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Equipamento de revestimento de pulverização por magnétono de RF com sistema de alto vácuo Monitoramento de revestimento em tempo real e tamanho alvo personalizável para aplicações ópticas e decorativas
Equipamento de revestimento de pulverização por magnétono de RF com sistema de alto vácuo Monitoramento de revestimento em tempo real e tamanho alvo personalizável para aplicações ópticas e decorativas
Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong
Marca:Zhongda
Certificação:CE
Quantidade mínima de pedido:1
Prazo de entrega:45-60 dias de trabalho
Detalhes do produto
Destacar:
Máquina de revestimento por pulverização catódica magnetrônica RF
,Equipamento de revestimento a vácuo PVD para vidros
,Máquina de sputtering magnetron para metais
Evaporation Power Supply:
1 conjunto
Vacuum System:
Alto Vácuo
Application:
Óptico, decorativo, funcional
Coating Material:
Metal, liga, cerâmica, etc.
Target Size:
Personalizável
Coating Speed:
0,5-1,5m/min
Coating Monitoring System:
Em tempo real
Coating Materials:
Metal, Cerâmica, Materiais Orgânicos
Coating Chamber Size:
personalizado
Coating Density:
≥99,9%
Operation Way:
Tela sensível ao toque
Coating Hardness:
≥HV800
Chamber Material:
Aço inoxidável
Operation Mode:
Automático/manual
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Equipamento de revestimento por pulverização por magneto-RF
Máquina de revestimento a vácuo PVD profissional concebida para revestir vidros, metais e vários substratos com filmes finos de precisão.
Introdução à tecnologia básica
Os equipamentos de revestimento de pulverização por magnetrão de RF utilizam a tecnologia de pulverização por magnetrão com fonte de alimentação por RF (normalmente 13,56 MHz).O sistema ioniza gases inertes como o argônio através de campos elétricos de radiofrequência para gerar plasma.Sob as restrições do campo magnético, as bombas de plasma atingem as superfícies do material, fazendo com que átomos ou moléculas escapem e se depositem uniformemente nas superfícies do substrato, formando filmes finos de alta qualidade.
Principais características
- Ampla adaptabilidade do material - capaz de pulverizar condutores, semicondutores e isoladores sem exigir tratamento condutor
- Processo de revestimento suave com baixa temperatura do substrato - minimiza os danos aos substratos sensíveis ao calor, incluindo plásticos e polímeros
- Controle de filme preciso - parâmetros ajustáveis, incluindo potência, pressão e tempo, permitem um controle exato da espessura, composição e estrutura do filme
Principais vantagens
- Qualidade superior do filme - alta densidade, baixa taxa de defeitos e forte adesão do substrato
- Taxas de pulverização estáveis e elevada eficiência de produção - adequadas para a produção industrial em lotes
- Processo respeitador do ambiente - não são necessários reagentes químicos, utilizam-se apenas gases inertes, atendendo às normas de produção ecológica
Aplicações típicas
- Informações eletrónicas:Preparação de películas de eletrodos e películas isolantes para chips de semicondutores, circuitos integrados e painéis de exibição
- Aplicações ópticas:Fabricação de filmes anti-reflexo, filmes refletores e filtros para lentes, instrumentos ópticos e módulos fotovoltaicos
- Industrial e Decorativo:Películas resistentes ao desgaste, à corrosão e decorativas para ferramentas de corte, moldes, componentes de hardware e vidro arquitectónico
- Nova Energia:Películas de eletrodos de baterias de lítio, camadas de catalisadores de células de combustível e revestimentos de células solares
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