Hubei Lion King Vacuum Technology Co., Ltd.
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Schmuckstücke Uhren Zubehör Vakuum Magnetron Sputtering Plattierung Pvd Sputtering Maschine Edelstahl Pvd Maschine
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Schmuckstücke Uhren Zubehör Vakuum Magnetron Sputtering Plattierung Pvd Sputtering Maschine Edelstahl Pvd Maschine

Herkunftsort Guangdong
Markenname Lion King
Zertifizierung CE
Produktdetails
Anwendung:
Optisch, dekorativ, funktional
Beschichtungsprodukt:
Glas, Metall, Kunststoff, Keramik usw.
Beschichtungsfarbe:
Gold, Silber, Schwarz, Blau, Grün usw.
Zielgröße:
anpassbar
Zielmaterial:
Metall, Legierung, Keramik
Beschichtungstechnologie:
Magnetronsputter
Beschichtungen:
Zinn, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, DLC
Material:
Edelstahl
Beschichtungsfarben:
Schwarz/blau/rot
Maschinengröße:
Anpassen
Beschichtungsdicke:
0,01-10 Mikrometer
Vakuumsystem:
Hohes Vakuum
Schicht Gleichmäßigkeit:
≤ ± 5%
Beschichtungsprozess:
Magnetronsputter
Stromversorgung:
DC/RF/AC
Substratmaterial:
Glas, Metall, Keramik, Kunststoff
Substratgröße:
anpassbar
Beschichtungsstruktur:
Einzelschicht, Mehrschicht, Gradient usw.
Steuerungssystem:
SPS, Touchscreen, Handbuch
Größe der Beschichtungsausrüstung:
anpassbar
Beschichtungsmaterial:
Metall, Legierung, Keramik, Verbundmaterial
Beschichtungsmethode:
Magnetronsputter
Hervorheben: 

Automatisierte Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine

,

Magnetronbeschichtungsmaschine für Schmuck

,

Schmuck-Magnetron-Sputter-Beschichtung Maschine

Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
20
Produktbeschreibung

Magnetron-Sputtering

Technologieübersicht

Magnetron-Sputtering ist ein vielseitigesPhysikalische Dampfdeposition (PVD)Es ist eine weit verbreitete Technik zur Ablagerung hochwertiger dünner Folien auf verschiedene Substrate.Energetische Ionen aus dem Plasma bombardieren ein Zielmaterial.Diese Methode eignet sich besonders für Metalle, Legierungen, Keramik und zusammengesetzte Materialien.eine präzise Kontrolle der Filmzusammensetzung und -stärke bietet.

Arbeitsprinzip

  • Erzeugung von Plasma: Ein Hochspannungsfeld ionisiert Argongas und erzeugt Ar+-Ionen und Elektronen.
  • Magnetische Einsperrung: Ein Magnetfeld (orthogonal zum elektrischen Feld) fängt Elektronen in der Nähe der Zieloberfläche ein, wodurch die Ionisierungseffizienz und die Plasmadichte erhöht werden.
  • Sputterprozess: Beschleunigte Ar+-Ionen treffen auf das Ziel und entfernen Atome, die zum Substrat reisen und einen dünnen Film bilden. Das Magnetfeld minimiert die Elektronenbombardierung des Substrats und reduziert die Wärmeschäden .

Wichtige Vorteile

  1. Einheitlichkeit und Einhaltung: Erzeugt Filme mit außergewöhnlicher Dicken-Einheitlichkeit (± 5%) und starker Substrat-Adhäsion durch hochenergetische Ionenbombardierung.
  2. Materielle Vielseitigkeit: Kompatibel mit Metallen (z. B. Ti, Cu), Keramik (z. B. SiO2, Al2O3) und Halbleitern.
  3. Niedertemperaturscheidung: Geeignet für wärmeempfindliche Materialien wie Kunststoffe und Polymere.
  4. Prozesssteuerung: Ermöglicht eine präzise Abstimmung der Filmeigenschaften (z. B. Leitfähigkeit, Härte) über Plasmaparameter.
  5. Mehrkomponentenbeschichtungen: Unterstützt das Co-Sputtern von mehreren Zielen für die Produktion von Legierungen oder Gradienten.

Angewandte Industrie

  • Elektronik: IC-Verpackungen, Anzeigeteile und Photovoltaikzellen.
  • Optik: Antireflexive Beschichtungen, Spiegel und optische Filter.
  • Werkzeuge: Verschleißbeständige Beschichtungen für Schneidwerkzeuge und Formen.
  • Automobilindustrie: Dekorative und korrosionsbeständige Oberflächen für Ausstattung und Bauteile.
  • Medizinische Behandlung: Biokompatible Beschichtungen für Implantate und Instrumente.

Beschichtungseffekte und Farben

  • Oberflächenveredelungen: Metallglanz, matte Texturen oder texturierte Muster.
  • Farbbereich: Silber, Gold, Schwarz, Blau und benutzerdefinierte Farbtöne durch reaktives Sputtern (z. B. TiN für goldartige Oberflächen).

Strukturtypen

  • Planar Magnetron: Ideal für die Ablagerung großer Flächen (z. B. Glas oder Platten).
  • Rotationsmagnetron: Verbessert die Zielnutzung und die Ablagerungsrate für zylindrische oder gebogene Substrate.
  • Ungleichgewichte Magnetronen: Erzeugt Plasma mit hoher Ionendichte für dichte, anhängende Folien.

Substratmaterialien

  • Kunststoffe (ABS, PET, PC), Glas, Keramik, Metalle und Verbundwerkstoffe.

Beschichtungsmaterialien

  • Metalle: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
  • Keramik: SiO2, Al2O3, TiO2, Si3N4.
  • Legierungen: NiCr, TiAl und Superlegierungen.

Unterstützende Produktionslinien

  • Integriert mitVerfahren nach der BeschichtungWie UV-Härtung oder Plasmabehandlung für eine verbesserte Funktionalität.

Verbrauchsmaterialien

  • Zielmaterialien (metallisch/keramisch), Argongas und Stromversorgungen für das Spritzen.

Anwendungen

  • Optik: Spiegel mit hoher Reflektivität und anti-glare Beschichtungen.
  • Elektronik: Transparente leitfähige Oxide (ITO) für Touchscreen.
  • Luft- und Raumfahrt: Thermische Barrierebeschichtungen an Turbinenblättern.
  • Architekturglas: Beschichtungen mit geringer Emissionsrate für Energieeffizienz.

Anpassung

Unsere Systeme bieten modulare Designs mit konfigurierbaren Magnetronenarrays, Vakuumpumpsystemen und Prozesssteuerungssoftware, um spezifische Ablagerungsanforderungen zu erfüllen.

 

 

Modell der Magnetronbeschichtungsausrüstung (Höhe ≤ 1,3 m)
Modell
Löwe-0710
Löwe-1012
Löwe- 1212
Löwe- 1412
Löwe- 1612
Löwe- 1813
Vakuumkammer
F700 × H1000 mm
F1000 × H1200 mm
F1200 × H1200 mm
F1400 × H1200 mm
F1600 × H1200 mm
F1800 × H1300 mm
Anwendung
3C-Industrie, Sanitärgeräteindustrie, Schmuckindustrie
Die Kommission hat eine Reihe von Maßnahmen ergriffen, um die Verringerung der Arbeitslosigkeit zu verhindern.
Beschichtungsfolie
Ti-Gold, Roségold, Champagnergold, japanisches Gold, helles Silber, Regenbogen, Schmuckblau, Roserrot, Schwarz usw.
Vakuum
vertikale Türkonstruktion, mit Luftpumpen und Wasserkühlsystem ausgestattet
Vakuumsystem
Aufrechterhaltungspumpe + mechanische Pumpe + Wurzelpumpe + Diffusionspumpe
oder Molekülpumpe ((spezifisches Modell nach den Anforderungen der Kunden)
Vakuum
1 Satz Pirani, 1 Satz kalte Kathode, 1 Satz Membranmessgerät
Art der Lieferung
Gleichspannung, MF-Leistung, Pulsleistung (Bießenleistung, Bogenkraft)
Endgültig
1.0- 6,0×10-4Pa, Kühlung ohne Last
           
Beurteilungsfähigkeit
20 kW/1 Satz
20 kW/1 Satz
20 kW/1 Satz
30 kW/1 Satz
40 kW/1 Satz
60 kW/1 Satz
Magnetronstromversorgung
1 bis 2 Sätze
1 bis 2 Sätze
2-3 Sätze
2-3 Sätze
3-4 Sätze
3-4 Sätze
Abwechslung
Mehrfach-Achsen-Planet mit Frequenzregelung (kann gesteuert und eingestellt werden)
Backen
Temperatur
Normtemperatur- Ich weiß.300°Cbis 450°C - Ich weiß.600°Ckann gesteuert und eingestellt werden (PID-Temperaturregelung)
Gas
3- oder 4-Wege-Gasflusssteuerung und Anzeigensystem mit automatischem Gaszufügungssystem
Ar, N2- Ich weiß nicht.2,C2H2, usw.
Kühlung
Methode
Kühlwasserkreislauf, ausgestattet mit einem industriellen Kühlturm oder einem industriellen Wasserkühler (Kühlmaschine) oder einem kryogenen System (Kunden stellen zur Verfügung)
Kontrolle
Hand-, Halbautomatik-, Automatik-, Touchscreen-Betrieb, PLC oder computergesteuert
Luftdruck
00,5-0,8 MPa
Wasser
≤ 25°C ≥ 0,2 MPa
Warnung
Alarmsystem wird funktionieren, wenn Hydropenie, Überspannung, Leistungsabbrüche solche abnormale Situation geschieht und führen Sie die damit verbundenen Schutz
Gesamtleistung
25 bis 65 kW
45 bis 85 kW
65 ~ 105 kW
85 ~ 115 kW
95 bis 125 kW
100 ~ 130 kW
Ausgabe
Spannung 380V,Frequenz 50Hz (ausrüstet als nationale Stromnorm der Kunden)
Berufliche Tätigkeit
15 bis 50 m2
15 bis 50 m2
25 bis 55 m2
25 bis 55 m2
35 bis 55 m2
35 bis 55 m2
Anmerkung
Konstruktion und Herstellung einer speziellen Maschine nach Kundenwunsch, kann Magnetron-Sputterziel, MF-Zwillingeziel usw. hinzufügen.

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18207198662
Nr. 3, 17. Etage, Einheit 1, Gebäude 03, Phase II, Jinmao Mansion, Shoukai OCT, Hexie Road, Bezirk Hongshan, Stadt Wuhan, Provinz Hubei, China
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