Magnetron-Sputtering ist ein vielseitigesPhysikalische Dampfdeposition (PVD)Es ist eine weit verbreitete Technik zur Ablagerung hochwertiger dünner Folien auf verschiedene Substrate.Energetische Ionen aus dem Plasma bombardieren ein Zielmaterial.Diese Methode eignet sich besonders für Metalle, Legierungen, Keramik und zusammengesetzte Materialien.eine präzise Kontrolle der Filmzusammensetzung und -stärke bietet.
Arbeitsprinzip
Erzeugung von Plasma: Ein Hochspannungsfeld ionisiert Argongas und erzeugt Ar+-Ionen und Elektronen.
Magnetische Einsperrung: Ein Magnetfeld (orthogonal zum elektrischen Feld) fängt Elektronen in der Nähe der Zieloberfläche ein, wodurch die Ionisierungseffizienz und die Plasmadichte erhöht werden.
Sputterprozess: Beschleunigte Ar+-Ionen treffen auf das Ziel und entfernen Atome, die zum Substrat reisen und einen dünnen Film bilden. Das Magnetfeld minimiert die Elektronenbombardierung des Substrats und reduziert die Wärmeschäden .
Wichtige Vorteile
Einheitlichkeit und Einhaltung: Erzeugt Filme mit außergewöhnlicher Dicken-Einheitlichkeit (± 5%) und starker Substrat-Adhäsion durch hochenergetische Ionenbombardierung.
Materielle Vielseitigkeit: Kompatibel mit Metallen (z. B. Ti, Cu), Keramik (z. B. SiO2, Al2O3) und Halbleitern.
Niedertemperaturscheidung: Geeignet für wärmeempfindliche Materialien wie Kunststoffe und Polymere.
Prozesssteuerung: Ermöglicht eine präzise Abstimmung der Filmeigenschaften (z. B. Leitfähigkeit, Härte) über Plasmaparameter.
Mehrkomponentenbeschichtungen: Unterstützt das Co-Sputtern von mehreren Zielen für die Produktion von Legierungen oder Gradienten.
Angewandte Industrie
Elektronik: IC-Verpackungen, Anzeigeteile und Photovoltaikzellen.
Optik: Antireflexive Beschichtungen, Spiegel und optische Filter.
Werkzeuge: Verschleißbeständige Beschichtungen für Schneidwerkzeuge und Formen.
Automobilindustrie: Dekorative und korrosionsbeständige Oberflächen für Ausstattung und Bauteile.
Medizinische Behandlung: Biokompatible Beschichtungen für Implantate und Instrumente.
Beschichtungseffekte und Farben
Oberflächenveredelungen: Metallglanz, matte Texturen oder texturierte Muster.
Farbbereich: Silber, Gold, Schwarz, Blau und benutzerdefinierte Farbtöne durch reaktives Sputtern (z. B. TiN für goldartige Oberflächen).
Strukturtypen
Planar Magnetron: Ideal für die Ablagerung großer Flächen (z. B. Glas oder Platten).
Rotationsmagnetron: Verbessert die Zielnutzung und die Ablagerungsrate für zylindrische oder gebogene Substrate.
Ungleichgewichte Magnetronen: Erzeugt Plasma mit hoher Ionendichte für dichte, anhängende Folien.
Substratmaterialien
Kunststoffe (ABS, PET, PC), Glas, Keramik, Metalle und Verbundwerkstoffe.
Beschichtungsmaterialien
Metalle: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Keramik: SiO2, Al2O3, TiO2, Si3N4.
Legierungen: NiCr, TiAl und Superlegierungen.
Unterstützende Produktionslinien
Integriert mitVerfahren nach der BeschichtungWie UV-Härtung oder Plasmabehandlung für eine verbesserte Funktionalität.
Verbrauchsmaterialien
Zielmaterialien (metallisch/keramisch), Argongas und Stromversorgungen für das Spritzen.
Anwendungen
Optik: Spiegel mit hoher Reflektivität und anti-glare Beschichtungen.
Elektronik: Transparente leitfähige Oxide (ITO) für Touchscreen.
Luft- und Raumfahrt: Thermische Barrierebeschichtungen an Turbinenblättern.
Architekturglas: Beschichtungen mit geringer Emissionsrate für Energieeffizienz.
Anpassung
Unsere Systeme bieten modulare Designs mit konfigurierbaren Magnetronenarrays, Vakuumpumpsystemen und Prozesssteuerungssoftware, um spezifische Ablagerungsanforderungen zu erfüllen.
Modell der Magnetronbeschichtungsausrüstung (Höhe ≤ 1,3 m)
Mehrfach-Achsen-Planet mit Frequenzregelung (kann gesteuert und eingestellt werden)
Backen
Temperatur
Normtemperatur- Ich weiß.300°Cbis 450°C- Ich weiß.600°Ckann gesteuert und eingestellt werden (PID-Temperaturregelung)
Gas
3- oder 4-Wege-Gasflusssteuerung und Anzeigensystem mit automatischem Gaszufügungssystem
Ar, N2- Ich weiß nicht.2,C2H2, usw.
Kühlung
Methode
Kühlwasserkreislauf, ausgestattet mit einem industriellen Kühlturm oder einem industriellen Wasserkühler (Kühlmaschine) oder einem kryogenen System (Kunden stellen zur Verfügung)
Kontrolle
Hand-, Halbautomatik-, Automatik-, Touchscreen-Betrieb, PLC oder computergesteuert
Luftdruck
00,5-0,8 MPa
Wasser
≤ 25°C ≥ 0,2 MPa
Warnung
Alarmsystem wird funktionieren, wenn Hydropenie, Überspannung, Leistungsabbrüche solche abnormale Situation geschieht und führen Sie die damit verbundenen Schutz
Gesamtleistung
25 bis 65 kW
45 bis 85 kW
65 ~ 105 kW
85 ~ 115 kW
95 bis 125 kW
100 ~ 130 kW
Ausgabe
Spannung 380V,Frequenz 50Hz (ausrüstet als nationale Stromnorm der Kunden)
Berufliche Tätigkeit
15 bis 50 m2
15 bis 50 m2
25 bis 55 m2
25 bis 55 m2
35 bis 55 m2
35 bis 55 m2
Anmerkung
Konstruktion und Herstellung einer speziellen Maschine nach Kundenwunsch, kann Magnetron-Sputterziel, MF-Zwillingeziel usw. hinzufügen.