Αρχική σελίδα
>
προϊόντα
>
Μηχανή επικάλυψης κενού μεγέθους ψεκασμού
>
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
|
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
| Τόπος καταγωγής | Γκουανγκντόνγκ |
| Μάρκα | Lion King |
| Πιστοποίηση | CE |
Λεπτομέρειες προϊόντος
Μέγεθος θαλάμου:
προσαρμοσμένη
Σύστημα ελέγχου επίστρωσης:
PLC/οθόνη αφής
Τρόπος λειτουργίας:
Οθόνη αφής
Σύστημα παρακολούθησης επίστρωσης:
Σε πραγματικό χρόνο
Πάχος επίστρωσης:
0,1-5 μικρά
Τροφοδοσία επικάλυψης:
DC/RF/AC
Σκληρότητα επικάλυψης:
≥HV800
Υλικά επικάλυψης:
Μέταλλο, Κεραμικό, Οργανικά Υλικά
Υλικό θαλάμου:
Ανοξείδωτο ατσάλι
Επίπεδο κενού:
Υψηλό κενό
Εγγύηση:
1 Έτος
Ταχύτητα επίστρωσης:
Γρήγορα
Επισημαίνω:
magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
Όροι πληρωμής και αποστολής
Ποσότητα παραγγελίας min
1
Χρόνος παράδοσης
45-60 εργάσιμες ημέρες
Περιγραφή προϊόντος
1. Βασική Αρχή Λειτουργίας
- Δημιουργία Περιβάλλοντος κενού: Ένα σύστημα αντλίας κενού χρησιμοποιείται για τη μείωση της πίεσης εντός του θαλάμου επίστρωσης σε κατάσταση υψηλού κενού (συνήθως ≤10⁻³Pa), αποτρέποντας τα μόρια του αέρα από το να παρεμβαίνουν στην εναπόθεση φιλμ.
- Διέγερση Πλάσματος: Εισάγεται ένα αδρανές αέριο (όπως αργό) στον θάλαμο και εφαρμόζεται ένα ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης μεταξύ του στόχου (υλικό επίστρωσης, π.χ. αλουμίνιο, τιτάνιο, ITO) και του υποστρώματος για την ιονισμό του αερίου αργού και τη δημιουργία πλάσματος.
- Εναπόθεση με Μαγνητρονική Εκτόξευση: Χρησιμοποιείται ένα μαγνητικό πεδίο για τον περιορισμό της τροχιάς κίνησης των ηλεκτρονίων, ενισχύοντας την αποδοτικότητα σύγκρουσης μεταξύ ηλεκτρονίων και μορίων αργού. Αυτό προκαλεί τους ιόντες αργού να βομβαρδίζουν την επιφάνεια του στόχου με υψηλή ταχύτητα. Τα άτομα του στόχου "εκτοξεύονται", κινούνται σε ευθεία γραμμή και εναποτίθενται στην επιφάνεια του υποστρώματος για να σχηματίσουν ένα ομοιόμορφο φιλμ.
2. Βασικά Πλεονεκτήματα
- Υψηλή Ποιότητα Φιλμ: Το φιλμ έχει καλή ομοιομορφία (η απόκλιση μπορεί να ελεγχθεί εντός ±5%) και ισχυρή πρόσφυση στο υπόστρωμα, καθιστώντας το λιγότερο πιθανό να ξεκολλήσει ή να ραγίσει.
- Υψηλή Αποδοτικότητα Επίστρωσης: Ο σχεδιασμός χρήσης μαγνητικού πεδίου για τον περιορισμό των ηλεκτρονίων βελτιώνει σημαντικά τον ρυθμό εκτόξευσης. Ο ρυθμός εναπόθεσης ενός στόχου μπορεί να φτάσει τα 0,1-10 μm/min, κατάλληλος για μαζική παραγωγή.
- Ευρεία Προσαρμοστικότητα Υλικών: Τα εφαρμόσιμα υλικά επίστρωσης περιλαμβάνουν μέταλλα (αλουμίνιο, χαλκός, ασήμι), κράματα (ανοξείδωτος χάλυβας, κράμα τιτανίου) και ενώσεις (ITO, SiO₂, Al₂O₃), καλύπτοντας διαφορετικές λειτουργικές απαιτήσεις.
- Φιλικότητα προς το Περιβάλλον και Μη Ρύπανση: Ολόκληρη η διαδικασία δεν έχει εκπομπή χημικών υγρών αποβλήτων ή επιβλαβών αερίων, και χρησιμοποιεί μόνο αδρανή αέρια και στερεούς στόχους, συμμορφούμενη με τα σύγχρονα πρότυπα περιβαλλοντικής προστασίας της βιομηχανίας.
3. Κύριοι Τομείς Εφαρμογής
| Βιομηχανία Εφαρμογής | Παραδείγματα Συγκεκριμένων Χρήσεων | Βασικές Απαιτήσεις |
|---|---|---|
| Βιομηχανία Ηλεκτρονικών Πληροφοριών | Επίστρωση ηλεκτροδίων τσιπ, αγώγιμο φιλμ ITO οθόνης, φιλμ μαγνητικής κεφαλής | Υψηλή αγωγιμότητα, ομοιομορφία φιλμ, ακριβής έλεγχος |
| Οπτικό Πεδίο | Αντι-ανακλαστικό φιλμ για γυαλιά, φιλμ φίλτρου για φακούς φωτογραφικών μηχανών, φακοί λέιζερ | Χαμηλή ανακλαστικότητα, υψηλή διαπερατότητα φωτός, αντοχή στη φθορά |
| Διακοσμητική και Λειτουργική Επίστρωση | Διακοσμητικά φιλμ για υλικά υλικού (π.χ. χρυσός τιτανίου, χρυσός ζιρκονίου), φιλμ ανθεκτικά στη φθορά για εργαλεία κοπής | Αισθητική, αντοχή στη διάβρωση, υψηλή σκληρότητα |
| Βιομηχανία Νέας Ενέργειας | Επίστρωση πόλων μπαταριών λιθίου, αντι-ανακλαστικό φιλμ για φωτοβολταϊκά γυαλιά | Υψηλή πρόσφυση, αποδοτικότητα μαζικής παραγωγής, χαμηλό κόστος |
4. Βασικές Τεχνικές Παράμετροι (Αναφορά)
- Βαθμός Κενού: Οριακό κενό ≤5*10⁻⁵Pa, λειτουργικό κενό 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- Διαμόρφωση Στόχου: Μονού στόχου, διπλού στόχου ή πολλαπλών στόχων (υποστηρίζει DC, RF και μεσαίας συχνότητας εκτόξευση), μέγεθος στόχου Φ50-300mm
- Μέγεθος Υποστρώματος: Προσαρμόσιμο. Συμβατικά μεγέθη καλύπτουν φύλλα υλικού (100*100mm - 1000*1000mm) και υλικά σε ρολό (πλάτος ≤1600mm)
- Ρυθμός Εναπόθεσης: 0,5-10 μm/min για μεταλλικά φιλμ, 0,1-2 μm/min για οξειδικά φιλμ
- Θερμοκρασία Θέρμανσης Υποστρώματος: Θερμοκρασία δωματίου - 500℃ (διαθέσιμος ακριβής έλεγχος θερμοκρασίας, διαφορά θερμοκρασίας ±2℃)
Προτεινόμενα Προϊόντα
ΕΠΙΚΟΙΝΩΝΗΣΤΕ ΜΑΖΙ ΜΑΣ ΟΠΟΙΑΔΗΠΟΤΕ ΣΤΙΓΜΗ
18207198662
Λεωφόρος Lantang South, Περιοχή Duanzhou, πόλη Zhaoqing, Guangdong 526060 Κίνα
