Lion King Vacuum Technology Co., Ltd
E-mail: sales@lionpvd.com Tel: 86--18207198662
Rumah > Produk > Mesin pelapis vakum sputtering magnetron >
Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
  • Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber
  • Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber

Deposition Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine/Multi-Arc Ion Sputtering Vacuum Chamber

Tempat asal Guangdong
Nama merek Lion King
Sertifikasi CE
Detail Produk
Ukuran Kamar:
disesuaikan
Sistem Kontrol Pelapisan:
Layar PLC/Sentuh
Cara Operasi:
Layar Sentuh
Sistem Pemantauan Pelapisan:
Waktu nyata
Ketebalan lapisan:
0,1-5 mikron
Catu daya pelapis:
DC/RF/AC
Kekerasan pelapis:
≥HV800
Bahan pelapis:
Logam, Keramik, Bahan Organik
Bahan Kamar:
Baja Tahan Karat
Tingkat Vakum:
Vakum Tinggi
Jaminan:
1 Tahun
Kecepatan pelapisan:
Cepat
Menyoroti: 

magnetron sputtering vacuum coating machine

,

multi-arc ion sputtering vacuum chamber

,

deposition magnetron sputtering machine

Syarat Pembayaran & Pengiriman
Kuantitas min Order
1
Waktu pengiriman
45-60 hari kerja
Deskripsi produk
1. Prinsip Kerja Inti
  1. Pembentukan Lingkungan Vakum: Set pompa vakum digunakan untuk mengurangi tekanan di dalam ruang pelapisan ke kondisi vakum tinggi (biasanya ≤10⁻³Pa), mencegah molekul udara mengganggu deposisi film.
  2. Eksitasi Plasma: Gas inert (seperti argon) dimasukkan ke dalam ruang, dan medan listrik tegangan tinggi diterapkan antara target (bahan pelapis, misal aluminium, titanium, ITO) dan substrat untuk mengionisasi gas argon dan menghasilkan plasma.
  3. Deposisi Sputtering Magnetron: Medan magnet digunakan untuk membatasi lintasan gerakan elektron, meningkatkan efisiensi tumbukan antara elektron dan molekul argon. Hal ini menyebabkan ion argon membombardir permukaan target dengan kecepatan tinggi; atom target "terpercik keluar", bergerak lurus, dan mengendap di permukaan substrat untuk membentuk film yang seragam.
2. Keunggulan Inti
  • Kualitas Film Tinggi: Film memiliki keseragaman yang baik (deviasi dapat dikontrol dalam ±5%) dan adhesi yang kuat ke substrat, sehingga kecil kemungkinannya terkelupas atau retak.
  • Efisiensi Pelapisan Tinggi: Desain penggunaan medan magnet untuk membatasi elektron secara signifikan meningkatkan laju sputtering. Laju deposisi target tunggal dapat mencapai 0,1-10μm/menit, cocok untuk produksi massal.
  • Adaptabilitas Material Luas: Bahan pelapis yang berlaku meliputi logam (aluminium, tembaga, perak), paduan (baja tahan karat, paduan titanium), dan senyawa (ITO, SiO₂, Al₂O₃), memenuhi persyaratan fungsional yang berbeda.
  • Ramah Lingkungan dan Tanpa Polusi: Seluruh proses tidak menghasilkan limbah cair kimia atau gas berbahaya, dan hanya menggunakan gas inert dan target padat, sesuai dengan standar perlindungan lingkungan industri modern.
3. Bidang Aplikasi Utama
Industri Aplikasi Contoh Penggunaan Spesifik Persyaratan Inti
Industri Informasi Elektronik Pelapisan elektroda chip, film konduktif ITO layar, film kepala magnet Konduktivitas tinggi, keseragaman film, kontrol presisi
Bidang Optik Film anti-refleksi untuk kacamata, film filter untuk lensa kamera, lensa laser Reflektivitas rendah, transmisi cahaya tinggi, ketahanan aus
Pelapisan Dekoratif dan Fungsional Film dekoratif untuk perangkat keras (misal, emas titanium, emas zirkonium), film tahan aus untuk alat potong Estetika, ketahanan korosi, kekerasan tinggi
Industri Energi Baru Pelapisan kutub baterai lithium, film anti-refleksi untuk kaca fotovoltaik Adhesi tinggi, efisiensi produksi massal, biaya rendah
4. Parameter Teknis Utama (Referensi)
  • Tingkat Vakum: Vakum akhir ≤5*10⁻⁵Pa, vakum kerja 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
  • Konfigurasi Target: Target tunggal, target ganda, atau multi-target (mendukung sputtering DC, RF, dan frekuensi menengah), ukuran target Φ50-300mm
  • Ukuran Substrat: Dapat disesuaikan; ukuran konvensional mencakup bahan lembaran (100*100mm - 1000*1000mm) dan bahan gulungan (lebar ≤1600mm)
  • Laju Deposisi: 0,5-10μm/menit untuk film logam, 0,1-2μm/menit untuk film oksida
  • Suhu Pemanasan Substrat: Suhu ruangan - 500℃ (kontrol suhu presisi tersedia, perbedaan suhu ±2℃)

Produk yang Direkomendasikan

Hubungi kami kapan saja

18207198662
Jalan Lantang Selatan, Daerah Duanzhou, kota Zhaoqing, Guangdong 526060 Cina
Kirimkan pertanyaan Anda langsung kepada kami