RF-Magnetron-Sputter-Beschichtungsausrüstung mit hohem Vakuumsystem Echtzeit-Beschichtungsüberwachung und anpassbare Zielgröße für optische und dekorative Anwendungen
RF-Magnetron-Sputter-Beschichtungsausrüstung mit hohem Vakuumsystem Echtzeit-Beschichtungsüberwachung und anpassbare Zielgröße für optische und dekorative Anwendungen
Herkunftsort
Guangdong
Markenname
Lion King
Zertifizierung
CE
Produktdetails
Verdunstungsstromversorgung:
1 Satz
Vakuumsystem:
Hochvakuum
Anwendung:
Optisch, dekorativ, funktional
Beschichtungsmaterial:
Metall, Legierung, Keramik usw.
Zielgröße:
Anpassbar
Beschichtungsgeschwindigkeit:
0,5-1,5 m/min
Beschichtungsüberwachungssystem:
Echtzeit
Beschichtungsmaterialien:
Metall, Keramik, organische Materialien
Größe der Beschichtungskammer:
individuell angepasst
Beschichtungsdichte:
≥99,9 %
Operationsweg:
Touch-Screen
Beschichtungshärte:
≥HV800
Kammermaterial:
Edelstahl
Betriebsmodus:
Automatisch/Handbuch
Hervorheben:
RF-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine
,
PVD-Vakuum-Beschichtungsanlage für Gläser
,
Magnetron-Sputtermaschine für Metalle
Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
45-60 Arbeitstage
Produktbeschreibung
RF-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage
Professionelle PVD-Vakuum-Beschichtungsmaschine, entwickelt für die präzise Beschichtung von Gläsern, Metallen und verschiedenen Substraten mit Dünnschichten.
Einführung in die Kerntechnologie
Die RF-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage nutzt die Magnetron-Sputtertechnologie mit einer RF-Stromversorgung (typischerweise 13,56 MHz). Das System ionisiert Inertgase wie Argon durch hochfrequente elektrische Felder, um Plasma zu erzeugen. Unter Einschränkungen durch ein Magnetfeld bombardiert das Plasma die Oberflächen des Targetmaterials, wodurch Atome oder Moleküle entweichen und sich gleichmäßig auf den Substratoberflächen ablagern, wodurch hochwertige Dünnschichten entstehen.
Hauptmerkmale
Breite Materialanpassungsfähigkeit - kann Leiter, Halbleiter und Isolatoren sputtern, ohne dass eine leitfähige Behandlung erforderlich ist
Schonender Beschichtungsprozess mit niedriger Substrattemperatur - minimiert Schäden an wärmeempfindlichen Substraten, einschließlich Kunststoffen und Polymeren
Präzise Schichtkontrolle - einstellbare Parameter wie Leistung, Druck und Zeit ermöglichen eine genaue Kontrolle über Schichtdicke, Zusammensetzung und Struktur
Kernvorteile
Überlegene Schichtqualität - hohe Dichte, geringe Fehlerraten und starke Haftung auf dem Substrat
Stabile Sputterraten und hohe Produktionseffizienz - geeignet für die industrielle Serienproduktion
Umweltfreundlicher Prozess - keine chemischen Reagenzien erforderlich, nur Inertgase, die grüne Produktionsstandards erfüllen
Typische Anwendungen
Elektronische Information: Herstellung von Elektroden- und Isolierschichten für Halbleiterchips, integrierte Schaltkreise und Display-Panels
Optische Anwendungen: Herstellung von Antireflexionsschichten, Reflexionsschichten und Filterschichten für Linsen, optische Instrumente und Photovoltaikmodule
Industriell & Dekorativ: Verschleißfeste, korrosionsbeständige und dekorative Schichten für Schneidwerkzeuge, Formen, Hardware-Komponenten und architektonisches Glas
Neue Energie: Lithium-Ionen-Batterie-Elektrodenschichten, Brennstoffzellen-Katalysatorschichten und Solarzellenbeschichtungen