、高融点材料に対応します。
- 精密なプロセス制御:電力、ガス流量、圧力、基材温度を調整することで、膜厚、組成、微細構造をチューニングできます。
- 低汚染:真空環境と物理蒸着プロセスにより、膜中の化学的不純物を最小限に抑えます。
- 真空システム:高真空を維持し、膜の汚染を防ぐために、メカニカルポンプ、ターボ分子ポンプ、真空計を含みます。
- ターゲットアセンブリ:磁場を生成するためのターゲットと磁気アセンブリで構成されます。
- 電源:プラズマ生成にエネルギーを供給し、DC、RF、パルスDCなどの一般的なタイプがあります。
- 基材ホルダー:基材を固定し、加熱/冷却し、膜の均一性を向上させるためのオプションの回転機能があります。
- ガス制御システム:マスフローコントローラーを使用して、不活性ガスまたは反応性ガスの流量を精密に調整します。
- 膜厚モニター:インサイチュモニターがリアルタイムで膜厚を追跡し、プロセスの精度を保証します。
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