Nhà
>
các sản phẩm
>
Máy làm chân máy hút bụi từ tính
>
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
|
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| Nguồn gốc | Quảng Đông |
| Hàng hiệu | Lion King |
| Chứng nhận | CE |
Chi tiết sản phẩm
Kích thước buồng:
tùy chỉnh
Hệ thống kiểm soát lớp phủ:
Màn hình PLC/Touch
Cách vận hành:
Màn hình cảm ứng
Hệ thống giám sát lớp phủ:
thời gian thực
độ dày lớp phủ:
0,1-5 micron
Cung cấp năng lượng lớp phủ:
DC/RF/AC
Độ cứng lớp phủ:
≥ Hv800
Vật liệu phủ:
Kim loại, gốm sứ, vật liệu hữu cơ
Vật liệu buồng:
thép không gỉ
Mức độ chân không:
Độ chân không cao
Bảo hành:
1 năm
Tốc độ phủ:
Nhanh
Làm nổi bật:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
Điều khoản thanh toán và vận chuyển
Số lượng đặt hàng tối thiểu
1
Thời gian giao hàng
45-60 ngày làm việc
Mô tả sản phẩm
1. Nguyên tắc làm việc cốt lõi
- Thiết lập môi trường chân không: Một bộ bơm chân không được sử dụng để giảm áp suất bên trong buồng phủ xuống trạng thái chân không cao (thường ≤10⁻³Pa), ngăn chặn các phân tử không khí gây nhiễu quá trình lắng đọng màng.
- Kích thích Plasma: Một khí trơ (như argon) được đưa vào buồng, và một điện trường cao áp được áp dụng giữa đích (vật liệu phủ, ví dụ: nhôm, titan, ITO) và đế để ion hóa khí argon và tạo ra plasma.
- Lắng đọng Phun tia từ tính (Magnetron Sputtering): Một từ trường được sử dụng để giới hạn quỹ đạo chuyển động của electron, tăng hiệu quả va chạm giữa electron và phân tử argon. Điều này khiến các ion argon bắn phá bề mặt đích với tốc độ cao; các nguyên tử đích bị "bắn ra", di chuyển theo đường thẳng và lắng đọng trên bề mặt đế để tạo thành một màng đồng nhất.
2. Ưu điểm cốt lõi
- Chất lượng màng cao: Màng có độ đồng đều tốt (độ lệch có thể kiểm soát trong khoảng ±5%) và độ bám dính mạnh với đế, giúp giảm khả năng bong tróc hoặc nứt vỡ.
- Hiệu quả phủ cao: Thiết kế sử dụng từ trường để giới hạn electron giúp cải thiện đáng kể tốc độ phun. Tốc độ lắng đọng của đích đơn có thể đạt 0.1-10μm/phút, phù hợp cho sản xuất hàng loạt.
- Khả năng thích ứng vật liệu rộng: Các vật liệu phủ áp dụng bao gồm kim loại (nhôm, đồng, bạc), hợp kim (thép không gỉ, hợp kim titan) và hợp chất (ITO, SiO₂, Al₂O₃), đáp ứng các yêu cầu chức năng khác nhau.
- Thân thiện với môi trường và không gây ô nhiễm: Toàn bộ quy trình không thải chất lỏng hóa học hoặc khí độc hại, chỉ sử dụng khí trơ và đích rắn, tuân thủ các tiêu chuẩn bảo vệ môi trường công nghiệp hiện đại.
3. Lĩnh vực ứng dụng chính
| Ngành ứng dụng | Ví dụ sử dụng cụ thể | Yêu cầu cốt lõi |
|---|---|---|
| Ngành Thông tin Điện tử | Phủ điện cực chip, màng dẫn điện ITO cho màn hình, màng đầu từ | Độ dẫn điện cao, độ đồng đều màng, kiểm soát chính xác |
| Lĩnh vực Quang học | Màng chống phản xạ cho kính mắt, màng lọc cho ống kính máy ảnh, thấu kính laser | Phản xạ thấp, truyền sáng cao, chống mài mòn |
| Phủ Trang trí và Chức năng | Màng trang trí cho phần cứng (ví dụ: vàng titan, vàng zirconi), màng chống mài mòn cho dụng cụ cắt | Thẩm mỹ, chống ăn mòn, độ cứng cao |
| Ngành Năng lượng Mới | Phủ cực pin lithium, màng chống phản xạ cho kính quang điện | Độ bám dính cao, hiệu quả sản xuất hàng loạt, chi phí thấp |
4. Thông số kỹ thuật chính (Tham khảo)
- Độ chân không: Chân không cuối cùng ≤5*10⁻⁵Pa, chân không làm việc 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- Cấu hình đích: Đích đơn, đích đôi hoặc đa đích (hỗ trợ phun DC, RF và tần số trung bình), kích thước đích Φ50-300mm
- Kích thước đế: Tùy chỉnh; kích thước thông thường bao gồm vật liệu tấm (100*100mm - 1000*1000mm) và vật liệu cuộn (chiều rộng ≤1600mm)
- Tốc độ lắng đọng: 0.5-10μm/phút cho màng kim loại, 0.1-2μm/phút cho màng oxit
- Nhiệt độ gia nhiệt đế: Nhiệt độ phòng - 500℃ (có khả năng kiểm soát nhiệt độ chính xác, chênh lệch nhiệt độ ±2℃)
Sản phẩm Đề xuất
Liên hệ với chúng tôi bất cứ lúc nào
18207198662
Đường Nam Lantang, Khu vực Duanzhou, thành phố Zhaoqing, Quảng Đông 526060 Trung Quốc
