Qualidade Máquina de Revestimento por Pulverização Catódica de RF com Sistema de Alto Vácuo, Monitoramento de Revestimento em Tempo Real e Tamanho de Alvo Personalizável Fábrica

Máquina de Revestimento por Pulverização Catódica de RF com Sistema de Alto Vácuo, Monitoramento de Revestimento em Tempo Real e Tamanho de Alvo Personalizável

Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong

Marca:Zhongda

Certificação:CE

Quantidade mínima de pedido:1

Prazo de entrega:45-60 dias de trabalho

Tags:

Máquina de Revestimento por Pulverização Magnetron

sistema de revestimento a vácuo por pulverização catódica magnetrônica

revestidor a vácuo por pulverização catódica magnetrônica

Detalhes do produto

Destacar:

Sistema de alto vácuo Magnetron Sputtering Máquina de revestimento a vácuo

Equipamento de Revestimento por Pulverização Catódica de RF com Monitoramento de Revestimento em Tempo Real

Máquina de revestimento PVD de tamanho de alvo personalizável

Evaporation Power Supply: 1 CONJUNTO

Vacuum System: Alto vácuo

Application: Óptico, decorativo, funcional

Coating Material: Metal, liga, cerâmica, etc.

Target Size: Personalizável

Coating Speed: 0,5-1,5m/min

Coating Monitoring System: Em tempo real

Coating Materials: Metal, Cerâmica, Materiais Orgânicos

Coating Chamber Size: Personalizado

Coating Density: ≥99,9%

Operation Way: tela sensível ao toque

Coating Hardness: ≥HV800

Chamber Material: Aço inoxidável

Operation Mode: Automático/manual

Descrição do produto

Especificações e características pormenorizadas

Máquina de revestimento a vácuo com pulverização por magneto

Sistema de revestimento avançado que utiliza restrições do campo magnético para melhorar o bombardeio de plasma e garantir uniformidade superior do filme em vários materiais de substrato.

Visão geral da tecnologia

Os equipamentos de revestimento de pulverização por magnetrão de RF empregam tecnologia de pulverização por magnetrão com fonte de alimentação por RF (normalmente 13,56MHz).O sistema ioniza gases inertes como o argônio através de campos elétricos de radiofrequência para gerar plasma.Sob restrições do campo magnético, o plasma bombardeia a superfície do material alvo, fazendo com que átomos ou moléculas escapem e se depositem uniformemente nas superfícies do substrato.

Características fundamentais

Adaptabilidade excepcional do material - capaz de pulverizar condutores, semicondutores e isoladores sem exigir tratamento condutor
Processo de revestimento suave com baixa temperatura do substrato minimiza os danos aos substratos sensíveis ao calor, incluindo plásticos e polímeros
Controle preciso do filme através de parâmetros ajustáveis, incluindo potência, pressão e tempo para gerenciamento preciso da espessura, composição e estrutura

Vantagens de desempenho

Qualidade de filme superior com alta densidade, baixa taxa de defeitos e excelente adesão ao substrato
Taxas de pulverização estáveis e elevada eficiência de produção adequadas para o processamento industrial de lotes
Operação respeitosa do ambiente, utilizando apenas gases inertes sem reagentes químicos, de acordo com as normas de produção ecológica

Aplicações industriais

Eletrónica e Semicondutores

Equipamentos de construção civil, incluindo os aparelhos de construção civil

Sistemas ópticos

Filmes anti-reflexo, refletores e filtros para lentes, instrumentos ópticos e módulos fotovoltaicos

Industrial e Decorativo

Revestimentos resistentes ao desgaste, à corrosão e decorativos para ferramentas de corte, moldes, componentes de hardware e vidro arquitectónico

Novas tecnologias energéticas

Películas de eletrodos de baterias de lítio, camadas de catalisadores de células de combustível e revestimentos de células solares

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