magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
- Pembentukan Lingkungan Vakum: Set pompa vakum digunakan untuk mengurangi tekanan di dalam ruang pelapisan ke kondisi vakum tinggi (biasanya ≤10⁻³Pa), mencegah molekul udara mengganggu deposisi film.
- Eksitasi Plasma: Gas inert (seperti argon) dimasukkan ke dalam ruang, dan medan listrik tegangan tinggi diterapkan antara target (bahan pelapis, misal aluminium, titanium, ITO) dan substrat untuk mengionisasi gas argon dan menghasilkan plasma.
- Deposisi Sputtering Magnetron: Medan magnet digunakan untuk membatasi lintasan gerakan elektron, meningkatkan efisiensi tumbukan antara elektron dan molekul argon. Hal ini menyebabkan ion argon membombardir permukaan target dengan kecepatan tinggi; atom target "terpercik keluar", bergerak lurus, dan mengendap di permukaan substrat untuk membentuk film yang seragam.
- Kualitas Film Tinggi: Film memiliki keseragaman yang baik (deviasi dapat dikontrol dalam ±5%) dan adhesi yang kuat ke substrat, sehingga kecil kemungkinannya terkelupas atau retak.
- Efisiensi Pelapisan Tinggi: Desain penggunaan medan magnet untuk membatasi elektron secara signifikan meningkatkan laju sputtering. Laju deposisi target tunggal dapat mencapai 0,1-10μm/menit, cocok untuk produksi massal.
- Adaptabilitas Material Luas: Bahan pelapis yang berlaku meliputi logam (aluminium, tembaga, perak), paduan (baja tahan karat, paduan titanium), dan senyawa (ITO, SiO₂, Al₂O₃), memenuhi persyaratan fungsional yang berbeda.
- Ramah Lingkungan dan Tanpa Polusi: Seluruh proses tidak menghasilkan limbah cair kimia atau gas berbahaya, dan hanya menggunakan gas inert dan target padat, sesuai dengan standar perlindungan lingkungan industri modern.
| Industri Aplikasi | Contoh Penggunaan Spesifik | Persyaratan Inti |
|---|---|---|
| Industri Informasi Elektronik | Pelapisan elektroda chip, film konduktif ITO layar, film kepala magnet | Konduktivitas tinggi, keseragaman film, kontrol presisi |
| Bidang Optik | Film anti-refleksi untuk kacamata, film filter untuk lensa kamera, lensa laser | Reflektivitas rendah, transmisi cahaya tinggi, ketahanan aus |
| Pelapisan Dekoratif dan Fungsional | Film dekoratif untuk perangkat keras (misal, emas titanium, emas zirkonium), film tahan aus untuk alat potong | Estetika, ketahanan korosi, kekerasan tinggi |
| Industri Energi Baru | Pelapisan kutub baterai lithium, film anti-refleksi untuk kaca fotovoltaik | Adhesi tinggi, efisiensi produksi massal, biaya rendah |
- Tingkat Vakum: Vakum akhir ≤5*10⁻⁵Pa, vakum kerja 1*10⁻³ - 5*10⁻¹Pa
- Konfigurasi Target: Target tunggal, target ganda, atau multi-target (mendukung sputtering DC, RF, dan frekuensi menengah), ukuran target Φ50-300mm
- Ukuran Substrat: Dapat disesuaikan; ukuran konvensional mencakup bahan lembaran (100*100mm - 1000*1000mm) dan bahan gulungan (lebar ≤1600mm)
- Laju Deposisi: 0,5-10μm/menit untuk film logam, 0,1-2μm/menit untuk film oksida
- Suhu Pemanasan Substrat: Suhu ruangan - 500℃ (kontrol suhu presisi tersedia, perbedaan suhu ±2℃)
Peralatan pelapisan sputtering magnetron untuk komponen perangkat keras ponsel yang disesuaikan dengan kebutuhan pelanggan mesin pelapisan pvd
I. Core Structure The magnetron sputtering coating equipment for mobile phone hardware parts is a dedicated device designed for small hardware parts such as mobile phone frames, keys, and camera decorative rings. Its core structure is divided into five major modules: vacuum system, sputtering system...
Mesin Sputtering Magnetron DC Presisi Tinggi dengan Ukuran yang Dapat Disesuaikan dan Pelapisan Multi-layer untuk Logam dan Kaca
DC Magnetron Sputtering Machine - Vacuum PVD Coating System This high-precision DC Magnetron Sputtering Machine is designed for superior vacuum PVD coating applications on metal and glass substrates. The equipment features rational structure design, uniform coating distribution, excellent quality ...
Mesin Pelapis Vakum Sputtering Magnetron dengan Teknologi Ion Multi Arc, Ukuran Ruang yang Disesuaikan, dan Kepadatan Pelapisan Tinggi ≥99,9% untuk Aplikasi Dekoratif dan Fungsional
Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine Professional PVD vacuum coating magnetron sputtering machine specifically designed for cutlery and tableware applications, including knives. Working Principle Vacuum magnetron sputtering coating utilizes an orthogonal electromagnetic field where charged ...
Mesin Lapisan Vakuum Magnetron Sputtering Berkualitas Industri dengan Tingkat Deposisi Tinggi dan Kualitas Film Superior untuk Kompatibilitas Bahan yang Luas
Industrial Grade Reaction Magnetron Sputtering Vacuum Coater Machine Professional PVD vacuum coating system designed for high-end hardware and stainless steel parts with advanced magnetron sputtering technology. Product Specifications Product Type PVD Vacuum Coating Machine Primary Applications High...
