Sistem Pelapisan Sputtering Magnetron
Pelapis sputtering magnetron menggunakan teknologi sputtering magnetron canggih untuk menyimpan film padat dan seragam dengan daya rekat kuat ke berbagai substrat. Sistem pelapisan industri ini ideal untuk hub otomotif, peralatan dapur baja tahan karat, dan berbagai aplikasi lainnya.
Tabel Spesifikasi Teknis
| Model |
Singa-12515 |
Singa-1820 |
Singa-2323 |
Singa-2345 |
Singa-2368 |
| Ukuran Ruangan (mm) |
D1250×T1500 |
D1800×T2000 |
D2300×T2300 |
D2300-2500×H4500 |
D2300-2500×H6800 |
| Busur |
10 |
18 |
22 |
40-42 |
58-62 |
| Kekuatan Busur |
200A |
| Kekuatan Bias |
30KW--120KW |
| Gas |
Ar, N₂, C₂H₂, O₂ |
| Pendinginan |
Sirkulasi pendingin air dengan menara pendingin industri, pendingin air, atau sistem kriogenik |
| Indeks Vakum |
Waktu ekstraksi (keadaan dingin tanpa beban): dari atmosfer hingga 9,9×10⁻³Pa ≤10 menit |
| Vakum Tertinggi |
Unggul hingga 5,0×10⁻⁴Pa |
| Tekanan Meningkat |
Tingkat kebocoran udara dingin mesin baru ≤0,5Pa/jam |
| Pekerjaan |
10 |
15 |
18 |
50 |
75 |
Catatan:Semua konfigurasi dan ukuran dibuat khusus sesuai dengan kebutuhan pelanggan dan kebutuhan pemrosesan produk tertentu.
Keuntungan Utama
- Menghasilkan film yang seragam dan padat dengan daya rekat luar biasa
- Target berpendingin air meminimalkan pembangkitan panas radiasi
- Kompatibel dengan hampir semua bahan target logam
- Mampu menyemprotkan bahan non-konduktif menggunakan daya RF atau MF
- Keseragaman lapisan yang sangat baik dan permukaan lapisan yang halus
Ikhtisar Teknologi
Sputtering magnetron adalah proses pelapisan plasma di mana ion membombardir permukaan target dalam ruang vakum yang diisi dengan gas inert (biasanya argon). Plasma yang dihasilkan menyebabkan material target terlontar, menciptakan lapisan pelapis tergagap pada produk yang diposisikan di depan target.
Kustomisasi Warna
Sistem kami menawarkan pelapis dalam berbagai warna logam termasuk emas, emas mawar, perak, baja, nikel, perunggu, antrasit, dan hitam. Komposisi warna dapat disempurnakan menggunakan zirkonium, titanium, nitrogen, karbon, oksigen, dan logam lainnya untuk memenuhi kebutuhan spesifik pasar Anda.
Aplikasi
Banyak digunakan untuk gelang jam, kotak arloji, perhiasan, ponsel pintar, elektronik, perlengkapan saniter, perangkat keras golf, peralatan makan, kosmetik, dan pelapis dekoratif termasuk pelapis TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, dan AF.
Spesifikasi Teknis
Jenis & Aplikasi Film
| Jenis Film |
Aplikasi Khas |
| Film Logam & Paduan |
Interkoneksi semikonduktor, elektroda perangkat elektronik |
| Film Isolasi |
Kemasan komponen elektronik, substrat perangkat optik |
| Film Optik |
Lensa, layar, filter optik |
| Film Dekoratif & Pelindung |
Perhiasan, perangkat keras, alat pemotong dan cetakan |
| Film Komposit Fungsional |
Layar elektronik, peralatan medis, produk energi baru |
Fitur Peralatan
Fleksibilitas Parameter Pulsa
Penyesuaian frekuensi pulsa, siklus kerja, dan daya puncak yang tepat untuk beradaptasi dengan bahan target dan persyaratan pelapisan yang berbeda. Model kelas atas mencapai frekuensi pulsa hingga 150kHz.
Kompatibilitas Bahan
Menangani target logam (Ti, Al) dan target isolasi (Al₂O₃, TiO₂) melalui mode pulsa dua arah atau AC frekuensi menengah. Desain proses suhu rendah mengakomodasi substrat yang sensitif terhadap panas.
Integrasi & Kecerdasan
Dilengkapi dengan manipulator vakum terintegrasi, pemantauan ketebalan film online, dan sistem penyelarasan otomatis untuk produksi multi-ruang yang berkelanjutan.
Keunggulan Kinerja
- Secara signifikan mengurangi cacat lapisan film
- Meningkatkan target pemanfaatan material dari 20% menjadi 45%
- Mengurangi konsumsi bahan target sebesar 40%
- Menurunkan biaya logam langka sebesar 30%
- Mencapai tingkat deposisi hingga 10nm/s
- Mencegah keracunan target selama pengendapan film majemuk