বাড়ি > পণ্য > চৌম্বকীয় স্পটারিং ভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন >

Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber

উৎপত্তি স্থল	গুয়াংডং
পরিচিতিমুলক নাম	Lion King
সাক্ষ্যদান	CE

পণ্যের বিবরণ

চেম্বারের আকার:

কাস্টমাইজড

আবরণ নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা:

পিএলসি/টাচ স্ক্রিন

অপারেশন পথ:

টাচ স্ক্রীন

আবরণ মনিটরিং সিস্টেম:

রিয়েল-টাইম

আবরণ বেধ:

0.1-5 মাইক্রন

লেপ পাওয়ার সাপ্লাই:

ডিসি/আরএফ/এসি

লেপ কঠোরতা:

VHV800

আবরণ উপকরণ:

ধাতু, সিরামিক, জৈব উপকরণ

চেম্বার উপাদান:

স্টেইনলেস স্টীল

ভ্যাকুয়াম লেভেল:

উচ্চ ভ্যাকুয়াম

ওয়ারেন্টি:

1 বছর

আবরণ গতি:

দ্রুত

বিশেষভাবে তুলে ধরা:

magnetron sputtering vacuum coating machine

multi-arc ion sputtering vacuum chamber

deposition magnetron sputtering machine

পেমেন্ট ও শিপিংয়ের শর্তাবলী

ন্যূনতম চাহিদার পরিমাণ

ডেলিভারি সময়

45-60 কাজের দিন

পণ্যের বিবরণ

১. মূল কার্যনীতি

শূন্যস্থান পরিবেশ স্থাপন: একটি ভ্যাকুয়াম পাম্প সেট কোটিং চেম্বারের ভিতরের চাপকে উচ্চ শূন্যস্থান অবস্থায় (সাধারণত ≤১০⁻³Pa) কমাতে ব্যবহৃত হয়, যা ফিল্ম জমা হওয়ার সময় বায়ুর অণুগুলির হস্তক্ষেপ প্রতিরোধ করে।
প্লাজমা উত্তেজনা: চেম্বারে একটি নিষ্ক্রিয় গ্যাস (যেমন আর্গন) প্রবেশ করানো হয় এবং টার্গেট (কোটিং উপাদান, যেমন অ্যালুমিনিয়াম, টাইটানিয়াম, ITO) এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে একটি উচ্চ-ভোল্টেজ বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র প্রয়োগ করা হয় যাতে আর্গন গ্যাস আয়নিত হয় এবং প্লাজমা তৈরি হয়।
ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং ডিপোজিশন: একটি চৌম্বক ক্ষেত্র ইলেকট্রনের গতিপথ সীমাবদ্ধ করতে ব্যবহৃত হয়, যা ইলেকট্রন এবং আর্গন অণুগুলির মধ্যে সংঘর্ষের দক্ষতা বৃদ্ধি করে। এর ফলে আর্গন আয়নগুলি উচ্চ গতিতে টার্গেট পৃষ্ঠে আঘাত করে; টার্গেট পরমাণুগুলি "স্পাটার্ড আউট" হয়, সরলরেখায় চলে এবং সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে জমা হয়ে একটি অভিন্ন ফিল্ম তৈরি করে।

২. মূল সুবিধা

উচ্চ ফিল্মের গুণমান: ফিল্মের অভিন্নতা ভালো (বিচ্যুতি ±৫% এর মধ্যে নিয়ন্ত্রণ করা যায়) এবং সাবস্ট্রেটের সাথে শক্তিশালী আনুগত্য রয়েছে, যার ফলে এটি সহজে খুলে যাওয়া বা ফাটল ধরা থেকে রক্ষা পায়।
উচ্চ কোটিং দক্ষতা: ইলেকট্রন সীমাবদ্ধ করার জন্য চৌম্বক ক্ষেত্র ব্যবহারের নকশা স্পাটারিং হারকে উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করে। একক-টার্গেট ডিপোজিশন হার ০.১-১০μm/min পর্যন্ত পৌঁছাতে পারে, যা ব্যাপক উৎপাদনের জন্য উপযুক্ত।
বিস্তৃত উপাদান অভিযোজনযোগ্যতা: প্রযোজ্য কোটিং উপাদানগুলির মধ্যে রয়েছে ধাতু (অ্যালুমিনিয়াম, তামা, রূপা), সংকর ধাতু (স্টেইনলেস স্টিল, টাইটানিয়াম সংকর ধাতু), এবং যৌগ (ITO, SiO₂, Al₂O₃), যা বিভিন্ন কার্যকরী প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।
পরিবেশবান্ধব এবং দূষণমুক্ত: পুরো প্রক্রিয়াটিতে কোনও রাসায়নিক বর্জ্য তরল বা ক্ষতিকারক গ্যাস নির্গত হয় না এবং কেবল নিষ্ক্রিয় গ্যাস এবং কঠিন টার্গেট ব্যবহার করা হয়, যা আধুনিক শিল্প পরিবেশ সুরক্ষা মান মেনে চলে।

৩. প্রধান প্রয়োগ ক্ষেত্র

প্রয়োগ শিল্প	নির্দিষ্ট ব্যবহারের উদাহরণ	মূল প্রয়োজনীয়তা
ইলেকট্রনিক তথ্য শিল্প	চিপ ইলেকট্রোড কোটিং, ডিসপ্লে ITO পরিবাহী ফিল্ম, ম্যাগনেটিক হেড ফিল্ম	উচ্চ পরিবাহিতা, ফিল্মের অভিন্নতা, সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ
অপটিক্যাল ক্ষেত্র	চশমার জন্য অ্যান্টি-রিফ্লেকশন ফিল্ম, ক্যামেরা লেন্সের জন্য ফিল্টার ফিল্ম, লেজার লেন্স	নিম্ন প্রতিফলন, উচ্চ আলো সংক্রমণ, পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা
আলংকারিক এবং কার্যকরী কোটিং	হার্ডওয়্যারের জন্য আলংকারিক ফিল্ম (যেমন, টাইটানিয়াম গোল্ড, জিরকোনিয়াম গোল্ড), কাটিং টুলের জন্য পরিধান-প্রতিরোধী ফিল্ম	সৌন্দর্য, ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা, উচ্চ কঠোরতা
নতুন শক্তি শিল্প	লিথিয়াম ব্যাটারি পোল পিস কোটিং, ফটোভোলটাইক গ্লাসের জন্য অ্যান্টি-রিফ্লেকশন ফিল্ম	উচ্চ আনুগত্য, ব্যাপক উৎপাদন দক্ষতা, কম খরচ

৪. মূল প্রযুক্তিগত পরামিতি (রেফারেন্স)

শূন্যস্থান ডিগ্রি: চূড়ান্ত শূন্যস্থান ≤৫*১০⁻⁵Pa, কার্যকারী শূন্যস্থান ১*১০⁻³ - ৫*১০⁻¹Pa
টার্গেট কনফিগারেশন: একক-টার্গেট, ডাবল-টার্গেট, বা মাল্টি-টার্গেট (DC, RF, এবং মধ্য-ফ্রিকোয়েন্সি স্পাটারিং সমর্থন করে), টার্গেট আকার φ৫০-৩০০মিমি
সাবস্ট্রেট আকার: কাস্টমাইজযোগ্য; প্রচলিত আকারগুলি শীট উপাদান (১০০*১০০মিমি - ১০০০*১০০০মিমি) এবং কয়েল উপাদান (প্রস্থ ≤১৬০০মিমি) অন্তর্ভুক্ত করে
ডিপোজিশন হার: ধাতব ফিল্মের জন্য ০.৫-১০μm/min, অক্সাইড ফিল্মের জন্য ০.১-২μm/min
সাবস্ট্রেট হিটিং তাপমাত্রা: ঘরের তাপমাত্রা - ৫০০℃ (সুনির্দিষ্ট তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ উপলব্ধ, তাপমাত্রার পার্থক্য ±২℃)

ট্যাগ্স: