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Macchina per rivestimento a vuoto con sputtering magnetron di grado industriale con elevato tasso di deposizione e qualità della pellicola superiore per una ampia compatibilità dei materiali

Macchina per rivestimento a vuoto con sputtering magnetron di grado industriale con elevato tasso di deposizione e qualità della pellicola superiore per una ampia compatibilità dei materiali
Luogo d'origine:Zhaoqing, Guangdong
Marchio:Zhongda
Certificazione:CE
Quantità minima di ordine:1
Tempi di consegna:45-60 giorni lavorativi
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Reaction Sputtering Vacuum Coater

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Industrial Grade Sputtering Vacuum Coater

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Hardware Fittings Sputtering Vacuum Coater

Evaporation Power Supply: 1 set
Coating Thickness: 10–500 nm
Coating Color: Personalizzabile
Vacuum Chamber Material: acciaio al carbonio o acciaio inossidabile
Coating Adhesion: Forte
Coating Hardness: Alto
Coating Transparency: Alto
Coating Method: Magnetron Sputtering
Coating Technology: Magnetron Sputtering
Voltage: 380 V, 50 Hz o su misura
Vacuum Level: Alto vuoto
Coating Uniformity: ≤ ± 3%
Power Supply: DC/RF/AC
Coating Structure: Single strato, multistrato, gradiente, ecc.
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate
Macchine per rivestimento a vuoto a sputtering a reazione magnetica di grado industriale
Sistema di rivestimento a vuoto PVD professionale progettato per hardware di fascia alta e parti in acciaio inossidabile con tecnologia avanzata di sputtering magnetronico.
Specificativi del prodotto
Tipo di prodotto Macchina per rivestimento a vuoto PVD
Applicazioni principali Hardware di fascia alta e parti in acciaio inossidabile
Materiale da costruzione Acciaio inossidabile
Tipo di macchina Macchine per rivestimento industriale, macchine per rivestimento metallico
Intervallo di peso 5-10 tonnellate
Tipo di testa di rivestimento Altri
Larghezza del rivestimento Personalizzato
Principali vantaggi tecnici
  • Alto tasso di deposizione:Il campo magnetico aumenta la densità del plasma per uno sputtering più veloce, risolvendo i problemi di bassa efficienza dello sputtering tradizionale a diodi
  • Qualità del film superiore:Produce pellicole ad alta densità con eccellente adesione ai substrati ed eccezionale uniformità
  • Compatibilità generale del materiale:Lavori con metalli, leghe, semiconduttori, isolanti e materiali ad alto punto di fusione
  • Controllo di processo preciso:Regolare lo spessore, la composizione e la microstruttura della pellicola regolando potenza, flusso di gas, pressione e temperatura del substrato
  • Basso livello di contaminazione:L'ambiente a vuoto e il processo di deposizione fisica riducono al minimo le impurità chimiche nei film
Industrial magnetron sputtering vacuum coater machine for hardware fittings
Componenti e struttura del sistema
  • Sistema a vuoto:Include una pompa meccanica, una pompa turbomolecolare e un misuratore del vuoto per mantenere un vuoto elevato e prevenire la contaminazione del film
  • Assemblaggio di destinazione:Consiste di un bersaglio e di un insieme magnetico per generare il campo magnetico
  • Fornitore di alimentazione:Fornisce energia per la generazione di plasma con tipi comuni tra cui CC, RF e DC pulsato
  • Detentore del substrato:Fissi e substrati di riscaldamento/raffreddamento con funzione di rotazione opzionale per migliorare l'uniformità della pellicola
  • Sistema di controllo del gas:Utilizza regolatori di flusso di massa per la regolazione precisa dei flussi di gas inerti o reattivi
  • Monitor di spessore della pellicola:I monitor in situ tracciano lo spessore della pellicola in tempo reale per garantire la precisione del processo
Messaggio per risposta rapida
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