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Máquina de revestimento de a vácuo da pulverização de magnetron
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Equipamento de revestimento de pulverização por magnétono de RF com sistema de alto vácuo Monitoramento de revestimento em tempo real e tamanho alvo personalizável para aplicações ópticas e decorativas
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Equipamento de revestimento de pulverização por magnétono de RF com sistema de alto vácuo Monitoramento de revestimento em tempo real e tamanho alvo personalizável para aplicações ópticas e decorativas
| Lugar de origem | Guangdong |
| Marca | Lion King |
| Certificação | CE |
Detalhes do produto
Fonte de alimentação de evaporação:
1 conjunto
Sistema de vácuo:
Alto Vácuo
Aplicativo:
Óptico, decorativo, funcional
Material de revestimento:
Metal, liga, cerâmica, etc.
Tamanho do alvo:
Personalizável
Velocidade de revestimento:
0,5-1,5m/min
Sistema de monitoramento de revestimento:
Em tempo real
Materiais de revestimento:
Metal, Cerâmica, Materiais Orgânicos
Tamanho da Câmara de Revestimento:
personalizado
Densidade do revestimento:
≥99,9%
Modo de Operação:
Tela sensível ao toque
Dureza do revestimento:
≥HV800
Material da Câmara:
Aço inoxidável
Modo de operação:
Automático/manual
Destacar:
Máquina de revestimento por pulverização catódica magnetrônica RF
,Equipamento de revestimento a vácuo PVD para vidros
,Máquina de sputtering magnetron para metais
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1
Tempo de entrega
45-60 dias de trabalho
Descrição do produto
Equipamento de revestimento por pulverização por magneto-RF
Máquina de revestimento a vácuo PVD profissional concebida para revestir vidros, metais e vários substratos com filmes finos de precisão.
Introdução à tecnologia básica
Os equipamentos de revestimento de pulverização por magnetrão de RF utilizam a tecnologia de pulverização por magnetrão com fonte de alimentação por RF (normalmente 13,56 MHz).O sistema ioniza gases inertes como o argônio através de campos elétricos de radiofrequência para gerar plasma.Sob as restrições do campo magnético, as bombas de plasma atingem as superfícies do material, fazendo com que átomos ou moléculas escapem e se depositem uniformemente nas superfícies do substrato, formando filmes finos de alta qualidade.
Principais características
- Ampla adaptabilidade do material - capaz de pulverizar condutores, semicondutores e isoladores sem exigir tratamento condutor
- Processo de revestimento suave com baixa temperatura do substrato - minimiza os danos aos substratos sensíveis ao calor, incluindo plásticos e polímeros
- Controle de filme preciso - parâmetros ajustáveis, incluindo potência, pressão e tempo, permitem um controle exato da espessura, composição e estrutura do filme
Principais vantagens
- Qualidade superior do filme - alta densidade, baixa taxa de defeitos e forte adesão do substrato
- Taxas de pulverização estáveis e elevada eficiência de produção - adequadas para a produção industrial em lotes
- Processo respeitador do ambiente - não são necessários reagentes químicos, utilizam-se apenas gases inertes, atendendo às normas de produção ecológica
Aplicações típicas
- Informações eletrónicas:Preparação de películas de eletrodos e películas isolantes para chips de semicondutores, circuitos integrados e painéis de exibição
- Aplicações ópticas:Fabricação de filmes anti-reflexo, filmes refletores e filtros para lentes, instrumentos ópticos e módulos fotovoltaicos
- Industrial e Decorativo:Películas resistentes ao desgaste, à corrosão e decorativas para ferramentas de corte, moldes, componentes de hardware e vidro arquitectónico
- Nova Energia:Películas de eletrodos de baterias de lítio, camadas de catalisadores de células de combustível e revestimentos de células solares
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Estrada Sul de Lantang, Área de Duanzhou, cidade de Zhaoqing, Guangdong 526060 China
