magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
- Einrichtung einer Vakuumumgebung: Ein Vakuumpumpen-Set wird verwendet, um den Druck innerhalb der Beschichtungskammer auf einen hohen Vakuumzustand (normalerweise ≤10−3Pa) zu reduzieren.Verhinderung der Einwirkung von Luftmolekülen auf die Filmdeposition.
- Plasmaerregung: Ein inertes Gas (z. B. Argon) wird in die Kammer eingeführt und ein Hochspannungsfeld zwischen dem Ziel (Beschichtungsmaterial, z. B. Aluminium, Titan,ITO) und das Substrat, um das Argongas zu ionisieren und Plasma zu erzeugen.
- Magnetron-Sputtering-Deposition: Ein Magnetfeld wird verwendet, um die Elektronenbewegungsbahn einzuschränken und die Kollisionseffizienz zwischen Elektronen und Argonmolekülen zu erhöhen.Dies bewirkt, dass Argon-Ionen die Zieloberfläche mit hoher Geschwindigkeit bombardieren; die Zielatome werden "ausgesprüht", in einer geraden Linie bewegt und auf der Substratoberfläche abgelagert, um einen einheitlichen Film zu bilden.
- Hohe Filmqualität: Die Folie weist eine gute Gleichförmigkeit auf (Abweichung kann innerhalb von ± 5%) und eine starke Haftung am Substrat auf, wodurch die Wahrscheinlichkeit, dass sie abfällt oder reißt, geringer ist.
- Hohe Beschichtungseffizienz: Die Verwendung eines Magnetfeldes zur Einschränkung von Elektronen verbessert die Sputtergeschwindigkeit erheblich.
- Anpassungsfähigkeit: Zu den anwendbaren Beschichtungsmaterialien gehören Metalle (Aluminium, Kupfer, Silber), Legierungen (Edelstahl, Titanlegierung) und Verbindungen (ITO, SiO2, Al2O3), die unterschiedliche Funktionsanforderungen erfüllen.
- Umweltschonend und ohne Umweltverschmutzung: Der gesamte Prozeß führt zu keiner Abgabe von chemischen Abfällen, Flüssigkeit oder schädlichen Gasen, und verwendet nur inerte Gase und feste Ziele, die den modernen industriellen Umweltschutznormen entsprechen.
| Anwendungsindustrie | Beispiele für spezifische Anwendungen | Grundvoraussetzungen |
|---|---|---|
| Elektronische Informationsindustrie | Schiffselektrodenbeschichtung, Leitungsschicht ITO, Magnetkopfschicht | Hohe Leitfähigkeit, Filmgleichheit, präzise Steuerung |
| Optisches Feld | Filterfolie für Brillen, Filterfolie für Kameraobjektive, Laserobjektive | Niedrige Reflektivität, hohe Lichtdurchlässigkeit, Verschleißbeständigkeit |
| Dekorative und funktionelle Beschichtung | Dekorative Folien für Hardware (z. B. Titan- oder Zirkoniegold), verschleißfeste Folien für Schneidwerkzeuge | Ästhetik, Korrosionsbeständigkeit, hohe Härte |
| Neue Energieindustrie | Lithiumbatterienpolstückbeschichtung, Widerspiegelungsfolie für Photovoltaikglas | Hohe Haftung, Effizienz der Massenproduktion, geringe Kosten |
- Vakuumgrad: Endvakuum ≤5*10−5Pa, Arbeitsvakuum 1*10−3 - 5*10−1Pa
- Zielkonfiguration: Einzelziel, Doppelziel oder Mehrziel (unterstützt DC-, RF- und Mittelfrequenzsputtering), Zielgröße Φ50-300 mm
- Substratgröße: angepasst; herkömmliche Größen decken Blechmaterialien (100*100mm - 1000*1000mm) und gewickelte Materialien (Breite ≤1600mm) ab
- Absetzgeschwindigkeit: 0,5-10 μm/min für Metallfolien, 0,1-2 μm/min für Oxidfolien
- Substratheiztemperatur: Raumtemperatur - 500°C (genaue Temperaturregelung verfügbar, Temperaturunterschied ±2°C)
Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage für Mobiltelefon-Hardwareteile, kundenspezifisch für Kundenbedürfnisse, PVD-Beschichtungsmaschine
I. Core Structure The magnetron sputtering coating equipment for mobile phone hardware parts is a dedicated device designed for small hardware parts such as mobile phone frames, keys, and camera decorative rings. Its core structure is divided into five major modules: vacuum system, sputtering system...
Hochpräzise DC-Magnetron-Sputteranlage mit anpassbarer Größe und Mehrschichtbeschichtung für Metall und Glas
DC Magnetron Sputtering Machine - Vacuum PVD Coating System This high-precision DC Magnetron Sputtering Machine is designed for superior vacuum PVD coating applications on metal and glass substrates. The equipment features rational structure design, uniform coating distribution, excellent quality ...
Magnetron Sputtering Vakuum Beschichtung Maschine mit Multi Arc Ion Technologie, angepasste Kammergröße und hohe Beschichtung Dichte ≥ 99,9% für dekorative und funktionelle Anwendungen
Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine Professional PVD vacuum coating magnetron sputtering machine specifically designed for cutlery and tableware applications, including knives. Working Principle Vacuum magnetron sputtering coating utilizes an orthogonal electromagnetic field where charged ...
Industrielle Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsanlage mit hoher Abscheidungsrate und überlegener Filmqualität für breite Materialkompatibilität
Industrial Grade Reaction Magnetron Sputtering Vacuum Coater Machine Professional PVD vacuum coating system designed for high-end hardware and stainless steel parts with advanced magnetron sputtering technology. Product Specifications Product Type PVD Vacuum Coating Machine Primary Applications High...
