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マグネトロンスパッタリング真空コーティングマシン
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
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Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| 起源の場所 | 広東 |
| ブランド名 | Lion King |
| 証明 | CE |
製品の詳細
チャンバーサイズ:
カスタマイズされた
塗装制御システム:
PLC/タッチスクリーン
操作方法:
タッチスクリーン
塗装監視システム:
リアルタイム
膜厚:
0.1〜5ミクロン
コーティング電源:
DC/RF/AC
コーティングの硬さ:
≥HV800
コーティング材料:
金属、セラミックス、有機材料
チャンバーの材質:
ステンレス鋼
真空度:
高真空
保証:
1年
塗布速度:
速い
ハイライト:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
支払いと配送条件
最小注文数量
1
受渡し時間
45-60営業日
製品説明
1基本の働き方
- 真空環境の設置:真空ポンプセットは,コーティング室内の圧力を高真空状態 (通常≤10−3Pa) に低下させるために使用されます.空気分子がフィルム堆積を妨害するのを防ぐ.
- プラズマ刺激: 惰性ガス (アルゴンなど) を室内に導入し,高電圧の電場が標的 (コーティング材料,例えばアルミ,チタン,アルゴンガスをイオン化してプラズマを生成する..
- マグネトロン噴射沉着:電子の移動軌道を制限するために磁場が用いられ,電子とアルゴン分子間の衝突効率が向上する.これは,高速度で標的表面を爆撃するアルゴンイオンを引き起こす対象原子は"噴出"され,直線で移動し,基板表面に堆積して均質なフィルムを形成します.
2主要な利点
- 高品質のフィルム: フィルムは均一性が良好 (偏差は±5%以内に制御可能) で,基板に強い粘着性があり,剥離または裂けやすい.
- 高効率のコーティング: 電子を制限する磁場を使用する設計により,スプッティング速度は著しく改善されます.単一のターゲットの堆積速度は0.1-10μm/minに達し,大量生産に適しています.
- 素材 に 広く 適応 できる:適用されるコーティング材料には,金属 (アルミ,銅,銀),合金 (不老鋼,チタン合金),および異なる機能要件を満たす化合物 (ITO,SiO2,Al2O3) が含まれる.
- 環境 に 優しく,汚染 さ れ ない: 化学廃棄物液体や有害ガスの排出はなく,慣性ガスと固体標的のみを使用し,近代的な産業環境保護基準を満たしています.
3主な応用分野
| 応用産業 | 特殊用途 の 例 | 基本要件 |
|---|---|---|
| 電子情報産業 | チップ電極コーティング,ディスプレイ ITO導電フィルム,磁気ヘッドフィルム | 高伝導性,フィルム均一性,精密な制御 |
| 光学場 | メガネのための反射フィルム,カメラレンズのためのフィルターフィルム,レーザーレンズ | 低反射性,高い光伝達性,耐磨性 |
| 装飾用および機能用コーティング | ハードウェアのための装飾フィルム (例えば,チタンゴールド,ジルコニウムゴールド),切削道具のための耐磨フィルム | エステティック,耐腐蝕性,高硬さ |
| 新しいエネルギー産業 | リチウム電池のポールパーツコーティング,光伏ガラスの反射フィルム | 高粘着性,大量生産効率,低コスト |
4重要な技術パラメータ (参照)
- 真空度:最終真空 ≤5*10−5Pa,作業真空 1*10−3 - 5*10−1Pa
- ターゲット構成: 単発標的,二重標的,または多発標的 (DC,RF,中周波スプッターをサポート),標的サイズ Φ50-300mm
- 基板のサイズ: オーダーメイド;従来のサイズでは,シート材料 (100*100mm~1000*1000mm) と巻き物 (幅 ≤1600mm) をカバーする
- 堆積速度:金属フィルムでは0.5〜10μm/分,酸化フィルムでは0.1-2μm/分
- 基板の加熱温度:室温 - 500°C (正確な温度制御が可能,温度差 ±2°C)
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