Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber

Herkunftsort Guangdong
Markenname Lion King
Zertifizierung CE
Produktdetails
Kammergröße:
individuell angepasst
Beschichtungskontrollsystem:
SPS/Touchscreen
Operationsweg:
Touch-Screen
Beschichtungsüberwachungssystem:
Echtzeit
Beschichtungsdicke:
0,1-5 Mikrometer
Beschichtung Stromversorgung:
DC/RF/AC
Beschichtungshärte:
≥HV800
Beschichtungsmaterialien:
Metall, Keramik, organische Materialien
Kammermaterial:
Edelstahl
Vakuumniveau:
Hochvakuum
Garantie:
1 Jahr
Beschichtungsgeschwindigkeit:
Schnell
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Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
45-60 Arbeitstage
Produktbeschreibung
1Grundprinzip der Arbeit
  1. Einrichtung einer Vakuumumgebung: Ein Vakuumpumpen-Set wird verwendet, um den Druck innerhalb der Beschichtungskammer auf einen hohen Vakuumzustand (normalerweise ≤10−3Pa) zu reduzieren.Verhinderung der Einwirkung von Luftmolekülen auf die Filmdeposition.
  2. Plasmaerregung: Ein inertes Gas (z. B. Argon) wird in die Kammer eingeführt und ein Hochspannungsfeld zwischen dem Ziel (Beschichtungsmaterial, z. B. Aluminium, Titan,ITO) und das Substrat, um das Argongas zu ionisieren und Plasma zu erzeugen.
  3. Magnetron-Sputtering-Deposition: Ein Magnetfeld wird verwendet, um die Elektronenbewegungsbahn einzuschränken und die Kollisionseffizienz zwischen Elektronen und Argonmolekülen zu erhöhen.Dies bewirkt, dass Argon-Ionen die Zieloberfläche mit hoher Geschwindigkeit bombardieren; die Zielatome werden "ausgesprüht", in einer geraden Linie bewegt und auf der Substratoberfläche abgelagert, um einen einheitlichen Film zu bilden.
2. Kernvorteile
  • Hohe Filmqualität: Die Folie weist eine gute Gleichförmigkeit auf (Abweichung kann innerhalb von ± 5%) und eine starke Haftung am Substrat auf, wodurch die Wahrscheinlichkeit, dass sie abfällt oder reißt, geringer ist.
  • Hohe Beschichtungseffizienz: Die Verwendung eines Magnetfeldes zur Einschränkung von Elektronen verbessert die Sputtergeschwindigkeit erheblich.
  • Anpassungsfähigkeit: Zu den anwendbaren Beschichtungsmaterialien gehören Metalle (Aluminium, Kupfer, Silber), Legierungen (Edelstahl, Titanlegierung) und Verbindungen (ITO, SiO2, Al2O3), die unterschiedliche Funktionsanforderungen erfüllen.
  • Umweltschonend und ohne Umweltverschmutzung: Der gesamte Prozeß führt zu keiner Abgabe von chemischen Abfällen, Flüssigkeit oder schädlichen Gasen, und verwendet nur inerte Gase und feste Ziele, die den modernen industriellen Umweltschutznormen entsprechen.
3. Hauptanwendungsbereiche
Anwendungsindustrie Beispiele für spezifische Anwendungen Grundvoraussetzungen
Elektronische Informationsindustrie Schiffselektrodenbeschichtung, Leitungsschicht ITO, Magnetkopfschicht Hohe Leitfähigkeit, Filmgleichheit, präzise Steuerung
Optisches Feld Filterfolie für Brillen, Filterfolie für Kameraobjektive, Laserobjektive Niedrige Reflektivität, hohe Lichtdurchlässigkeit, Verschleißbeständigkeit
Dekorative und funktionelle Beschichtung Dekorative Folien für Hardware (z. B. Titan- oder Zirkoniegold), verschleißfeste Folien für Schneidwerkzeuge Ästhetik, Korrosionsbeständigkeit, hohe Härte
Neue Energieindustrie Lithiumbatterienpolstückbeschichtung, Widerspiegelungsfolie für Photovoltaikglas Hohe Haftung, Effizienz der Massenproduktion, geringe Kosten
4. Schlüsseltechnische Parameter (Referenz)
  • Vakuumgrad: Endvakuum ≤5*10−5Pa, Arbeitsvakuum 1*10−3 - 5*10−1Pa
  • Zielkonfiguration: Einzelziel, Doppelziel oder Mehrziel (unterstützt DC-, RF- und Mittelfrequenzsputtering), Zielgröße Φ50-300 mm
  • Substratgröße: angepasst; herkömmliche Größen decken Blechmaterialien (100*100mm - 1000*1000mm) und gewickelte Materialien (Breite ≤1600mm) ab
  • Absetzgeschwindigkeit: 0,5-10 μm/min für Metallfolien, 0,1-2 μm/min für Oxidfolien
  • Substratheiztemperatur: Raumtemperatur - 500°C (genaue Temperaturregelung verfügbar, Temperaturunterschied ±2°C)

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