Thuis
>
producten
>
Magnetron sputterende vacuümcoatingmachine
>
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
|
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| Plaats van herkomst | Guangdong |
| Merknaam | Lion King |
| Certificering | CE |
Productdetails
Kamergrootte:
aangepast
Coatingcontrolesysteem:
Plc/touchscreen
Operatie manier:
Aanraakscherm
Coatingbewakingssysteem:
Realtime
Dikte van de coating:
0,1-5 micron
Coating stroomvoorziening:
DC/RF/AC
Coating Hardheid:
≥HV800
Coatingmaterialen:
Metaal, keramiek, organische materialen
Kamermateriaal:
Roestvrij staal
Vacuümniveau:
Hoog vacuüm
Garantie:
1 jaar
Coatingsnelheid:
Snel
Markeren:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
Betaling en verzendvoorwaarden
Min. bestelaantal
1
Levertijd
45-60 Werkdagen
Productbeschrijving
1. Kernwerkingsprincipe
- Vaststellen van een vacuümomgeving: Een vacuümpomp wordt gebruikt om de druk in de coatingkamer te verlagen tot een hoog vacuüm (meestal ≤10⁻³Pa), waardoor wordt voorkomen dat luchtmoleculen de filmafzetting verstoren.
- Plasma-excitatie: Een inert gas (zoals argon) wordt in de kamer geïntroduceerd en een hoogspanningsveld wordt aangelegd tussen het doel (coatingmateriaal, bijv. aluminium, titanium, ITO) en het substraat om het argongas te ioniseren en plasma te genereren.
- Magnetron Sputterdepositie: Een magnetisch veld wordt gebruikt om de bewegingstrajecten van elektronen te beperken, waardoor de botsingsefficiëntie tussen elektronen en argonmoleculen wordt verhoogd. Dit zorgt ervoor dat argonionen met hoge snelheid op het doeloppervlak bombarderen; de doelatomen worden "gesputterd", bewegen in een rechte lijn en worden op het substraatoppervlak afgezet om een uniforme film te vormen.
2. Kernvoordelen
- Hoge filmkwaliteit: De film heeft een goede uniformiteit (afwijking kan worden gecontroleerd binnen ±5%) en een sterke hechting aan het substraat, waardoor deze minder snel loslaat of barst.
- Hoge coatingefficiëntie: Het ontwerp met een magnetisch veld om elektronen te beperken verbetert de sputteringsnelheid aanzienlijk. De depositie-snelheid van een enkel doel kan 0,1-10 µm/min bereiken, geschikt voor massaproductie.
- Brede materiaaladaptatie: De toepasbare coatingmaterialen omvatten metalen (aluminium, koper, zilver), legeringen (roestvrij staal, titaniumlegering) en verbindingen (ITO, SiO₂, Al₂O₃), die voldoen aan verschillende functionele vereisten.
- Milieuvriendelijk en vervuilingsvrij: Het hele proces produceert geen chemisch afvalwater of schadelijke gassen, en maakt alleen gebruik van inerte gassen en vaste doelen, in overeenstemming met de moderne industriële milieunormen.
3. Belangrijkste toepassingsgebieden
| Toepassingsindustrie | Voorbeelden van specifiek gebruik | Kernvereisten |
|---|---|---|
| Elektronische Informatie-industrie | Coating van chip-elektroden, display ITO geleidende film, magnetische kop film | Hoge geleidbaarheid, filmuniformiteit, precieze controle |
| Optisch veld | Anti-reflectiefilm voor brillen, filterfilm voor cameralenzen, laserlenzen | Lage reflectiviteit, hoge lichtdoorlatendheid, slijtvastheid |
| Decoratieve en Functionele Coating | Decoratieve films voor hardware (bijv. titaniumgoud, zirkoongoud), slijtvaste films voor snijgereedschappen | Esthetiek, corrosiebestendigheid, hoge hardheid |
| Nieuwe Energie-industrie | Coating van lithiumbatterij-poolstukken, anti-reflectiefilm voor fotovoltaïsch glas | Hoge hechting, efficiëntie van massaproductie, lage kosten |
4. Belangrijkste technische parameters (Referentie)
- Vacuümgraad: Ultiem vacuüm ≤5*10⁻⁵Pa, werk vacuüm 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- Doelconfiguratie: Enkel doel, dubbel doel of meerdere doelen (ondersteunt DC, RF en middenfrequentie sputtering), doelgrootte Φ50-300mm
- Substraatgrootte: Aanpasbaar; conventionele maten omvatten plaatmaterialen (100*100mm - 1000*1000mm) en rolmaterialen (breedte ≤1600mm)
- Depositie-snelheid: 0,5-10 µm/min voor metaalfilms, 0,1-2 µm/min voor oxidefilms
- Substraatverwarmingstemperatuur: Kamertemperatuur - 500℃ (precieze temperatuurregeling beschikbaar, temperatuurverschil ±2℃)
Aanbevolen Producten
Neem op elk moment contact met ons op.
18207198662
Lantang Zuidweg, Duanzhou-wijk, Zhaoqing, Guangdong 526060 China
